[發(fā)明專利]濺射系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011030503.5
• 申請日: 2020-09-27
• 公開（公告）號: CN112921281A
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸瑨哲;李昱鎮(zhèn);金泰佑
• 申請（專利權(quán)）人: 亞威科股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56
• 代理公司: 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

1.一種濺射系統(tǒng)，其特征在于，包括：

基板傳送部，用于供給待進(jìn)行濺射工藝的基板以及排出已完成濺射工藝的基板；

安裝部，與所述基板傳送部連接，用于將所述基板傳送部供給的基板安裝于承載器，以及從承載器分離所述已完成濺射工藝的基板；

濺射部，與所述安裝部連接，對安裝于所述承載器的基板進(jìn)行所述濺射工藝；

水汽壓管理部，與所述安裝部連接，用于調(diào)節(jié)安裝有所述基板的承載器的水汽壓；以及

轉(zhuǎn)換部，分別與所述水汽壓管理部和所述濺射部連接，當(dāng)經(jīng)過所述水汽壓管理部的安裝有所述基板的承載器的水汽壓處于預(yù)設(shè)的基準(zhǔn)水汽壓范圍以內(nèi)時(shí)，將安裝有所述基板的承載器供給到所述濺射部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述基板傳送部包括：

基板裝載模塊，用于投入所述待進(jìn)行濺射工藝的基板；

基板卸載模塊，用于排出所述已完成濺射工藝的基板；以及

基板傳送模塊，將所述待進(jìn)行濺射工藝的基板從所述基板裝載模塊傳送到所述安裝部，并將所述已完成濺射工藝的基板從所述安裝部傳送到所述基板卸載模塊，

所述安裝部包括安裝模塊，所述安裝模塊與所述基板傳送模塊連接，

所述基板裝載模塊和所述基板卸載模塊的各自內(nèi)部在大氣狀態(tài)與真空狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換，

所述基板傳送模塊和所述安裝模塊的各自內(nèi)部持續(xù)保持真空狀態(tài)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述水汽壓管理部包括：

裝載腔室，與所述安裝部連接；

多個(gè)管理腔室，用于調(diào)節(jié)由所述裝載腔室供給的安裝有所述基板的承載器的水汽壓；

裝載測量機(jī)構(gòu)，測量所述裝載腔室接收的安裝有所述基板的承載器的水汽壓；以及

管理控制機(jī)構(gòu)，根據(jù)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓來控制各個(gè)所述管理腔室調(diào)節(jié)水汽壓的調(diào)節(jié)量。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述管理控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓來控制各個(gè)所述管理腔室，以調(diào)節(jié)各個(gè)所述管理腔室排出內(nèi)部氣體的排氣流量和提高內(nèi)部溫度的加熱溫度中的至少一個(gè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述管理控制機(jī)構(gòu)包括：

管理設(shè)置模塊，當(dāng)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓高于所述基準(zhǔn)水汽壓范圍的最大值時(shí)，根據(jù)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓來設(shè)置各個(gè)所述管理腔室排出內(nèi)部氣體的排氣流量和提高內(nèi)部溫度的加熱溫度中的至少一個(gè)，以使安裝有所述基板的承載器在經(jīng)過多個(gè)所述管理腔室時(shí)水汽壓依次減小；以及

管理控制模塊，根據(jù)由所述管理設(shè)置模塊設(shè)置的設(shè)定值來控制多個(gè)所述管理腔室。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述水汽壓管理部包括多個(gè)管理測量機(jī)構(gòu)，多個(gè)所述管理測量機(jī)構(gòu)用于測量各個(gè)所述管理腔室接收的安裝有所述基板的承載器的水汽壓，

所述管理控制機(jī)構(gòu)包括：

管理設(shè)置模塊，當(dāng)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓高于所述基準(zhǔn)水汽壓范圍的最大值時(shí)，根據(jù)所述裝載測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓，對各個(gè)所述管理腔室設(shè)置目標(biāo)減小值，以使安裝有所述基板的承載器在經(jīng)過多個(gè)所述管理腔室時(shí)水汽壓依次減小；

管理補(bǔ)正模塊，當(dāng)由前一個(gè)管理腔室供給的安裝有所述基板的承載器的水汽壓與對所述前一個(gè)管理腔室設(shè)置的目標(biāo)減小值不同時(shí)，對以所述前一個(gè)管理腔室為基準(zhǔn)時(shí)的后一個(gè)管理腔室的目標(biāo)減小值進(jìn)行補(bǔ)正；以及

管理控制模塊，根據(jù)對各個(gè)所述管理腔室設(shè)置的目標(biāo)減小值來控制多個(gè)所述管理腔室。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射系統(tǒng)，其特征在于，

所述轉(zhuǎn)換部包括：

轉(zhuǎn)換腔室，與所述水汽壓管理部連接；

轉(zhuǎn)換測量機(jī)構(gòu)，測量從所述水汽壓管理部供給到所述轉(zhuǎn)換腔室的安裝有所述基板的承載器的水汽壓；

轉(zhuǎn)換判斷機(jī)構(gòu)，判斷所述轉(zhuǎn)換測量機(jī)構(gòu)所測量的水汽壓是否處于所述基準(zhǔn)水汽壓范圍以內(nèi)。