[發明專利]一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備在審
| 申請號: | 202011033587.8 | 申請日: | 2020-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN112140729A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發明(設計)人: | 周中友 | 申請(專利權)人: | 廣州市美色噴畫設計有限公司 |
| 主分類號: | B41J2/01 | 分類號: | B41J2/01;B41J2/185 |
| 代理公司: | 北京高航知識產權代理有限公司 11530 | 代理人: | 王龐 |
| 地址: | 510403 廣東省廣州市白*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 利用 安培 定理 實現 負壓回吸 噴繪 設備 | ||
本發明涉及噴繪技術領域,且公開了一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,包括設備主體,所述設備主體的內部設置有支撐架,所述設備主體的內部設置有出墨通道,所述出墨通道的外側固定連接有出墨噴頭,所述設備主體的內部設置有電流變向器,所述電流變向器的外側固定連接有緩沖彈簧以及滑槽,所述滑槽的外側活動安裝有可變電磁鐵,所述可變電磁鐵的外側活動連接有拉力彈簧,所述拉力彈簧遠離可變電磁鐵的一端固定連接有永磁鐵。該利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,通過控制可變電磁鐵的電磁性,從而實現了帶動永磁鐵在儲墨囊中的往復運動,使用磁鐵工作,避免了傳統機械結構回吸液體,噪音過大且結構復雜的問題。
技術領域
本發明涉及噴繪技術領域,具體為一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備。
背景技術
現有技術中使用的寬幅面噴繪機的接墨盤主要由以下構件組成,從打印小車的噴頭中壓出墨水或清潔水等液體時,液體將沿著垂直方向進入接墨盤,沿著接墨盤的底面流到排墨孔,經排墨管排出,目前使用的接墨盤存在如下缺陷:從打印小車的噴頭中壓墨水或清潔水時,由于液體顆粒非常小,部分將被周圍的空氣攜帶形成霧狀顆粒。霧狀顆粒隨著空氣的流動擴散到周圍,對周圍環境、人員和動植物造成污染和危害。因此,我們提出了一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備。
發明內容
技術方案
為實現上述優點,本發明提供如下技術方案:一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,包括設備主體,所述設備主體的內部設置有支撐架,所述設備主體的內部設置有出墨通道,所述出墨通道的外側固定連接有出墨噴頭,所述設備主體的內部設置有電流變向器,所述電流變向器的外側固定連接有緩沖彈簧以及滑槽,所述滑槽的外側活動安裝有可變電磁鐵,所述可變電磁鐵的外側活動連接有拉力彈簧,所述拉力彈簧遠離可變電磁鐵的一端固定連接有永磁鐵,所述永磁鐵的外側固定安裝有儲墨囊,所述儲墨囊的內部活動連接有活動軸心。
優選的,所述活動軸心的外側固定連接有回吸囊。
優選的,所述回吸囊的內部設置有磁力珠。
優選的,所述回吸囊的內部設置有氣囊。
優選的,所述回吸囊的內部設置有回吸管道。
優選的,所述回吸管道的外側固定連接有氣流回吸結構,對墨霧進行吸附。
優選的,所述設備主體的底部設置有底部支架。
優選的,所述底部支架的內部設置有回吸風扇,可以將未被氣流回吸結構吸附的殘留墨霧進行二次吸附,避免墨霧殘留。
有益效果
與現有技術相比,本發明提供了一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,具備以下有益效果:
1、該利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,通過在出墨噴頭的外側設置有兩組氣流回吸結構,產生回吸風,借由回吸風將霧化狀灑向周圍空氣中的墨汁進行回吸,避免對用戶造成身體損傷。
2、該利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,通過控制可變電磁鐵的電磁性,從而實現了帶動永磁鐵在儲墨囊中的往復運動,基于負壓原理,永磁鐵繼而將回吸囊中的墨汁吸附到儲墨囊中,實現了墨汁的回吸儲存,繼而進行二次使用。
3、該利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,通過控制可變電磁鐵的電磁性,從而實現了帶動永磁鐵在儲墨囊中的往復運動,使用磁鐵工作,避免了傳統機械結構回吸液體,噪音過大且結構復雜的問題。
4、該利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備,通過在設備主體的底部設置有回吸風扇,可以將未被氣流回吸結構吸附的殘留墨霧進行二次吸附,避免墨霧殘留。
附圖說明
圖1為本發明設備主體連接結構示意圖;
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