[發(fā)明專利]確定晶片掰片位置的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011025214.6 | 申請日: | 2020-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN112103233B | 公開(公告)日: | 2023-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳春龍;馬金峰;唐勇 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東先導(dǎo)微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L23/544 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 張向琨 |
| 地址: | 511517 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 確定 晶片 位置 方法 | ||
本公開提供了一種確定晶片掰片位置的方法,包括以下步驟:S1,設(shè)置第一晶片和模板,并在第一晶片上設(shè)置定位邊,在模板上分別設(shè)置定位邊和定位孔;S2,設(shè)置標(biāo)示圖;S3,將第一晶片放在標(biāo)示圖上,并在標(biāo)示圖做出用于后續(xù)待掰制晶片定位的定位標(biāo)記;S4,將待掰制晶片待放在標(biāo)示圖上,利用步驟S3中的定位標(biāo)記對待掰制晶片進(jìn)行定位,并在待掰制晶片標(biāo)示定位點(diǎn);S5,將模板放在待掰制晶片上,使待掰制晶片的定位點(diǎn)與模板的定位孔重合,進(jìn)而得到晶片掰片位置。本公開確定晶片掰片位置的方法的操作簡單,且能精確地確定每片晶片的掰片位置,提高晶片產(chǎn)品質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及半導(dǎo)體襯底制造領(lǐng)域,尤其涉及一種確定晶片掰片位置的方法。
背景技術(shù)
砷化鎵作為一種重要的III-V族直接帶隙化合物半導(dǎo)體材料,因其電子遷移率高、禁帶寬度大、消耗功率低等特性在微電子和光電子器件領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。砷化鎵在微波器件、發(fā)光器件方面展現(xiàn)出了巨大的發(fā)展?jié)摿Γ貏e是目前紅光LED和LD器件領(lǐng)域,砷化鎵仍為主流襯底材料。
在加工過程中,因?yàn)楦鞣N原因(例如客戶對定位邊的特殊要求;有缺陷大尺寸晶片/晶體改制加工小尺寸晶片……)需要使用掰片方法改制晶片,有些情況需要根據(jù)晶片缺陷確定合格區(qū)域,在這種狀況下,需要利用晶棒頭尾片確定晶片合格區(qū)域,并在其他晶片標(biāo)示出來。如果要保證每片晶片合格,需要精確地確定每片晶片的掰片位置。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于晶片加工過程的需要,本公開的一目的在于提供一種確定晶片掰片位置的方法,其能精確地確定每片晶片的掰片位置。
在一些實(shí)施例中,本公開提供了一種確定晶片掰片位置的方法,包括以下步驟:S1:設(shè)置第一晶片和模板,在第一晶片上設(shè)置定位邊,在模板上設(shè)置定位邊和定位孔,利用模板在第一晶片上標(biāo)記出掰片區(qū)域和掰制中心;S2:設(shè)置標(biāo)示圖,標(biāo)示圖的長度和寬度大于待掰制晶片的直徑,標(biāo)示圖中的最小刻度為1mm;S3:將第一晶片放在標(biāo)示F上,并利用第一晶片上的定位邊對第一晶片進(jìn)行定位,利用掰制中心在標(biāo)示圖做出用于后續(xù)待掰制晶片定位的定位標(biāo)記,并將第一晶片從標(biāo)示圖上取下;S4:將待掰制晶片待放在標(biāo)示圖上,利用步驟S3中的定位標(biāo)記對待掰制晶片進(jìn)行定位,并在待掰制晶片上標(biāo)示定位點(diǎn);S5:將模板放在待掰制晶片上,并通過模板上的定位邊進(jìn)行定位,同時使待掰制晶片的定位點(diǎn)與模板的定位孔重合,沿著模板的邊緣在待掰制晶片標(biāo)記出待掰片區(qū)域,得到晶片掰片位置。
在一些實(shí)施例中,第一晶片與待掰制晶片的尺寸相同,第一晶片的掰片區(qū)域與待掰片區(qū)域尺寸相同,模板與待掰片區(qū)域尺寸相同。
在一些實(shí)施例中,在步驟S1中,第一晶片上有第一定位邊和第二定位邊,模板上有第三定位邊和第四定位邊;在模板的中心挖圓孔作為定位孔。
在一些實(shí)施例中,在步驟S3中,第一定位邊與標(biāo)示圖的第一坐標(biāo)軸重合,第二定位邊與第二坐標(biāo)軸重合,完成第一晶片的定位。
在一些實(shí)施例中,在步驟S3中,穿過掰制中心畫一條與第一坐標(biāo)軸平行的第一平行線;穿過掰制中心畫一條與第二坐標(biāo)軸平行的第二平行線;第一平行線延伸到標(biāo)示圖上得到第一延長線和第二延長線;第二平行線延伸到標(biāo)示圖上得到第三延長線和第四延長線。
在一些實(shí)施例中,在步驟S4中,待掰制晶片的第五定位邊與第一坐標(biāo)軸重合,待掰制晶片的第六定位邊與第二坐標(biāo)軸重合,將第一延長線和第二延長線連接為一條線段,同時將第三延長線和第四延長線連接為一條線段,兩條線段的交點(diǎn)即為待掰制晶片標(biāo)示定位點(diǎn)。
在一些實(shí)施例中,在步驟S5中,模板的第三定位邊與第一坐標(biāo)軸平行,并將模板的圓孔與定位點(diǎn)重合,用筆沿著模板的邊緣在待掰制晶片標(biāo)記出待掰片區(qū)域。
在一些實(shí)施例中,模板上的定位孔為直徑1-3mm的圓孔。
在一些實(shí)施例中,標(biāo)示圖的長度和寬度比待掰制晶片的直徑至少大10mm
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





