[發(fā)明專利]掩模臺垂向測量工裝及掩模臺垂向測量方法

在審

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• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN114252042A
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孟昆鵬;薛雷;程凱;李高波
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G01B21/16
• 分類號: G01B21/16;G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發(fā)明公開了一種掩模臺垂向測量工裝及掩模臺垂向測量方法，該掩模臺垂向測量工裝包括：支撐座、測試支座、兩個傳感器支架和多個傳感器，測試支座設(shè)置在支撐座上，兩個傳感器支架分別設(shè)置在測試支座兩側(cè)，且兩個傳感器支架均與測試支座連接，多個傳感器分別設(shè)置在對應(yīng)的傳感器支架上。上述的掩模臺垂向測量工裝能夠提高掩模臺的垂向測量效率、提高光刻機產(chǎn)率、節(jié)約光刻機使用成本。相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種掩模臺垂向測量方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模臺垂向測量工裝及掩模臺垂向測量方法。

背景技術(shù)

一般地，為保證光刻機的曝光成像質(zhì)量，需要保證掩模臺承版面與物鏡頂面之間的垂向距離等于物鏡的物距，掩模臺的垂向測量精度是保證光刻機曝光成像質(zhì)量的重要前提。

現(xiàn)有技術(shù)中，普遍采用垂向測量塊和千分表測量掩模臺承版面與物鏡頂面之間的垂向距離，垂向測量塊的高度等于物鏡的物距。測量時，將垂向測量塊通過掩模臺的鏤空處放置于物鏡頂面，之后使用大理石表座、千分表及標桿放置于垂向測量塊頂面，分別對掩模臺承版面上的4個測量點進行測量，如果4個測量點與垂向測量塊的上表面不在同一平面上，則計算出誤差并根據(jù)計算得到的誤差調(diào)整掩模臺墊塊，調(diào)整后再分別對4個測量點進行測量，直至4個測量點與垂向測量塊的上表面都在同一平面上，完成掩模臺的垂向測量及調(diào)整操作。采用該種方式測量掩模臺承版面與物鏡頂面之間的垂向距離需要分別對4個測量點單獨進行測量，測量操作復(fù)雜，測量效率低，影響光刻機產(chǎn)率。另外，為了確保測量精度，對垂向測量塊的加工精度要求非常高，需要使用磨床根據(jù)物鏡物距修模垂向測量塊，并使用三坐標標定垂向高度與平行度，經(jīng)過反復(fù)修模標定才能夠達到加工精度要求，垂向測量塊的加工勞動強度大、加工效率低，嚴重影響掩模臺的垂向測量效率，進而影響光刻機產(chǎn)率。并且，每個垂向測量塊只能適用于一臺光刻機，不同機型的光刻機之間垂向測量塊無法通用，生產(chǎn)過程中，需要根據(jù)每臺光刻機的物鏡物距加工多個垂向測量塊，需要耗費大量的時間成本和人力成本，一定程度上影響光刻機的使用成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提出一種掩模臺垂向測量工裝及掩模臺垂向測量方法，能夠提高掩模臺的垂向測量效率、提高光刻機產(chǎn)率、節(jié)約光刻機使用成本。

為達此目的，一方面，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種掩模臺垂向測量工裝，包括：支撐座、測試支座、兩個傳感器支架和多個傳感器，所述測試支座設(shè)置在所述支撐座上，兩個所述傳感器支架分別設(shè)置在所述測試支座兩側(cè)，且兩個傳感器支架均與所述測試支座連接，多個所述傳感器分別設(shè)置在對應(yīng)的所述傳感器支架上。

在其中一個實施例中，所述測試支座包括支座本體和支撐桿，所述支座本體與所述支撐座連接，所述支撐桿與所述支座本體連接，所述傳感器支架與所述支撐桿滑動連接。

在其中一個實施例中，所述掩模臺垂向測量工裝還包括：頂緊旋鈕，所述頂緊旋鈕部分穿過所述傳感器支架與所述支撐桿抵接。

在其中一個實施例中，所述掩模臺垂向測量工裝還包括：把手，所述把手與所述支座本體連接。

在其中一個實施例中，所述傳感器支架上設(shè)置有位置調(diào)節(jié)部，所述傳感器通過所述位置調(diào)節(jié)部與所述傳感器支架連接。

在其中一個實施例中，

所述掩模臺垂向測量工裝還包括：緊固件，所述位置調(diào)節(jié)部為開設(shè)在所述傳感器支架上的條形孔，所述傳感器通過所述緊固件和所述條形孔的配合與所述傳感器支架連接；或，

所述位置調(diào)節(jié)部包括滑軌、滑塊和頂緊件，所述滑軌與所述傳感器支架連接，所述滑塊與所述滑軌滑動連接，所述傳感器與所述滑塊連接，所述頂緊件分別穿過所述傳感器和所述滑塊后與所述傳感器支架抵接。

在其中一個實施例中，所述支撐座與所述測試支座可拆卸連接。

在其中一個實施例中，所述支撐座的高度大于或等于光刻機的物鏡物距。