[發(fā)明專利]一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011021588.0
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN114246469B
• 公開（公告）日: 2023-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱澤春;艾凱凱
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州九陽小家電有限公司
• 主分類號: A47J27/086
• 分類號: A47J27/086;A47J27/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，包括鍋體和鍋蓋，所述鍋蓋包括外蓋和設(shè)于所述外蓋內(nèi)并能相對所述外蓋旋轉(zhuǎn)的鎖合件，所述鎖合件相對外蓋具有與鍋體旋轉(zhuǎn)扣合的鎖合位置和與鍋體旋轉(zhuǎn)解鎖的解鎖位置，所述外蓋浮動(dòng)安裝有上耦合器，所述鍋體上設(shè)有下耦合器，其特征在于，所述鎖合件上設(shè)有驅(qū)動(dòng)所述上耦合器上下浮動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件，所述鎖合件自鎖合位置運(yùn)動(dòng)至解鎖位置的過程中，所述驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層；和/或所述鎖合件自解鎖位置運(yùn)動(dòng)至鎖合位置的過程中，所述驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)上耦合器相對下耦合器多次上下浮動(dòng)，以去除上耦合器和下耦合器之間的氧化層。

2.如權(quán)利要求1所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)件為壓板，所述壓板與上耦合器其中之一設(shè)有交替設(shè)置的凹面和凸面，另一個(gè)設(shè)有至少一個(gè)凸起，所述鎖合件帶動(dòng)壓板轉(zhuǎn)動(dòng)過程中，所述凸起與所述凹面和凸面交替接觸以使所述上耦合器相對下耦合器多次上下浮動(dòng)。

3.如權(quán)利要求2所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述壓板包括限位部和用于引導(dǎo)限位部滑動(dòng)至上耦合器頂面的導(dǎo)向部，所述限位部與上耦合器其中之一設(shè)有齒條，所述齒條包括間隔設(shè)置的第一齒牙，相鄰兩個(gè)所述第一齒牙之間的部分形成所述凹面，所述第一齒牙的頂面形成所述凸面，所述凸起為與所述齒條嚙合的第二齒牙。

4.如權(quán)利要求3所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述第一齒牙包括傾斜設(shè)置的兩個(gè)側(cè)面和連接所述兩個(gè)側(cè)面的頂面，所述頂面與側(cè)面圓弧過渡連接。

5.如權(quán)利要求4所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述頂面與側(cè)面的夾角α為20°～35°。

6.如權(quán)利要求2所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述壓板與上耦合器其中之一間隔設(shè)有多個(gè)球形槽，所述球形槽的槽壁形成所述凹面，相鄰兩個(gè)球形槽之間的部分形成所述凸面，所述凸起為球狀凸包。

7.如權(quán)利要求2至6之一所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述凹面和凸面的數(shù)量均不少于3個(gè)。

8.如權(quán)利要求2至6之一所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述上耦合器與下耦合器導(dǎo)通時(shí)，所述凸起與所述凹面接觸配合。

9.如權(quán)利要求1所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述上耦合器或下耦合器電連接有控制器和操作面板，所述操作面板上設(shè)有指示件，所述鎖合件自鎖合位置運(yùn)動(dòng)至解鎖位置的過程中，自所述上耦合器與下耦合器第一次通電起t秒后，所述控制器控制所述指示件點(diǎn)亮；或者自所述上耦合器上下浮動(dòng)至少兩次后，所述控制器控制所述指示件點(diǎn)亮。

10.如權(quán)利要求1所述的耦合去除氧化層的分體式壓力烹飪器具，其特征在于，所述上耦合器包括連接器本體和對稱分布在所述連接器本體兩端的安裝耳，所述外蓋上設(shè)有與所述安裝耳滑動(dòng)配合的螺釘柱以及彈性件，所述彈性件套裝在所述螺釘柱上并夾裝在所述安裝耳和外蓋之間。