[發明專利]涂敷、顯影裝置和涂敷、顯影方法

有效

• 申請號: 202011023249.6
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN112596339B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 渡邊剛史;土山正志;佐藤寬起;濱田一平
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/20;G03F7/38;H01L21/677
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種涂敷、顯影裝置，其用于在基板形成抗蝕劑膜，向曝光裝置輸送該基板，之后，對由該曝光裝置進行液浸曝光后的基板進行顯影處理，其中，

該涂敷、顯影裝置具備：

處理模塊，其設置有包括曝光前處理組件的處理組件，該曝光前處理組件在包括抗蝕劑膜的涂敷膜形成后且液浸曝光前對基板進行液處理；和

中繼模塊，其設置有：曝光后處理組件，其在液浸曝光后且顯影處理前對基板進行液處理；和第1送入送出組件，其相對于所述曝光裝置送入送出基板，并且，該中繼模塊在寬度方向上連結所述處理模塊和所述曝光裝置，

對于所述處理模塊，

在上下方向上多層化，在各層設置有所述處理組件，

在沿著所述寬度方向延伸的輸送區域設置有輸送基板的輸送機構，

在設置有所述曝光前處理組件的層的所述中繼模塊側端，設置有在將基板在兩模塊之間交接之際載置該基板的交接部，

對于所述中繼模塊，

在沿著所述寬度方向與所述處理模塊的所述交接部相鄰的區域，設置有相對于所述交接部和所述曝光后處理組件送入送出基板的第2送入送出組件，

在從在俯視時與所述第2送入送出組件重疊的區域起沿著與所述寬度方向正交的深度方向延伸的中繼側輸送區域，設置有所述第1送入送出組件，

在沿著上下方向與所述中繼側輸送區域相鄰且沿著所述深度方向與所述第2送入送出組件相鄰的區域，設置有所述曝光后處理組件，

在所述深度方向上，在將所述第2送入送出組件夾在中間地與所述曝光后處理組件相對的區域，設置有使基板在所述第1送入送出組件與所述第2送入送出組件之間中繼的中繼機構。

2.根據權利要求1所述的涂敷、顯影裝置，其中，

所述處理模塊的所述輸送區域、所述交接部以及所述中繼模塊的所述第2送入送出組件沿著所述寬度方向排列。

3.根據權利要求1所述的涂敷、顯影裝置，其中，

設置有所述曝光前處理組件的層層疊起來，

針對所述曝光前處理組件的所述輸送機構在層間通用。

4.根據權利要求3所述的涂敷、顯影裝置，其中，

所述交接部僅針對1個層設置。

5.根據權利要求1所述的涂敷、顯影裝置，其中，

在所述處理模塊中，

用于形成所述涂敷膜的涂敷膜形成組件在從側方包圍要形成涂敷膜的所述基板的杯的外側，設置有從上方朝向所述基板噴出所述涂敷膜形成用的液體的噴嘴和所述噴嘴的待機部，

所述曝光前處理組件僅在從側方包圍要進行所述曝光前的液處理的所述基板的杯的內側或下部，設置有向所述基板供給用于進行該液處理的液體的噴嘴，

所述曝光前處理組件的所述寬度方向的組件間間距比所述處理模塊內的所述涂敷膜形成組件的所述寬度方向的組件間間距窄。

6.根據權利要求1所述的涂敷、顯影裝置，其中，

所述處理模塊由在所述寬度方向上連接起來的多個子模塊構成。

7.根據權利要求6所述的涂敷、顯影裝置，其中，

在一個所述子模塊利用所述處理組件進行了處理之后，接下來，在沿著所述寬度方向與該子模塊相鄰的其他子模塊利用所述處理組件進行處理，在此情況下在所述一個子模塊和所述其他子模塊使用在相同的高度位置的層設置的所述處理組件。

8.根據權利要求6所述的敷、顯影裝置，其中，

在從設置有所述曝光前處理組件的子模塊的所述交接部向其他子模塊輸送液浸曝光后的基板之際，使用設置有所述曝光前處理組件的層內的所述輸送機構。

9.根據權利要求6所述的涂敷、顯影裝置，其中，

在與設置有所述曝光前處理組件的第1子模塊不同的第2子模塊，設置有進行所述顯影處理的顯影組件，

所述第2子模塊在設置有該顯影組件的層的與所述第1子模塊相反的一側，設置有檢查所述顯影處理后的基板的檢查組件。