[發明專利]用投影光學器件實現通過抗蝕劑厚度的傾斜圖案化的方法

在審

• 申請號: 202011007793.1
• 申請日: 2020-09-23
• 公開（公告）號: CN113009786A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 劉昌華;莫建勇;張亮
• 申請（專利權）人: 英特爾公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張凌苗;申屠偉進

1.一種光刻圖案化系統，包括：

光化輻射源，其中光化輻射源被配置為沿著光軸傳播光；

掩模安裝件，其中掩模安裝件可配置為將掩模表面相對于光軸以第一角度定向；

透鏡模塊；和

基板安裝件，其中基板安裝件可配置為將基板表面相對于光軸以第二角度定向。

2.根據權利要求1所述的光刻圖案化系統，其中所述第一角度不同于所述第二角度。

3.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，其中所述第一角度和所述第二角度是互補角度。

4.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，其中所述透鏡模塊基本上垂直于光軸。

5.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，其中所述透鏡模塊包括雙遠心透鏡。

6.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，其中所述第一角度大于90°。

7.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，進一步包括：

安裝在掩模安裝件中的光刻掩模。

8.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，進一步包括：

安裝在基板安裝件中的基板。

9.根據權利要求8所述的光刻圖案化系統，進一步包括：

在基板之上的棱鏡。

10.根據權利要求9所述的光刻圖案化系統，進一步包括：

在棱鏡與基板之間的反射系數匹配層。

11.根據權利要求1或2所述的光刻圖案化系統，進一步包括：

對準相機。

12.根據權利要求11所述的光刻圖案化系統，其中所述對準相機包括自準直儀和距離檢測器。

13.一種電子器件，包括：

基板；和

從基板延伸出的多個引腳，其中所述多個引腳相對于基板以非正交的角度定向。

14.根據權利要求13所述的電子器件，其中每個引腳具有至少15∶1的長度對寬度的縱橫比。

15.根據權利要求14所述的電子器件，其中所述縱橫比至少為30∶1。

16.根據權利要求13、14或15所述的電子器件，其中每個引腳的長度近似為250μm或更大。

17.根據權利要求13、14或15所述的電子器件，其中每個引腳的寬度沿著引腳的長度基本上是均勻的。

18.根據權利要求13、14或15所述的電子器件，其中每個引腳的寬度沿著引腳的長度是不均勻的。

19.根據權利要求18所述的電子器件，其中靠近基板的引腳的第一寬度大于遠離基板的引腳的第二寬度。

20.根據權利要求13、14或15所述的電子器件，其中所述多個引腳包括超過一百個引腳。

21.根據權利要求13、14或15所述的電子器件，其中，所述非正交角度在0°與45°之間。

22.一種利用光化輻射使層圖案化的方法，包括：

利用安裝件固定具有光可成像層的基板；和

利用來自源的光化輻射使光可成像層曝光，其中光化輻射沿著光軸傳播，該光軸與相對于光軸以第一角度定向的掩模和透鏡模塊相交，并且其中光可成像層相對于光軸以第二角度定向。