[發(fā)明專(zhuān)利]顯示基板及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010987671.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112072001B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁德;孔超 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H10K50/84 | 分類(lèi)號(hào): | H10K50/84;H10K50/844;H10K59/12;H10K59/122 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 顯示裝置 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及顯示裝置,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,可以解決顯示裝置經(jīng)紫外光照射后壽命下降的問(wèn)題,該顯示基板包括襯底、多個(gè)發(fā)光器件、像素界定層以及吸附層;所述多個(gè)發(fā)光器件設(shè)置于所述襯底上;所述發(fā)光器件包括有機(jī)發(fā)光層;所述像素界定層設(shè)置于所述襯底上;所述像素界定層包括多個(gè)開(kāi)口部以及多個(gè)相連接的第一擋墻;一個(gè)所述第一擋墻繞一個(gè)所述開(kāi)口部一周設(shè)置;一個(gè)所述開(kāi)口部用于容納一個(gè)所述發(fā)光器件的有機(jī)發(fā)光層;所述吸附層與所述第一擋墻相接觸;所述吸附層用于吸附固化后的所述第一擋墻在紫外光照射下釋放的氣體。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置。
背景技術(shù)
有機(jī)電致發(fā)光二極管(Organic?Light-Emitting?Diode?Display,簡(jiǎn)稱(chēng)OLED)顯示裝置由于具有自發(fā)光、低功耗、寬視角、響應(yīng)速度快以及高對(duì)比度等優(yōu)點(diǎn),因而廣泛應(yīng)用于手機(jī)、電視、筆記本電腦等智能產(chǎn)品中。此外,OLED顯示裝置由于具有質(zhì)量輕、厚度薄以及抗彎折性能的特點(diǎn),因此成為目前國(guó)內(nèi)外眾多學(xué)者的研究重點(diǎn)。
對(duì)于OLED顯示技術(shù),信賴(lài)性問(wèn)題是制約其全方面發(fā)展的關(guān)鍵問(wèn)題之一。信賴(lài)性測(cè)試是指把OLED產(chǎn)品置于高溫高濕或者紫外光(也可稱(chēng)為UV光)等惡劣環(huán)境下一段時(shí)間,然后確認(rèn)產(chǎn)品是否還能正常使用。然而,在UV光的照射下,導(dǎo)致OLED產(chǎn)品的壽命極其低下,嚴(yán)重制約了OLED顯示技術(shù)的發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種顯示基板及顯示裝置,可以解決顯示裝置經(jīng)紫外光照射后壽命下降的問(wèn)題。
為達(dá)到上述目的,本申請(qǐng)的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
第一方面、提供一種顯示基板,該顯示基板包括襯底、多個(gè)發(fā)光器件、像素界定層以及吸附層;所述多個(gè)發(fā)光器件設(shè)置于所述襯底上;所述發(fā)光器件包括有機(jī)發(fā)光層;所述像素界定層設(shè)置于所述襯底上;所述像素界定層包括多個(gè)開(kāi)口部以及多個(gè)相連接的第一擋墻;一個(gè)所述第一擋墻繞一個(gè)所述開(kāi)口部一周設(shè)置;一個(gè)所述開(kāi)口部用于容納一個(gè)所述發(fā)光器件的有機(jī)發(fā)光層;所述吸附層與所述第一擋墻相接觸;所述吸附層用于吸附固化后的所述第一擋墻在紫外光照射下釋放的氣體。
在一些實(shí)施例中,所述吸附層包括多個(gè)吸附塊;所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底的表面以及靠近所述襯底的表面中的至少一個(gè)表面上設(shè)置有多個(gè)第一凹槽;一個(gè)所述吸附塊填充于一個(gè)所述第一凹槽內(nèi)。
在一些實(shí)施例中,所述吸附塊遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的表面與所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的表面位于同一平面內(nèi);或者,所述吸附塊靠近所述襯底一側(cè)的表面與所述第一擋墻靠近所述襯底一側(cè)的表面位于同一平面內(nèi)。
在一些實(shí)施例中,所述吸附層位于所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的表面;所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的表面在所述襯底上的垂直投影,位于所述吸附層靠近所述襯底一側(cè)的表面在所述襯底上的垂直投影的范圍內(nèi)。
在一些實(shí)施例中,所述像素界定層還包括第二擋墻;所述第二擋墻位于所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè);所述吸附層位于所述第一擋墻與所述第二擋墻之間,且與所述第二擋墻相接觸;所述第一擋墻和第二擋墻材料相同。
在一些實(shí)施例中,所述像素界定層還包括第二擋墻;所述第二擋墻位于所述第一擋墻遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè);所述第二擋墻靠近所述襯底一側(cè)的表面上設(shè)置有第二凹槽,所述吸附層填充于所述第二凹槽內(nèi),且與所述第一擋墻相接觸;所述第一擋墻和第二擋墻材料相同。
在一些實(shí)施例中,構(gòu)成固化后的所述第一擋墻的材料的化學(xué)式為:
所述吸附層的材料包括氧化鈣、氫氧化鈣、氫氧化鈉或者硫酸鈉中的至少一種。
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