[發(fā)明專利]一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011021588.0
• 申請(qǐng)日: 2020-09-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114246469B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱澤春;艾凱凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州九陽(yáng)小家電有限公司
• 主分類號(hào): A47J27/086
• 分類號(hào): A47J27/086;A47J27/08
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明公開(kāi)了一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，解決了現(xiàn)有技術(shù)中插針和簧片形成有氧化層時(shí)上下耦合器接觸不良的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的分體式壓力烹飪器具，包括鍋體和鍋蓋，鍋蓋包括外蓋和設(shè)于外蓋內(nèi)并能相對(duì)外蓋旋轉(zhuǎn)的鎖蓋，鎖合件相對(duì)外蓋具有與鍋體旋轉(zhuǎn)扣合的鎖合位置和與鍋體旋轉(zhuǎn)解鎖的解鎖位置，外蓋浮動(dòng)安裝有上耦合器，鍋體上設(shè)有下耦合器，鎖合件上設(shè)有驅(qū)動(dòng)件，鎖合件自鎖合位置運(yùn)動(dòng)至解鎖位置的過(guò)程中，驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對(duì)下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層；和/或鎖合件自解鎖位置運(yùn)動(dòng)至鎖合位置的過(guò)程中，驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對(duì)下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及廚房器具技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具。

【背景技術(shù)】

現(xiàn)有分體式壓力烹飪器具包括電壓力煲，對(duì)于電壓力煲而言，鍋體和鍋蓋是可以相互分離的，兩者之間無(wú)法采用有線連接的方式實(shí)現(xiàn)鍋蓋與鍋體的電信號(hào)連通，對(duì)于此類電壓力煲，通常將控壓元件、測(cè)溫元件等設(shè)置于鍋體，相對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)組成較為復(fù)雜，成本較高。此外，對(duì)于大部分的分體式電壓力煲，其均無(wú)法在鍋蓋配置溫度傳感器以實(shí)現(xiàn)鍋蓋的溫度顯示功能，從而降低了用戶體驗(yàn)。少數(shù)的分體式電壓力煲通過(guò)無(wú)線傳輸模塊實(shí)現(xiàn)鍋蓋與鍋體的電信號(hào)傳輸，但該種信號(hào)傳輸方式成本高，可靠性低。

基于此，出現(xiàn)了上下耦合電連接的分體電壓力煲，通過(guò)在鍋蓋上安裝有用于電連接的上耦合器；鍋體上設(shè)有與控制器電連接的下耦合器，通過(guò)鍋蓋和鍋體的鎖合實(shí)現(xiàn)上耦合器和下耦合器的電連接，但是經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的使用后，上下耦合器相互連接的簧片和插針上會(huì)形成氧化層，該氧化層極易導(dǎo)致上下耦合器接觸不良，影響整機(jī)的使用性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，在鎖合件至少某一次轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，通過(guò)驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對(duì)下耦合器多次上下浮動(dòng)，以使插針與簧片進(jìn)行多次摩擦，進(jìn)而有效去除插針和簧片上的氧化層，使上下耦合器耦合時(shí)保持良好的接觸，以提高整機(jī)的可靠性。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，包括鍋體和鍋蓋，所述鍋蓋包括外蓋和設(shè)于所述外蓋內(nèi)并能相對(duì)所述外蓋旋轉(zhuǎn)的鎖合件，所述鎖合件相對(duì)外蓋具有與鍋體旋轉(zhuǎn)扣合的鎖合位置和與鍋體旋轉(zhuǎn)解鎖的解鎖位置，所述外蓋浮動(dòng)安裝有上耦合器，所述鍋體上設(shè)有下耦合器，所述鎖合件上設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述上耦合器上下浮動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件，所述鎖合件自鎖合位置運(yùn)動(dòng)至解鎖位置的過(guò)程中，所述驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對(duì)下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層；和/或所述鎖合件自解鎖位置運(yùn)動(dòng)至鎖合位置的過(guò)程中，所述驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對(duì)下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層。

進(jìn)一步的，所述驅(qū)動(dòng)件為壓板，所述壓板與上耦合器其中之一設(shè)有交替設(shè)置的凹面和凸面，另一個(gè)設(shè)有至少一個(gè)凸起，所述壓板轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，所述凸起與所述凹面和凸面交替接觸以使所述上耦合器進(jìn)行多次上下浮動(dòng)。

更進(jìn)一步的，所述壓板包括限位部和用于引導(dǎo)限位部滑動(dòng)至上耦合器頂面的導(dǎo)向部，所述限位部與上耦合器其中之一設(shè)有齒條，所述齒條包括間隔設(shè)置的第一齒牙，相鄰兩個(gè)所述第一齒牙之間的部分形成所述凹面，所述第一齒牙的頂面形成所述凸面，所述凸起為與所述齒條嚙合的第二齒牙。

更進(jìn)一步的，所述第一齒牙包括傾斜設(shè)置的兩個(gè)側(cè)面和連接所述兩個(gè)側(cè)面的頂面，所述頂面與側(cè)面圓弧過(guò)渡連接。

更進(jìn)一步的，所述頂面與側(cè)面的夾角α為20°～35°。

更進(jìn)一步的，所述壓板與上耦合器其中之一間隔設(shè)有多個(gè)球形槽，所述球形槽的槽壁形成所述凹面，相鄰兩個(gè)球形槽之間的部分形成所述凸面，所述凸起為球狀凸包。

更進(jìn)一步的，所述凹面和凸面的數(shù)量均不少于3個(gè)。