[發明專利]一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備在審
| 申請號： | 202011033587.8 | 申請日： | 2020-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN112140729A | 公開（公告）日： | 2020-12-29 |
| 發明（設計）人： | 周中友 | 申請（專利權）人： | 廣州市美色噴畫設計有限公司 |
| 主分類號： | B41J2/01 | 分類號： | B41J2/01;B41J2/185 |
| 代理公司： | 北京高航知識產權代理有限公司 11530 | 代理人： | 王龐 |
| 地址： | 510403 廣東省廣州市白*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 安培 定理 實現 負壓回吸 噴繪 設備 | ||
1.一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，包括設備主體(1)，其特征在于：所述設備主體(1)的內部設置有支撐架(2)，所述設備主體(1)的內部設置有出墨通道(3)，所述出墨通道(3)的外側固定連接有出墨噴頭(4)，所述設備主體(1)的內部設置有電流變向器(5)，所述電流變向器(5)的外側固定連接有緩沖彈簧(6)以及滑槽(7)，所述滑槽(7)的外側活動安裝有可變電磁鐵(8)，所述可變電磁鐵(8)的外側活動連接有拉力彈簧(9)，所述拉力彈簧(9)遠離可變電磁鐵(8)的一端固定連接有永磁鐵(10)，所述永磁鐵(10)的外側固定安裝有儲墨囊(11)，所述儲墨囊(11)的內部活動連接有活動軸心(12)。
2.根據權利要求1所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述活動軸心(12)的外側固定連接有回吸囊(13)。
3.根據權利要求2所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述回吸囊(13)的內部設置有磁力珠(14)。
4.根據權利要求2所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述回吸囊(13)的內部設置有氣囊(15)。
5.根據權利要求2所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述回吸囊(13)的內部設置有回吸管道(16)。
6.根據權利要求5所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述回吸管道(16)的外側固定連接有氣流回吸結構(17)。
7.根據權利要求1所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述設備主體(1)的底部設置有底部支架(18)。
8.根據權利要求7所述的一種利用安培定理實現負壓回吸的噴繪設備，其特征在于：所述底部支架(18)的內部設置有回吸風扇(19)。
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