[發明專利]掩模臺垂向測量工裝及掩模臺垂向測量方法

在審

• 申請號: 202011025761.4
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN114252042A
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 孟昆鵬;薛雷;程凱;李高波
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G01B21/16
• 分類號: G01B21/16;G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，包括：支撐座(10)、測試支座(20)、兩個傳感器支架(30)和多個傳感器(40)，所述測試支座(20)設置在所述支撐座(10)上，兩個所述傳感器支架(30)分別設置在所述測試支座(20)兩側，且兩個傳感器支架(30)均與所述測試支座(20)連接，多個所述傳感器(40)分別設置在對應的所述傳感器支架(30)上。

2.根據權利要求1所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述測試支座(20)包括支座本體(21)和支撐桿(22)，所述支座本體(21)與所述支撐座(10)連接，所述支撐桿(22)與所述支座本體(21)連接，所述傳感器支架(30)與所述支撐桿(22)滑動連接。

3.根據權利要求2所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述掩模臺垂向測量工裝還包括：頂緊旋鈕(80)，所述頂緊旋鈕(80)部分穿過所述傳感器支架(30)與所述支撐桿(22)抵接。

4.根據權利要求2所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述掩模臺垂向測量工裝還包括：把手(90)，所述把手(90)與所述支座本體(21)連接。

5.根據權利要求1所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述傳感器支架(30)上設置有位置調節部，所述傳感器(40)通過所述位置調節部與所述傳感器支架(30)連接。

6.根據權利要求5所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，

所述掩模臺垂向測量工裝還包括：緊固件，所述位置調節部為開設在所述傳感器支架(30)上的條形孔，所述傳感器(40)通過所述緊固件和所述條形孔的配合與所述傳感器支架(30)連接；或，

所述位置調節部包括：滑軌、滑塊和頂緊件，所述滑軌與所述傳感器支架(30)連接，所述滑塊與所述滑軌滑動連接，所述傳感器(40)與所述滑塊連接，所述頂緊件分別穿過所述傳感器(40)和所述滑塊后與所述傳感器支架(30)抵接。

7.根據權利要求1所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述支撐座(10)與所述測試支座(20)可拆卸連接。

8.根據權利要求1所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，所述支撐座(10)的高度大于或等于光刻機的物鏡物距。

9.根據權利要求1至8任一項所述的掩模臺垂向測量工裝，其特征在于，多個所述傳感器(40)均具有可變量程。

10.一種基于掩模臺垂向測量工裝的掩模臺垂向測量方法，其特征在于，包括以下步驟：

將掩模臺垂向測量工裝的支撐座(10)通過掩模臺承版臺(50)的鏤空處放置于物鏡(60)的頂面上，并定位各個傳感器(40)的觸點位置；

取出工裝，使用校準塊(70)同步標定各個傳感器(40)的初始測量值，使各個傳感器(40)的初始測量值相同；

將支撐座(10)再次放到物鏡(60)的頂面上，同時啟動各個傳感器(40)對掩模臺承版面上的多個測量點進行測量，分別得到每個測量點處掩模臺承版面與物鏡(60)的頂面之間的垂向距離；

將每個測量點處掩模臺承版面與物鏡(60)的頂面之間的垂向距離與物鏡物距進行比較，得到測量結果。

11.根據權利要求10所述的掩模臺垂向測量方法，其特征在于，所述定位各個傳感器的觸點位置的步驟包括：根據所述物鏡物距調節各個所述傳感器(40)的觸點位置。