[發明專利]一種高阻膜及其制備方法與應用

在審

• 申請號: 202011001960.1
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN112209626A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發明（設計）人: 王金科;陳明飛;朱啟煌;劉永成;龍瀧;譚宏
• 申請（專利權）人: 長沙壹納光電材料有限公司
• 主分類號: C03C17/245
• 分類號: C03C17/245;G02F1/1333
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 肖云

本發明公開了一種高阻膜及其制備方法與應用，所述高阻膜的膜層方阻在10⁷Ω/□～10¹⁰Ω/□之間且在550nm下透光率不低于97％。本發明方案的高阻膜具有較好的抗靜電作用，同時還具備在可見光區內的良好透光性，且不影響器件的觸控功能；本發明方案的高阻膜可較好地滿足In?cell方式液晶盒減薄后屏蔽層的性能需求，從而更好地促進顯示屏尤其是內嵌式觸摸屏領域的發展。

技術領域

本發明涉及顯示器件領域，具體涉及一種高阻膜的制備方法與應用。

背景技術

隨著電子、通信技術的發展，各種電子顯示設備層出不窮，液晶顯示器(LiquidCrystal Display，LCD)是電子顯示設備的重要元器件。其中，薄膜晶體管液晶顯示器(ThinFilm Transistor liquid crystal display，TFT-LCD)是利用液晶材料的特性來顯示圖像的一種平板顯示裝置，其相較于其它顯示裝置而言更具輕薄、低驅動電壓及低功耗等優點，已經成為目前整個消費市場上的主流產品。TFT-LCD是一類由薄膜晶體管(Thin FilmTransistor，TFT)和彩色濾光片基板(Color Filter，CF)組成的液晶盒，隨著人們對設備小型化的要求越來越高，人們對液晶盒厚度的要求越來越高。

為降低液晶盒厚度，需要將TFT和CF玻璃背面減薄，并在減薄后的CF玻璃背面鍍ITO屏蔽層，現有技術中的ITO屏蔽層的方阻通常在300～1000Ω/□之間。然而，上述方式仍難以滿足人們的需求，因此，為進一步降低顯示屏厚度，工業應用過程中通常采用將觸摸面板和液晶面板一體化處理，包括“內嵌式(In-cell)”和“外嵌式(On-cell)”兩種方式。In-cell是指將觸摸面板功能嵌入到液晶像素中，該工藝是在TFT玻璃上直接形成ITO導電膜(高阻膜)及傳感器，不僅節約了一片玻璃基板，還省略了貼合工序，降低了生產成本，且提高了產品合格率，同時還能更好地滿足智能終端超薄化需求。其中，高阻膜的性能直接關系著內嵌式觸摸屏的觸摸效果，因此，其不僅要能更好地抗靜電作用，同時，還要具備良好的透光性且不影響器件的觸控功能。然而，現有技術中的高阻膜存在表面電阻小，抗干擾效果差、防靜電效果差、透光性低等諸多缺陷，導致現有技術中內嵌式觸摸屏的觸摸效果較差，限制了內嵌式觸摸屏的發展。

基于此，開發一種電阻率高且可見光區透光率高的高阻膜具有重要意義。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明提出一種高阻膜，既具有高電阻率，又具有高透光率。

本發明還提出上述高阻膜的制備方法。

本發明還提出上述高阻膜的應用。

根據本發明的第一方面實施方式的高阻膜，所述高阻膜的膜層方阻在10⁷Ω/□～10¹⁰Ω/□之間且在550nm下透光率不低于97％。

根據本發明的一些實施方式，所述高阻膜在550nm下的透光率為99％。

根據本發明的一些實施方式，所述高阻膜的厚度為5～30nm。

根據本發明實施方式的高阻膜，至少具有如下有益效果：本發明方案的高阻膜具有較好的抗靜電作用，同時還具備在可見光區內的良好透光性，且不影響器件的觸控功能；本發明方案的高阻膜可較好地滿足In-cell方式液晶盒減薄后屏蔽層的性能需求，從而更好地促進顯示屏尤其是內嵌式觸摸屏領域的發展。

根據本發明的第二方面實施方式的制備方法，包括以下步驟：

采用氧化銦摻雜氧化鋯陶瓷靶材，通過真空濺射法濺射得到所述高阻膜；

其中，真空濺射法采用的濺射氣壓為0.05～0.5Pa，采用的氣體組成為：Ar和O₂，其中，O₂分壓為0.01～0.04Pa。