[發(fā)明專利]一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統(tǒng)及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011014033.3
• 申請(qǐng)日: 2020-09-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112125452A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張雙翼;夏萍;葉輝;王錚
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海城市水資源開(kāi)發(fā)利用國(guó)家工程中心有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/08
• 分類號(hào): C02F9/08;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/38
• 代理公司: 上海國(guó)智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31274
• 代理人: 潘建玲

本發(fā)明公開(kāi)了一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統(tǒng)及方法，所述系統(tǒng)包括DAF單元、砂濾池以及紫外雙氧水設(shè)備，所述DAF單元以及砂濾池為常規(guī)處理工藝，以去除進(jìn)水中的一般污染物，所述紫外雙氧水設(shè)備連接于所述砂濾池后，以通過(guò)高級(jí)氧化深度處理工藝去除經(jīng)所述DAF單元及砂濾池處理后的進(jìn)水中的藥品，得到最終處理出水，本發(fā)明可以快速降解藥品，且降解去除效率高，利用常規(guī)工藝組合深度處理工藝去除水廠工藝中難以去除的藥品。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及水處理技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種利用常規(guī)工藝組合深度處理工藝去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)

藥品作為一種新型污染物，在水環(huán)境中被頻繁地檢測(cè)發(fā)現(xiàn)，比如污水處理廠出水，河流，甚至在飲用水中，目前發(fā)現(xiàn)的藥品種類也很多，比如抗生素，激素，降血脂藥，神經(jīng)類藥品等。這些藥品雖然與其他常規(guī)污染物相比在水中的檢出濃度為痕量級(jí)(ng/L或μg/L)，但是在長(zhǎng)期接觸下的有害作用依然不容忽視，特別是針對(duì)小孩和老年人?？赡艿牟涣挤磻?yīng)包括：抗生素類藥品可能導(dǎo)致人體產(chǎn)生抗藥性，激素類藥品則可能對(duì)人體造成內(nèi)分泌系統(tǒng)的干擾等。因而，藥品在水環(huán)境中的檢出得到了越來(lái)越多廣泛的關(guān)注。

現(xiàn)有的水處理工藝主要針對(duì)常規(guī)或有重大危害的污染物所設(shè)計(jì)，對(duì)藥品這種新型污染物則欠缺考慮，尤其是有一些藥品由于自身復(fù)雜的化學(xué)結(jié)構(gòu)，在環(huán)境中的自降解能力差，同時(shí)用一般常規(guī)的水處理工藝又去除效果不明顯，在處理后的水廠出水中仍然能檢測(cè)發(fā)現(xiàn)。

因此，實(shí)有必要提出一種技術(shù)手段，以解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

為克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明之目的在于提供一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統(tǒng)及方法，以可以快速降解藥品，且降解去除效率高。利用常規(guī)工藝組合深度處理工藝去除水廠工藝中難以去除的藥品。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明提出一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括DAF單元、砂濾池以及紫外雙氧水設(shè)備，所述DAF單元連接砂濾池采用常規(guī)處理工藝去除進(jìn)水中的一般污染物，所述紫外雙氧水設(shè)備連接于所述砂濾池后，以通過(guò)高級(jí)氧化深度處理工藝去除經(jīng)所述DAF單元及砂濾池處理后的進(jìn)水中的藥品，得到最終處理出水。

優(yōu)選地，所述紫外雙氧水設(shè)備包括雙氧水投加裝置以及UV反應(yīng)器，所述雙氧水投加裝置用于將雙氧水從加藥桶中泵入經(jīng)所述砂濾池進(jìn)入到所述UV反應(yīng)器的進(jìn)水中，所述UV反應(yīng)器通過(guò)投加UV，利用紫外照射雙氧水產(chǎn)生活性大的羥基自由基，以去除水中痕量的藥品污染物。

優(yōu)選地，所述雙氧水投加裝置投加雙氧水，使水中雙氧水的濃度達(dá)到15-20mg/L。

優(yōu)選地，調(diào)節(jié)進(jìn)入所述UV反應(yīng)器的進(jìn)水流量為0.5-1.2m³/h，以確保水中痕量的藥品污染物與UV/H₂O₂充分接觸，以達(dá)到更好的去除效果。

優(yōu)選地，所述UV反應(yīng)器中UV工藝投加的UV照射強(qiáng)度為500-700mJ/cm²。

優(yōu)選地，所述系統(tǒng)還包括絮凝劑投加裝置，所述絮凝劑投加裝置設(shè)置于所述DAF單元前，通過(guò)使用蠕動(dòng)泵向所述DAF單元的進(jìn)水中投加絮凝劑，以利用絮凝劑絮凝進(jìn)水中顆粒物。

優(yōu)選地，所述DAF單元前還設(shè)置靜態(tài)混合器，以通過(guò)所述靜態(tài)混合器使絮凝劑與進(jìn)水充分混合，并保持濃度達(dá)到30-40mg/L。

優(yōu)選地，所述DAF單元的水力停留時(shí)間為28-36min。

優(yōu)選地，所述砂濾池的水力停留時(shí)間為4-8min。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的方法，包括如下步驟：

步驟S1，利用DAF單元以及連接于DAF單元的砂濾池作為常規(guī)處理工藝，以去除進(jìn)水中的一般污染物；