[發明專利]顯示基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 202010987671.7
• 申請日: 2020-09-18
• 公開（公告）號: CN112072001B
• 公開（公告）日: 2023-05-26
• 發明（設計）人: 袁德;孔超
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H10K50/84
• 分類號: H10K50/84;H10K50/844;H10K59/12;H10K59/122
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：

襯底；

多個發光器件，設置于所述襯底上；所述發光器件包括有機發光層；

像素界定層，設置于所述襯底上；所述像素界定層包括多個開口部以及多個相連接的第一擋墻；一個所述第一擋墻繞一個所述開口部一周設置；一個所述開口部用于容納一個所述發光器件的有機發光層；

吸附層，與所述第一擋墻相接觸；所述吸附層用于吸附固化后的所述第一擋墻在紫外光照射下釋放的氣體；

構成固化后的所述第一擋墻的材料的化學式為：

所述吸附層的材料包括氧化鈣、氫氧化鈣、氫氧化鈉或者硫酸鈉中的至少一種。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，

所述吸附層包括多個吸附塊；所述第一擋墻遠離所述襯底的表面以及靠近所述襯底的表面中的至少一個表面上設置有多個第一凹槽；

一個所述吸附塊填充于一個所述第一凹槽內。

3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，

所述吸附塊遠離所述襯底一側的表面與所述第一擋墻遠離所述襯底一側的表面位于同一平面內；

或者，所述吸附塊靠近所述襯底一側的表面與所述第一擋墻靠近所述襯底一側的表面位于同一平面內。

4.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，

所述吸附層位于所述第一擋墻遠離所述襯底一側的表面；

所述第一擋墻遠離所述襯底一側的表面在所述襯底上的垂直投影，位于所述吸附層靠近所述襯底一側的表面在所述襯底上的垂直投影的范圍內。

5.根據權利要求1-4任一項所述的顯示基板，其特征在于，

所述像素界定層還包括第二擋墻；所述第二擋墻位于所述第一擋墻遠離所述襯底的一側；所述吸附層位于所述第一擋墻與所述第二擋墻之間，且與所述第二擋墻相接觸；

所述第一擋墻和所述第二擋墻材料相同。

6.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述像素界定層還包括第二擋墻；所述第二擋墻位于所述第一擋墻遠離所述襯底的一側；

所述第二擋墻靠近所述襯底一側的表面上設置有第二凹槽，所述吸附層填充于所述第二凹槽內，且與所述第一擋墻相接觸；

所述第一擋墻和所述第二擋墻材料相同。

7.一種顯示基板，其特征在于，包括：

襯底；

多個發光器件，設置于所述襯底上；所述發光器件包括有機發光層；

像素界定層，設置于所述襯底上；所述像素界定層包括多個開口部以及多個相連接的第一擋墻；一個所述第一擋墻繞一個所述開口部一周設置；一個所述開口部用于容納一個所述發光器件的有機發光層；

其中，所述第一擋墻的材料包括樹脂材料以及混合于所述樹脂材料中的吸附材料；所述吸附材料用于吸附固化后的所述第一擋墻在紫外光照射下釋放的氣體；

構成固化后的所述第一擋墻的材料的化學式為：

所述吸附材料包括氧化鈣、氫氧化鈣、氫氧化鈉或者硫酸鈉中的至少一種。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1-6任一項所述的顯示基板、以及權利要求7所述的顯示基板。