[發明專利]一種含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置及方法有效
| 申請號: | 202011004257.6 | 申請日: | 2020-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN112304574B | 公開(公告)日: | 2022-11-01 |
| 發明(設計)人: | 李珂;焦燕;宋新明;李豪;韓放;王永亮 | 申請(專利權)人: | 華中光電技術研究所(中國船舶重工集團公司第七一七研究所) |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 武漢藍寶石專利代理事務所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人: | 方菲 |
| 地址: | 430000 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 含有 光學 組件 光學系統 測試 裝置 方法 | ||
1.一種含有光學消旋組件的光學系統的像質測試方法,所述含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,包括準直光學系統、含有光學消旋組件的光學系統、像方接收系統,所述準直光學系統,用于產生含有光學消旋組件的光學系統的像質測試所需的準直目標光束;所述含有光學消旋組件的光學系統包括前端接收光路組件、光學消旋組件、后端成像光路組件,其位于準直光學系統的出射光路上,用于對所述準直光學系統成像;所述像方接收系統位于含有光學消旋組件的光學系統的成像光路上,用于接收所述含有光學消旋組件的光學系統的出射像并對其進行MTF測試,其特征在于,包括如下步驟:根據平面反射鏡自準直方法初步確定含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置的安裝位置滿足工作要求;
保持光學消旋組件靜止,根據含有光學消旋組件的光學系統的物像關系,移動像方接收系統直至找到初始像點;
通過調整所述像方接收系統不斷縮小所述準直光學系統的出射光軸、所述含有光學消旋組件的光學系統的光軸及所述像方接收系統的光軸的位置偏差,直至所述光學消旋組件轉動工作時所述像方接收系統的接收的像點位置不再變化,此時所述像點的位置所對應的視場即為中心視場,該像點為基準測試像點。
2.根據權利要求1所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,其特征在于,所述準直光學系統沿光路依次包括靶標光源、拋物面準直鏡、折轉平面鏡,
所述折轉平面鏡安裝在第一支架上,所述第一支架用于帶動折轉平面鏡轉動以提供所述含有光學消旋組件的光學系統所需的不同視場。
3.根據權利要求2所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,其特征在于,所述靶標光源上還設有濾光片,所述濾光片用于濾除準直光束中的非測試波段的光束。
4.根據權利要求1所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,其特征在于,所述光學消旋組件包括K鏡、別漢棱鏡或道威棱鏡中的一種。
5.根據權利要求1所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,其特征在于,所述像方接收系統包括像分析儀、第二支架、轉動工作臺,所述像分析儀安裝在第二支架上,用于接收所述含有光學消旋組件的光學系統的出射像并對其進行MTF測試;所述第二支架設于轉動工作臺上,所述轉動工作臺用于為第二支架提供支撐以及帶動第二支架和像分析儀轉動。
6.根據權利要求5所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試裝置,其特征在于,所述含有光學消旋組件的光學系統安裝在所述第二支架上。
7.根據權利要求1所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試方法,其特征在于,所述通過調整所述像方接收系統不斷縮小所述含有光學消旋組件的光學系統的入射光軸、所述光學消旋組件的光軸及所述像方接收系統的光軸的位置偏差,直至所述光學消旋組件轉動工作時所述像方接收系統的接收的像點位置不再變化,此時所述像點的位置所對應的視場即為中心視場,該像點為基準測試像點包括如下步驟:
a.將光學消旋組件由靜止狀態旋轉90°,調整像方接收系統以尋找第一像點,記錄初始像點與第一像點的偏移量并將其作為第一偏移量;
b.將光學消旋組件旋轉至原靜止狀態的位置,轉動和記錄像方接收系統的微量角度并尋找初始像點,并按照步驟a往復尋找第二像點,記錄初始像點與第二像點的偏移量并將其作為第二偏移量;所述微量角度的取值范圍為[-1°,1°];
c.根據所述第一偏移量與所述第二偏移量的差值以及其對應的微量角度,調整所述準直光學系統與所述像方接收系統的相對位置;
d.循環步驟a至步驟c,直至光學消旋組件轉動時所述像方接收系統的接收的像點位置不再變化。
8.根據權利要求1所述的含有光學消旋組件的光學系統的像質測試方法,其特征在于,包括如下步驟:根據所述基準測試像點所確定的準直光學系統、含有光學消旋組件的光學系統與像方接收系統之間的位置,調整準直目標光束的角度,實現所述含有光學消旋組件的光學系統在0w視場、0.7w及1.0w的像質測試。
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