[發明專利]一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統及方法

在審

• 申請號: 202011014033.3
• 申請日: 2020-09-24
• 公開（公告）號: CN112125452A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 張雙翼;夏萍;葉輝;王錚
• 申請（專利權）人: 上海城市水資源開發利用國家工程中心有限公司
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/38
• 代理公司: 上海國智知識產權代理事務所(普通合伙) 31274
• 代理人: 潘建玲

1.一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于，所述系統包括DAF單元、砂濾池以及紫外雙氧水設備，所述DAF單元連接砂濾池，采用常規處理工藝去除進水中的一般污染物，所述紫外雙氧水設備連接于所述砂濾池后，以通過高級氧化深度處理工藝去除經所述DAF單元及砂濾池處理后的進水中的藥品，得到最終處理出水。

2.如權利要求1所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述紫外雙氧水設備包括雙氧水投加裝置以及UV反應器，所述雙氧水投加裝置用于將雙氧水從加藥桶中泵入經所述砂濾池進入到所述UV反應器的進水中，所述UV反應器通過投加UV，利用紫外照射雙氧水產生活性大的羥基自由基，以去除水中痕量的藥品污染物。

3.如權利要求2所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述雙氧水投加裝置投加雙氧水，使水中雙氧水的濃度達到15-20mg/L。

4.如權利要求3所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：調節進入所述UV反應器的進水流量為0.5-1.2m³/h，以確保水中痕量的藥品污染物與UV/H₂O₂充分接觸，以達到更好的去除效果。

5.如權利要求4所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述UV反應器中UV工藝投加的UV照射強度為500-700mJ/cm²。

6.如權利要求5所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述系統還包括絮凝劑投加裝置，所述絮凝劑投加裝置設置于所述DAF單元前，通過使用蠕動泵向所述DAF單元的進水中投加絮凝劑，以利用絮凝劑絮凝進水中顆粒物。

7.如權利要求6所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述DAF單元前還設置靜態混合器，以通過所述靜態混合器使絮凝劑與進水充分混合，并保持濃度達到30-40mg/L。

8.如權利要求7所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述DAF單元的水力停留時間為28-36min。

9.如權利要求8所述的一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的系統，其特征在于：所述砂濾池的水力停留時間為4-8min。

10.一種去除水廠工藝中難以去除的藥品的方法，包括如下步驟：

步驟S1，利用DAF單元以及連接于DAF單元的砂濾池作為常規處理工藝，以去除進水中的一般污染物；

步驟S2，設置紫外雙氧水設備連接至所述砂濾池后，以通過高級氧化深度處理工藝去除經DAF單元及砂濾池處理后的進水中的藥品，得到去除藥品后的最終處理出水。