[發明專利]一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置及熱浸鍍系統

有效

• 申請號: 202011019159.X
• 申請日: 2020-09-24
• 公開（公告）號: CN111926278B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 陳威霖;韓小濤;丁同海;謝劍峰;諶祺;曹全梁
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: C23C2/06
• 分類號: C23C2/06;C23C2/24;C23C2/40
• 代理公司: 武漢華之喻知識產權代理有限公司 42267
• 代理人: 彭翠;曹葆青

1.一種帶狀工件的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，包含電磁抹拭單元，該電磁抹拭單元包含磁極相對的第一磁場發生器和第二磁場發生器；所述第一磁場發生器和第二磁場發生器均包括鐵芯和至少一組三相線圈；每一組所述三相線圈包括A相線圈、B相線圈和C相線圈；所述A相線圈、B相線圈和C相線圈依次圍繞所述鐵芯上排列設置的凸起磁極繞制而成；

所述鐵芯為柱狀鐵芯，所述柱狀鐵芯上排列設置的凸起磁極為等間距排列設置的、垂直于所述鐵芯軸向的凸起磁極，所述鐵芯的軸與所述帶狀工件所在的平面平行；

使用時，帶狀工件向上運動從所述磁極相對的第一磁場發生器和第二磁場發生器之間穿過，同時對所述三相線圈通以三相交流電，使所述第一磁場發生器和第二磁場發生器產生與所述帶狀工件運動方向相反的行波磁場；在各相線圈產生的交變磁場作用下，所述帶狀工件表面未凝固的液態鍍層感應產生法向向內的電磁力，將鍍層壓縮以控制所述帶狀工件的鍍層厚度；在所述行波磁場的作用下，所述鍍層上感應產生與帶狀工件運動方向相反的切向電磁力，阻止鍍層向上移動，克服鍍層的粘附力，將多余的鍍層液體抹拭除去。

2.如權利要求1所述的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，所述第一磁場發生器與第二磁場發生器的尺寸相同，且其寬度均大于所述帶狀工件的寬度。

3.如權利要求1所述的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，所述第一磁場發生器和第二磁場發生器的磁極正對，且所述第一磁場發生器和第二磁場發生器分別設置于所述帶狀工件所在平面的兩側。

4.如權利要求1所述的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，任意兩個相鄰的線圈之間的間距相同，且每一組所述三相線圈通電電流的頻率和有效值均相同。

5.如權利要求1所述的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，所述三相線圈匝數為50~100，其通入的電流大小為10A~40A，頻率范圍為10~80Hz。

6.如權利要求1所述的三相電磁抹拭裝置，其特征在于，所述三相線圈為兩組或兩組以上，所述三相線圈由同一套電源供電，以確保每一組所述三相線圈通電電流的頻率、幅值和相位相同。

7.一種基于如權利要求1至6任一項所述的三相電磁抹拭裝置的熱浸鍍系統，其特征在于，包括沉沒輥、三相電磁抹拭裝置、穩定輥以及用于盛放鍍液的容器；

工作時，帶狀工件經所述沉沒輥引入所述用于盛放鍍液的容器并轉向引出，由所述穩定輥牽拉所述帶狀工件使其向上穿過所述三相電磁抹拭裝置中磁極相對的第一磁場發生器和第二磁場發生器，進行所述帶狀工件表面鍍層的電磁抹拭；

所述用于盛放鍍液的容器設置于所述磁極相對的第一磁場發生器和第二磁場發生器的下方，以便于抹拭除去的鍍層液體返回至用于盛放鍍液的容器中。

8.如權利要求7所述的熱浸鍍系統，其特征在于，所述用于盛放鍍液的容器為鋅鍋。