[發(fā)明專利]一種用于對(duì)硼摻雜金剛石基底表面處理的自動(dòng)化設(shè)備和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011021503.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112192324A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柴旭;王宜豹;蓋志剛;姜辛;郭風(fēng)祥;張妹;陳志剛;王韶琰;孫小玲;胡鼎;劉壽生;張麗麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東省科學(xué)院海洋儀器儀表研究所 |
| 主分類號(hào): | B24B1/00 | 分類號(hào): | B24B1/00;B24B27/033;B24B29/02;B24C1/08 |
| 代理公司: | 青島華慧澤專利代理事務(wù)所(普通合伙) 37247 | 代理人: | 馬千會(huì) |
| 地址: | 266200 山東省青島市鰲山衛(wèi)街*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 摻雜 金剛石 基底 表面 處理 自動(dòng)化 設(shè)備 方法 | ||
本發(fā)明屬于金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及硼摻雜金剛石基底表面處理的設(shè)備和方法。一種用于對(duì)硼摻雜金剛石基底表面處理的自動(dòng)化設(shè)備,包括拋光裝置、化學(xué)處理裝置和樣品轉(zhuǎn)移裝置;所述拋光裝置主要由傳送帶、拋光棒和樣品固定裝置組成,所述樣品固定裝置和拋光棒設(shè)置在所述傳送帶上方。本發(fā)明的設(shè)備和方法,通過對(duì)基片依次進(jìn)行拋光處理、化學(xué)處理和噴砂處理,有效增加基片的表面粗糙度,增加電極水處理面積;提高薄膜與基底的結(jié)合性能,延長(zhǎng)電極使用壽命,降低電極使用成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及硼摻雜金剛石基底表面處理的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)
目前,硼摻雜金剛石薄膜電極作為污水處理電極,可以有效降解有機(jī)污染物等難降解污水。然而大面積生產(chǎn)電極的使用壽命嚴(yán)重限制其使用范圍,主要是因?yàn)榛租壠c薄膜結(jié)合力弱,薄膜不夠致密。造成這種現(xiàn)象最根本的原因是對(duì)基底鈮片處理工藝粗糙,基片表面處理不均勻,人為因素影響大。目前沒有一個(gè)規(guī)范以及標(biāo)準(zhǔn)的預(yù)處理設(shè)備和工藝。此外,鈮基硼摻雜金剛石薄膜作為污水處理電極性能優(yōu)異,硼摻雜金剛石薄膜一般沉積在鈮片或者鈦片,由于硼摻雜金剛石薄膜性能穩(wěn)定,廢棄的鈮基硼摻雜電極很難回收再利用,造成了鈮和鈦資源的浪費(fèi)。
如何除去鈮板表面的硼摻雜金剛石薄膜,實(shí)現(xiàn)鈮片的重復(fù)多次使用是亟需解決的一大技術(shù)難題。亟需一個(gè)基片重復(fù)利用處理設(shè)備和處理工藝,對(duì)回收的基底鈮片表面進(jìn)行處理,提供表面潔凈,粗糙度一致的大面積大批量基片,以達(dá)到重復(fù)利用的目的。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了提供一種對(duì)硼摻雜金剛石基底表面處理的自動(dòng)化設(shè)備和方法,實(shí)現(xiàn)硼摻雜金剛石基片的回收處理和重復(fù)利用。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種用于對(duì)硼摻雜金剛石基底表面處理的自動(dòng)化設(shè)備,其特征在于:包括拋光裝置和化學(xué)處理裝置;所述拋光裝置主要由傳送帶、拋光棒和樣品固定裝置組成,所述樣品固定裝置和拋光棒設(shè)置在所述傳送帶上方。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式,所述的拋光棒與液壓裝置連接,通過液壓裝置控制其拋光壓力。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式,所述化學(xué)處理裝置包括多個(gè)處理容器;所述處理容器內(nèi)盛裝化學(xué)試劑。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式,還包括噴砂裝置,所述噴砂裝置用于對(duì)化學(xué)處理后的樣品表面進(jìn)行噴砂處理。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式,所述的樣品轉(zhuǎn)移裝置包括樣品托盤及電動(dòng)導(dǎo)軌;所述樣品托盤與電動(dòng)導(dǎo)軌連接,在電動(dòng)導(dǎo)軌的帶動(dòng)下,將樣品送入不同的處理容器內(nèi)進(jìn)行處理。
進(jìn)一步優(yōu)選地,所述的樣品轉(zhuǎn)移裝置還包括機(jī)械臂,所述機(jī)械臂用于在拋光裝置、化學(xué)處理裝置、噴砂裝置之間轉(zhuǎn)移樣品。
為了更好的實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的,本發(fā)明還提供一種對(duì)硼摻雜金剛石基底表面處理的方法,包括:
將硼摻雜金剛石基底鈮片進(jìn)行拋光處理;
將拋光處理后的鈮片進(jìn)行化學(xué)處理;
將化學(xué)處理完的鈮片進(jìn)行噴砂處理。
進(jìn)一步優(yōu)選地,所述的化學(xué)處理包括:
采用氫氟酸:鹽酸:水 =1:5:1對(duì)鈮片進(jìn)行酸處理3min~15min;
將酸處理后的鈮片放入超純水中清洗5~10分鐘;
將清洗完的鈮片放入酒精溶液中處理5~10分鐘。
進(jìn)一步優(yōu)選地,所述的噴砂處理包括:采用300~500目剛玉,噴嘴角度30~45°,噴砂時(shí)間2~5min/cm2。
進(jìn)一步優(yōu)選地,對(duì)回收的基底鈮片拋光之前先進(jìn)行高溫處理:馬弗爐,大氣條件下,600~800℃,處理時(shí)間30min~60min。
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