[發(fā)明專利]一種從含氰含銅電鍍廢水中回收銅的廢水處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011017137.X | 申請(qǐng)日: | 2020-09-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112028338A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉超;陳志強(qiáng);劉勇;呂昊子;胡紅喜;呂建芳;饒金山;馬致遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東省科學(xué)院資源綜合利用研究所 |
| 主分類號(hào): | C02F9/04 | 分類號(hào): | C02F9/04;C22B15/00;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/24;C02F1/76;C02F1/56;C02F103/16;C02F101/38;C02F101/20 |
| 代理公司: | 北京勁創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 王闖 |
| 地址: | 510651 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 含氰含銅 電鍍 水中 回收 廢水處理 方法 | ||
1.一種從含氰含銅電鍍廢水中回收銅的廢水處理方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1:將收集的含氰含銅電鍍廢水進(jìn)行堿性氯化破氰處理,得到初步除氰后的電鍍廢水;
S2:將步驟S1處理得到的初步除氰后的電鍍廢水調(diào)節(jié)pH值至11.5~13.5,再加入氧化劑進(jìn)行反應(yīng),析出氫氧化物沉淀,之后加入氫氧化物沉淀捕收劑,對(duì)所述氫氧化物沉淀進(jìn)行表面疏水處理;
S3:將步驟S2處理得到的混合物導(dǎo)入浮選裝置,在浮選裝置中進(jìn)行氫氧化物沉淀浮選粗選,得到含銅的浮選粗選泡沫和第一浮選中水,所述含銅的浮選粗選泡沫除水后得到第一含銅渣產(chǎn)品和第一壓濾水;
S4:向步驟S3得到的第一浮選中水中加入硫化劑,反應(yīng)生成硫化物沉淀,之后加入硫化物沉淀捕收劑,對(duì)所述硫化物沉淀進(jìn)行表面疏水處理;
S5:將步驟S4處理得到的混合物導(dǎo)入浮選裝置,在浮選裝置中進(jìn)行硫化物沉淀浮選掃選,得到含銅的浮選掃選泡沫和第二浮選中水,所述含銅的浮選掃選泡沫除水后得到第二含銅渣產(chǎn)品和第二壓濾水;
S6:向步驟S5得到的第二浮選中水中加入氰化物絡(luò)合沉淀劑進(jìn)行反應(yīng),之后再加入絮凝劑絮凝沉淀,所得上層清水達(dá)標(biāo)排放或回用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:所述的含氰含銅電鍍廢水為電鍍產(chǎn)生的含氰、銅的廢水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S1中,所述的含氰含銅電鍍廢水堿性氯化破氰處理是采用氯系氧化劑進(jìn)行兩級(jí)氧化破氰處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S2中,所述的氧化劑為次氯酸鈉;次氯酸鈉的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加800~3000g。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S2中,所述的氫氧化物沉淀捕收劑為氧化石蠟皂、塔爾皂中的一種或兩種;氫氧化物沉淀捕收劑的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加70~120g。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S4中,所述的硫化劑為硫化鈉、硫氫化鈉、多硫化鈉中的一種或幾種;硫化劑的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加400~500g。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S4中,所述的硫化物沉淀捕收劑為丁基黃藥、戊基黃藥中的一種或兩種與丁銨黑藥、25#黑藥中的一種或兩種按質(zhì)量比1:1的混合物;所述硫化物沉淀捕收劑的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加70~120g。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S6中,所述的氰化物絡(luò)合沉淀劑為硫酸亞鐵;硫酸亞鐵的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加500~600g。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢水處理方法,其特征在于:步驟S6中,所述的絮凝劑為PAM;PAM的用量為每立方米含氰含銅電鍍廢水添加2~4g。
10.根據(jù)權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的廢水處理方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1:氰化物的初步去除
將收集的含氰含銅電鍍廢水引入堿性氯化破氰反應(yīng)系統(tǒng),進(jìn)行兩級(jí)氧化破氰處理,得到初步除氰后的電鍍廢水;
S2:銅離子沉淀和沉淀物表面疏水性調(diào)控
將步驟S1中初步除氰后的電鍍廢水引入調(diào)節(jié)池,加入氫氧化鈉調(diào)節(jié)廢水的pH值至11.5~13.5,之后流入氧化反應(yīng)池,向氧化反應(yīng)池中加入氧化劑次氯酸鈉,反應(yīng)10~15min后流入第一攪拌池,析出氫氧化物沉淀,向第一攪拌池中加入氫氧化物沉淀捕收劑,對(duì)所述氫氧化物沉淀進(jìn)行表面疏水處理,反應(yīng)4~6min后流入浮選裝置;
S3:沉淀物浮選粗選
控制浮選裝置溶氣罐的壓力在0.40~0.60mPa之間進(jìn)行氫氧化物沉淀浮選粗選,得到含銅的浮選粗選泡沫和第一浮選中水,含銅的浮選粗選泡沫經(jīng)壓濾、烘干得到第一含銅渣產(chǎn)品和第一壓濾水,第一壓濾水返回至堿性氯化破氰處理步驟形成閉路循環(huán),所述的第一含銅渣產(chǎn)品的Cu品位為15~18%;
S4:銅離子硫化/氰化物絡(luò)合和沉淀物表面疏水性調(diào)控
將步驟S3浮選粗選得到的第一浮選中水泵入第二攪拌池,向第二攪拌池中加入硫化劑,反應(yīng)生成硫化物沉淀,之后流入第三攪拌池中,向第三攪拌池中加入硫化物沉淀捕收劑,對(duì)所述硫化物沉淀進(jìn)行表面疏水處理,反應(yīng)3~5min后流入浮選裝置;
S5:沉淀物浮選掃選
控制浮選裝置溶氣罐壓力在0.35~0.60mPa之間進(jìn)行硫化物沉淀浮選掃選,得到含銅的浮選掃選泡沫和第二浮選中水,含銅的浮選掃選泡沫經(jīng)壓濾、烘干得到第二含銅渣產(chǎn)品和第二壓濾水,第二壓濾水返回至第二攪拌池形成閉路循環(huán),所述的第二含銅渣產(chǎn)品的Cu品位為14~16%;
S6:含氰化合物深度去除
將步驟S5浮選掃選得到的第二浮選中水流入第四攪拌池,向第四攪拌池中加入氰化物絡(luò)合沉淀劑硫酸亞鐵反應(yīng)5~10min,之后流入第五攪拌池,向第五攪拌池中加入絮凝劑PAM反應(yīng)3~8min,之后流入沉降池,在沉降池沉淀15~20min后得到上層清水,所得上層清水達(dá)標(biāo)排放或回用。
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