[發明專利]一種激光直寫能量校正方法及裝置

有效

• 申請號: 202011036034.8
• 申請日: 2020-09-27
• 公開（公告）號: CN112286008B
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 陳國軍;吳景舟;馬迪
• 申請（專利權）人: 江蘇迪盛智能科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明實施例提供一種激光直寫能量校正方法及裝置，激光直寫能量校正方法包括：采用間隔采樣的方式獲取經微鏡陣列反射后激光光束在探測器上形成的圖像；間隔采樣的方式指的是，每次間隔采樣時，相鄰兩個處于正常工作狀態的微鏡之間間隔至少一個不工作的微鏡；根據所述圖像獲取所述微鏡陣列中至少部分區域中微鏡的亮度值；根據所述至少部分區域中微鏡的亮度值獲取掃描方向上每一列所述微鏡的亮度積分值；根據每一列所述微鏡的亮度積分值對所述微鏡陣列進行能量校正。本發明實施例提供一種激光直寫能量校正方法及裝置，采樣間隔采樣的方式避免了交疊的現象，提高了采樣的精確度，提高激光直寫能量校正的精確度，從而解決亮度均勻性問題。

技術領域

本發明涉及激光直寫技術，尤其涉及一種激光直寫能量校正方法及裝置。

背景技術

激光直寫成像設備又稱影像直接轉移設備，是半導體及印制電路板(PCB)生產領域中有別于傳統半自動曝光設備的一個重要設備。利用圖形發生器取代傳統成像設備的掩模板，從而可以直接將計算機的圖形數據曝光到晶圓或PCB板上，節省制板時間和制作掩模板的費用，并且自身可用做掩模板的制作。且前多數廠家的設備都使用空間光調制器(SLM)作為圖形發生器SLM包括數字微鏡器件(DMD)和液晶顯示器(LCD)，SLM包括一個可獨立尋址和控制的像素陣列，每個像素可以對透射、反射或衍射的光線進行包括相位，灰度方向或開關狀態的調制。

激光直寫成像設備通過DMD反射成像，對投射到DMD上激光亮度均勻性有極大的要求。

目前普遍采用的激光直寫能量檢測方式如下:

1.在DMD上成像一張全白的圖形；2.在DMD上均勻選取幾個亮度采樣點(數量及位置根據實際情況設定)，3.在采樣點下方放置照度計對采樣點的亮度進行采集，4.統計采樣點的亮度。5.亮度均勻性為亮度最小值與亮度最大值的比值，在亮度測量上非采樣點的數據不能納入評估范圍，亮度的均勻性取決于光學元件的加工精度及光學勻光器件的設計精度，不能即時有效解決亮度均勻性問題。

發明內容

本發明實施例提供一種激光直寫能量校正方法及裝置，采樣間隔采樣的方式避免了交疊的現象，提高了采樣的精確度，提高激光直寫能量校正的精確度，從而解決亮度均勻性問題。

第一方面，本發明實施例提供一種激光直寫能量校正方法，包括：

采用間隔采樣的方式獲取經微鏡陣列反射后激光光束在探測器上形成的圖像；間隔采樣的方式指的是，每次間隔采樣時，相鄰兩個處于正常工作狀態的微鏡之間間隔至少一個不工作的微鏡；

根據所述圖像獲取所述微鏡陣列中至少部分區域中微鏡的亮度值；

根據所述至少部分區域中微鏡的亮度值獲取掃描方向上每一列所述微鏡的亮度積分值；

根據每一列所述微鏡的亮度積分值對所述微鏡陣列進行能量校正。

可選地，在采用間隔采樣的方式獲取經微鏡陣列反射后激光光束在探測器上形成的圖像之前，還包括：

控制所述探測器的曝光時間小于預設曝光時間。

可選地，采用間隔采樣的方式獲取經微鏡陣列反射后激光光束在探測器上形成的圖像，根據所述圖像獲取所述微鏡陣列中至少部分區域中微鏡的亮度值，包括：

采用間隔采樣的方式獲取激光光束在探測器上形成的采樣圖像；

根據所述采樣圖像獲取所述采樣圖像對應微鏡的亮度值；

將多次間隔采樣后所述采樣圖像對應微鏡的亮度值拼接為所述微鏡陣列中至少部分區域中微鏡的亮度值。

可選地，采用間隔采樣的方式獲取經微鏡陣列反射后激光光束在探測器上形成的圖像，根據所述圖像獲取所述微鏡陣列中至少部分區域中微鏡的亮度值，包括：