[發(fā)明專利]一種發(fā)光面板、顯示裝置和發(fā)光面板的制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011024920.9 | 申請日: | 2020-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN112133843A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梅文海;張宜馳 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/54;H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 張佳 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)光 面板 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種發(fā)光面板,其特征在于,包括:襯底基板,位于所述襯底基板一側(cè)的至少兩層電極層,位于兩層所述電極層之間的發(fā)光層;
至少一層所述電極層在面向所述發(fā)光層的一側(cè)具有界面修飾層,所述界面修飾層包括:稠環(huán)結(jié)構(gòu),連接于所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)背離所述發(fā)光層一側(cè)的第一帶電基團(tuán),連接于所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)面向所述發(fā)光層一側(cè)的第二帶電基團(tuán),所述第一帶電基團(tuán)和所述第二帶電基團(tuán)的帶電性不同,以使所述界面修飾層具有偶極矩,以調(diào)節(jié)與所述界面修飾層接觸的所述電極層的功函數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述電極層包括陰極層,所述陰極層在面向所述發(fā)光層的一側(cè)具有所述界面修飾層,所述界面修飾層與所述發(fā)光層之間設(shè)置有電子傳輸層;
所述陰極層的功函數(shù)高于所述電子傳輸層的LUMO能級,且所述陰極層的功函數(shù)與所述電子傳輸層的LUMO能級之差的絕對值大于第一閾值時,所述界面修飾層被配置為降低所述陰極層的功函數(shù),所述第一帶電基團(tuán)為帶負(fù)電的基團(tuán),所述第二帶電基團(tuán)為帶正電的基團(tuán);
或者,所述陰極層的功函數(shù)低于所述電子傳輸層LUMO能級,且所述陰極層的功函數(shù)與所述電子傳輸層的LUMO能級之差的絕對值大于第二閾值時,所述界面修飾層被配置為提高所述陰極層的功函數(shù),所述第一帶電基團(tuán)為帶正電的基團(tuán),所述第二帶電基團(tuán)為帶負(fù)電的基團(tuán)。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述電極層包括陽極層,所述陽極層在面向所述發(fā)光層的一側(cè)具有所述界面修飾層,所述界面修飾層與所述發(fā)光層之間設(shè)置有空穴注入層;
所述陽極層的功函數(shù)高于所述空穴注入層的HOMO能級,且所述陽極層的功函數(shù)與所述空穴注入層的HOMO能級之差的絕對值大于第三閾值時,所述界面修飾層被配置為降低所述陽極層的功函數(shù),所述第一帶電基團(tuán)為帶負(fù)電的基團(tuán),所述第二帶電基團(tuán)為帶正電的基團(tuán);
或者,所述陽極層的功函數(shù)低于所述空穴注入層的HOMO能級,且陽極層的功函數(shù)與空穴注入層的HOMO能級之差的絕對值大于第四閾值時,所述界面修飾層被配置為提高所述陽極層的功函數(shù),所述第一帶電基團(tuán)為帶正電的基團(tuán),所述第二帶電基團(tuán)為帶負(fù)電的基團(tuán)。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)具有第一對稱軸和第二對稱軸,其中,所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)在沿所述第一對稱軸方向的長度小于所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)沿所述第二對稱軸方向的長度;所述第一帶電基團(tuán)、所述第二帶電基團(tuán)分別位于所述第一對稱軸的不同側(cè);
或者,所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)僅具有第三對稱軸;所述第一帶電基團(tuán)、所述第二帶電基團(tuán)分別位于所述第三對稱軸的不同側(cè)。
5.如權(quán)利要求2或3所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述電子傳輸層的材質(zhì)為金屬氧化物,所述第二帶電基團(tuán)為親水性基團(tuán);或者,所述空穴注入層的材質(zhì)為金屬氧化物,所述第二帶電基團(tuán)為親水性基團(tuán)。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,與所述界面修飾層接觸的所述電極層的材質(zhì)為導(dǎo)電氧化物薄膜;所述第一帶電基團(tuán)為親水性基團(tuán)。
7.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述第一帶電基團(tuán)包括酚羥基或羧基與堿性基團(tuán)反應(yīng)后的基團(tuán)。
8.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述第二帶電基團(tuán)包括氨基與酸性基團(tuán)反應(yīng)后的基團(tuán)。
9.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述第二帶電基團(tuán)還包括:連接所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)與所述第二帶電基團(tuán)的碳原子,以及連接于氮原子的R基團(tuán);
所述R基團(tuán)為以下之一或組合:
氫原子;
甲基;
烷基。
10.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)為包括單個苯環(huán)或者多個苯環(huán)的稠環(huán)芳烴。
11.如權(quán)利要求10所述的發(fā)光面板,其特征在于,所述稠環(huán)結(jié)構(gòu)為以下之一:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
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