[發(fā)明專利]一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置及熱浸鍍系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011019159.X | 申請日: | 2020-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN111926278B | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳威霖;韓小濤;丁同海;謝劍峰;諶祺;曹全梁 | 申請(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號: | C23C2/06 | 分類號: | C23C2/06;C23C2/24;C23C2/40 |
| 代理公司: | 武漢華之喻知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42267 | 代理人: | 彭翠;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 帶狀 工件 三相 電磁 裝置 熱浸鍍 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明屬于熱浸鍍領(lǐng)域,更具體地,涉及一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置及熱浸鍍系統(tǒng)。該裝置包含電磁抹拭單元,該電磁抹拭單元包含磁極相對的第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器;所述第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器均包括鐵芯和至少一組三相線圈;每一組所述三相線圈包括A相線圈、B相線圈和C相線圈;所述A相線圈、B相線圈和C相線圈依次圍繞所述鐵芯上排列設(shè)置的凸起磁極而繞制。相比主磁通方向在豎直方向的三相電磁抹拭裝置,該裝置的主磁通方向為垂直于帶狀工作所在平面的法線方向,因此在平行于帶狀工件的切線方向上的磁場梯度變化更大,產(chǎn)生的切向電磁力更大,從而提高抹拭效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于熱浸鍍領(lǐng)域,更具體地,涉及一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置及熱浸鍍系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在帶鋼的熱浸鍍鋅流程中,帶鋼由傳送裝置經(jīng)過沉沒輥送入鋅鍋并轉(zhuǎn)向,表面粘附一層鋅液之后再由穩(wěn)定輥引出鋅鍋。此時帶鋼表面粘附有一層較厚且不均勻的未凝固鋅液層,需要由抹拭裝置將表面的鋅液層減薄至所需厚度,并將多余的鋅液抹拭回鋅鍋以降低生產(chǎn)成本。傳統(tǒng)抹拭裝置均為氣體抹拭裝置,該裝置的原理是,將一定量的氣體經(jīng)過壓縮送入氣刀,依靠高速氣流產(chǎn)生抹拭力直接作用在尚未凝固的鍍鋅層表面,從而減薄鍍層厚度并將多余的鋅液抹回鋅鍋。但是隨著生產(chǎn)線速度的增加,相同時間內(nèi)需要抹拭的鋅液量增多,導(dǎo)致氣體抹拭所需的氣流加快,氣壓也增大,易使得帶鋼表面鋅液飛濺,質(zhì)量下降,造成鋅液的氧化和霧化。不僅浪費(fèi)鋅,而且會將鋅液彌散到空氣中,污染環(huán)境。
為此,電磁抹拭技術(shù)作為一種非接觸式的新型抹拭技術(shù),可以有效解決上述問題。電磁抹拭技術(shù)還具有易控制、鍍層均勻、不引入雜質(zhì)、能夠滿足高速生產(chǎn)需求等優(yōu)勢。公開號CN110079755A公開的一種基于三相線圈的電磁抹拭裝置,該裝置為一種適用于圓棒、六角棒等棒狀工件的電磁抹拭裝置,該文獻(xiàn)重在解決棒狀工件表面鍍層的均勻性,然而,其軸向電磁力較小,不能滿足帶狀工件的抹拭要求。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷或改進(jìn)需求,本發(fā)明提供了一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置及熱浸鍍系統(tǒng),其結(jié)合帶狀工件的形狀特點(diǎn)以及鍍層抹拭需求,對三相電磁抹拭裝置的結(jié)構(gòu)以及線圈繞制方式進(jìn)行重新設(shè)計,并對該電磁抹拭裝置與帶狀工件的相對位置設(shè)置方式也進(jìn)行重新設(shè)計,相應(yīng)提出了一種主磁通方向垂直于帶狀工件表面的電磁抹拭裝置,該裝置在平行于帶狀工件的切向方向磁場梯度變化較大,產(chǎn)生的切向電磁力較高,特別適用于帶狀工件的電磁抹拭,從而解決現(xiàn)有技術(shù)電磁抹拭裝置軸向電磁力較低導(dǎo)致的抹拭效率低的技術(shù)問題。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置,包含電磁抹拭單元,該電磁抹拭單元包含磁極相對的第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器;所述第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器均包括鐵芯和至少一組三相線圈;每一組所述三相線圈包括A相線圈、B相線圈和C相線圈;所述A相線圈、B相線圈和C相線圈依次圍繞所述鐵芯上排列設(shè)置的凸起磁極繞制而成。
使用時,帶狀工件向上運(yùn)動從所述磁極相對的第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器之間穿過,同時對所述三相線圈通以三相交流電,使所述第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器產(chǎn)生與所述帶狀工件運(yùn)動方向相反的行波磁場;在各相線圈產(chǎn)生的交變磁場作用下,所述帶狀工件表面未凝固的液態(tài)鍍層感應(yīng)產(chǎn)生法向向內(nèi)的電磁力,將鍍層壓縮以控制所述帶狀工件的鍍層厚度;在所述行波磁場的作用下,所述鍍層上感應(yīng)產(chǎn)生與帶狀工件運(yùn)動方向相反的切向電磁力,阻止鍍層向上移動,克服鍍層的粘附力,將多余的鍍層液體抹拭除去。
優(yōu)選地,所述第一磁場發(fā)生器與第二磁場發(fā)生器的尺寸相同,且其寬度均大于所述帶狀工件的寬度。
優(yōu)選地,所述第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器的磁極正對,且所述第一磁場發(fā)生器和第二磁場發(fā)生器分別設(shè)置于所述帶狀工件所在平面的兩側(cè)。
優(yōu)選地,所述鐵芯為柱狀鐵芯,所述柱狀鐵芯上排列設(shè)置的凸起磁極為等間距排列設(shè)置的、垂直于所述鐵芯軸向的凸起磁極,所述鐵芯的軸與所述帶狀工件所在的平面平行。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
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