[發(fā)明專利]一種倏逝波耦合的波導(dǎo)型探測(cè)器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011002337.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112103351A | 公開(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王方莉;張博健;王亮;郭松坡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/0216 | 分類號(hào): | H01L31/0216;H01L31/0304;H01L31/101 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉 |
| 地址: | 230026 安*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 倏逝波 耦合 波導(dǎo) 探測(cè)器 | ||
本發(fā)明提供了一種倏逝波耦合的波導(dǎo)型光電探測(cè)器,其吸收層的材料選自InAs材料、GaSb材料等五種材料,過渡層的材料選自與吸收層的材料晶格相匹配的多種三元材料和/或四元材料。本申請(qǐng)采用多種過渡層材料代替?zhèn)鹘y(tǒng)波導(dǎo)中單一材料的方式實(shí)現(xiàn)對(duì)稀釋波導(dǎo)層、光學(xué)匹配層以及整個(gè)器件折射率更為精細(xì)的調(diào)控,獲得具更高耦合效率的器件結(jié)構(gòu),最終實(shí)現(xiàn)了應(yīng)用在光纖通信1310nm或1550nm窗口下具有更高量子效率的高速波導(dǎo)型探測(cè)器。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及探測(cè)器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種倏逝波耦合的波導(dǎo)型探測(cè)器。
背景技術(shù)
近些年來光電探測(cè)器朝著高速、大容量的方向發(fā)展;其中具有低暗電流、高量子效率的PIN型光電探測(cè)器得到了長(zhǎng)足的發(fā)展,從垂直光照明到側(cè)面入射照明,再到側(cè)面照明的倏逝波耦合的波導(dǎo)型光電探測(cè)器,逐步解決了量子效率與響應(yīng)速度相矛盾以及光吸收不均勻?qū)е聼o法大功率工作的問題。III-V族半導(dǎo)體材料中基于InP/InGaAs材料體系的PIN光電探測(cè)器能夠覆蓋光纖通信的1310nm和1550nm兩個(gè)的窗口,這些年來InP/InGaAs基的光電探測(cè)器得到了最廣泛的研究和應(yīng)用。
針對(duì)未來對(duì)光電探測(cè)器更高速的需求,倏逝波耦合的波導(dǎo)型探測(cè)器是解決這一需求的關(guān)鍵技術(shù)。目前,應(yīng)用在光纖通信中1310nm和1550nm窗口的倏逝波耦合的波導(dǎo)探測(cè)器基本是采用InP/InGaAs基的材料體系,其采用與InP晶格匹配的四元InGaAsP材料作為過渡層,InP材料作為襯底,InGaAsP與InP(1.35eV)周期性交替排列構(gòu)成稀釋波導(dǎo)層,稀釋波導(dǎo)的作用是增大波導(dǎo)的光場(chǎng)分布,減少光纖與稀釋波導(dǎo)的模式失配損耗,再采用一層或兩層InGaAsP材料作為光學(xué)匹配層。
對(duì)于波導(dǎo)型光電探測(cè)器,光從光纖進(jìn)入到稀釋波導(dǎo)后經(jīng)過光學(xué)匹配層逐漸耦合到光吸收層,與垂直入射的探測(cè)器相比,量子效率比較低。因?yàn)椴▽?dǎo)型光電探測(cè)器的光是需要從倏逝波導(dǎo)耦合到吸收層的,光耦合的效率直接制約了探測(cè)器的量子效率。對(duì)于光在兩個(gè)波導(dǎo)之間的耦合,當(dāng)兩個(gè)波導(dǎo)對(duì)應(yīng)的模式的傳播常數(shù)相等時(shí)有最大的耦合效率,波導(dǎo)之間折射率差值越小耦合效率越高。
傳統(tǒng)倏逝波耦合的波導(dǎo)探測(cè)器中吸收層材料為In0.53Ga0.47As,稀釋波導(dǎo)由一種固定組分的InGaAsP和InP(1.35eV)材料交替排列組成,在1310nm波段,InP材料的折射率為3.202,吸收層In0.53Ga0.47As的折射率為3.601,在1550nm波段,InP材料的折射率為3.167,吸收層In0.53Ga0.47As的折射率為3.560,InP與In0.53Ga0.47As的折射率相差很大,光在兩種材料之間耦合效率很低,雖然采用InGaAsP與InP交替排列構(gòu)成稀釋波導(dǎo)使得稀釋波導(dǎo)的等效折射率提高,但與吸收層折射率差別依舊很大,這極大地限制了光波導(dǎo)的耦合效率,進(jìn)而影響了器件的關(guān)鍵指標(biāo)-量子效率。因此選取新的材料體系,降低稀釋波導(dǎo)層和吸收層的折射率差,通過對(duì)稀釋波導(dǎo)以及整個(gè)器件的折射率更精細(xì)的調(diào)控,提高波導(dǎo)耦合效率,實(shí)現(xiàn)對(duì)器件關(guān)鍵性能量子效率的提升。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題在于提供一種耦合效率和量子效率顯著提高的倏逝波耦合波導(dǎo)探測(cè)器。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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