[發明專利]一種用于磁體加工的電鍍工藝

在審

• 申請號: 202011002587.1
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN112011811A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 唐睿;尤晨晨;韓幸奇
• 申請（專利權）人: 安徽萬磁電子有限公司
• 主分類號: C25D3/12
• 分類號: C25D3/12;C25D7/00
• 代理公司: 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) 34160
• 代理人: 楊潤;周衛

本發明公開了一種用于磁體加工的電鍍工藝，并在電鍍過程中制備了一種光亮劑，該光亮劑分子在電鍍液中的金屬離子結晶的同時，發生醛的化學還原，進而降低吸附位置上金屬電沉積的電流效率，從而達到光亮作用，該分子上的兩個高活性的氮原子含有弧對電子，易與金屬原子的d軌道形成配位鍵，進而形成穩定的吸附，達到保護金屬表面的效果，且非極性基團遠離金屬表面在腐蝕介質中形成定向排列的疏水膜，能夠阻止金屬表面與腐蝕介質間的物質或電荷轉移，進而起到防腐效果。

技術領域

本發明屬于磁體加工技術領域，具體涉及一種用于磁體加工的電鍍工藝。

背景技術

電解沉積是最為常用的鍍鎳技術，被廣泛應用于防止金屬基材腐蝕。為此，鎳鍍層可以作為最外層鍍層，也可以作為貴重金屬電鍍的打底層。當應用于最外層電鍍層，鎳鍍層主要提供裝飾性和功能性效果，例如半光亮或者全光亮，耐腐蝕以及耐磨。在更復雜的電鍍方法中，當貴金屬或者其合金作為最表層電鍍層時，鎳鍍層可作為中間層，其效用是將基材和最表層電鍍層很好的膠合在一起。尤其是當最表層電鍍層部分或完全損壞時，鎳鍍層也可作為替代耐腐蝕層。

現有的磁體加工電鍍工藝，電鍍后的磁體具有一定的耐腐蝕性，但在特殊環境中使用仍然會出現腐蝕現象，進而造成磁體物發正常使用，影響磁體使用壽命。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于磁體加工的電鍍工藝，

本發明要解決的技術問題：

現有的磁體加工電鍍工藝，電鍍后的磁體具有一定的耐腐蝕性，但在特殊環境中使用仍然會出現腐蝕現象，進而造成磁體物發正常使用，影響磁體使用壽命。

本發明的目的可以通過以下技術方案實現：

一種用于磁體加工的電鍍工藝，由如下步驟制成：

步驟S1：將硫酸鎳、氯化鎳、硼酸分別溶于去離子水中，制得硫酸鎳溶液、氯化鎳溶液、硼酸溶液，將硫酸鎳溶液、氯化鎳溶液、硼酸溶液進行混合至均勻后，調節混合液pH值為2-3，制得電鍍液；

步驟S2：將磁體浸入步驟S1制得的電鍍液中，鎳板為陽極，在溫度為40-50℃，電流密度為15-25A/dm²的條件下，進行電鍍，制得電鍍磁體。

進一步，步驟S1所述的電鍍液中硫酸鎳的含量為200-300g/L，氯化鎳的含量為40-60g/L，硼酸的含量為30-50g/L，光亮劑的用量為電鍍液質量的5-10％。

進一步，所述的光亮劑由如下步驟制成：

步驟A1：將3,4-二氨基甲苯和鹽酸溶液加入反應釜中，在轉速為120-150r/min，溫度為40-50℃的條件下，進行攪拌并加入氨基氰溶液，進行攪拌3-5h后，加入氫氧化鈉溶液，在溫度為70-80℃的條件下，繼續攪拌3-5h后，在溫度為110-120℃的條件下，進行蒸餾去除蒸餾物，將底物溶于去離子水中，加入氯甲酸芐酯和碳酸鉀溶液，在溫度為25-30℃的條件下，進行反應2-3h，制得中間體1；

反應過程如下：

步驟A2：將步驟A1制得的中間體1和去離子水加入反應釜中，通入氯氣，在溫度為80-90℃的光照條件下，進行反應2-3h后，加入碳酸鉀，在溫度為110-120℃的條件下，進行回流反應1-2h后，加入重鉻酸鉀溶液，在轉速為150-200r/min，溫度為35-40℃的條件下，進行攪拌并加入硫酸溶液，攪拌1-2h后，加入丙酮和氫氧化鈉溶液，在溫度為25-30℃的條件下，繼續攪拌30-40min，調節反應液pH值為7，靜置20-30min至分層，去除水層，制得中間體2；

反應過程如下：