[發(fā)明專利]標(biāo)記位置確定方法、光刻方法、制造物品的方法、存儲(chǔ)器介質(zhì)和光刻裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010986241.3
• 申請(qǐng)日: 2020-09-18
• 公開（公告）號(hào): CN112526835A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江頭信一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G01B11/00
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

本發(fā)明公開了標(biāo)記位置確定方法、光刻方法、制造物品的方法、存儲(chǔ)器介質(zhì)和光刻裝置。確定標(biāo)記位置的方法包括：基于通過(guò)使用捕獲標(biāo)記的圖像的觀測(cè)儀獲取的圖像上的標(biāo)記圖像的位置來(lái)確定標(biāo)記圖像的臨時(shí)位置；基于指示觀測(cè)儀的畸變量的二維分布的畸變圖和標(biāo)記圖像來(lái)確定用于校正臨時(shí)位置的校正量；并且通過(guò)基于校正量對(duì)臨時(shí)位置進(jìn)行校正來(lái)確定標(biāo)記的位置。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及確定標(biāo)記位置的方法、光刻方法、制造物品的方法、存儲(chǔ)器介質(zhì)和光刻裝置。

背景技術(shù)

可以通過(guò)使用觀測(cè)儀(scope)捕獲標(biāo)記的圖像并且處理獲得的圖像來(lái)檢測(cè)設(shè)置在基板等上的標(biāo)記的位置。如果觀測(cè)儀具有不可忽略的畸變(distortion)，那么畸變可能影響標(biāo)記的位置的檢測(cè)精確度。日本專利公開No.2005-285916公開了測(cè)量目標(biāo)的位置、將目標(biāo)饋送到光學(xué)系統(tǒng)的視野中心、并且然后再次測(cè)量目標(biāo)的位置的方法。日本專利公開No.2006-30021公開了通過(guò)預(yù)先獲取畸變對(duì)觀察目標(biāo)的區(qū)域的影響來(lái)校正測(cè)得的值的方法。

日本專利公開No.2005-285916中公開的方法要求將目標(biāo)放置到視野中心的處理，因此延長(zhǎng)測(cè)量所需的時(shí)間。因?yàn)榛兊挠绊懥扛鶕?jù)標(biāo)記的形狀而改變，所以日本專利公開No.2006-30021中公開的方法不能實(shí)現(xiàn)精確的校正。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種有利于以高精確度檢測(cè)標(biāo)記的位置的技術(shù)。

本發(fā)明的第一方面提供一種確定標(biāo)記位置的方法，該方法包括：基于通過(guò)使用捕獲標(biāo)記的圖像的觀測(cè)儀獲取的圖像上的標(biāo)記圖像的位置來(lái)確定標(biāo)記圖像的臨時(shí)位置；基于指示觀測(cè)儀的畸變量的二維分布的畸變圖和標(biāo)記圖像來(lái)確定用于校正臨時(shí)位置的校正量；并且通過(guò)基于校正量對(duì)臨時(shí)位置進(jìn)行校正來(lái)確定標(biāo)記的位置。

本發(fā)明的第二方面提供一種將圖案轉(zhuǎn)印到基板上的光刻方法，該方法包括：根據(jù)如第一方面限定的標(biāo)記位置確定方法來(lái)檢測(cè)設(shè)置在基板上的標(biāo)記的位置；并且基于在該檢測(cè)中檢測(cè)到的標(biāo)記的位置來(lái)將圖案轉(zhuǎn)印到基板上的目標(biāo)位置。

本發(fā)明的第三方面提供一種制造物品的方法，該方法包括：通過(guò)如第二方面限定的光刻方法將圖案轉(zhuǎn)印到基板上；對(duì)經(jīng)歷了該轉(zhuǎn)印的基板進(jìn)行處理；并且從經(jīng)歷了該處理的基板獲得物品。

本發(fā)明的第四方面提供一種存儲(chǔ)器介質(zhì)，該存儲(chǔ)器介質(zhì)存儲(chǔ)使計(jì)算機(jī)執(zhí)行如第一方面限定的標(biāo)記位置確定方法的程序。

本發(fā)明的第五方面提供一種光刻裝置，該光刻裝置包括被配置成捕獲設(shè)置在基板上的標(biāo)記的圖像的觀測(cè)儀和被配置成基于由觀測(cè)儀捕獲的圖像檢測(cè)標(biāo)記的位置的處理器，并且該光刻裝置被配置成基于由該處理器檢測(cè)到的標(biāo)記的位置將圖案轉(zhuǎn)印到基板上的目標(biāo)位置，該處理器被配置成：基于通過(guò)使用被配置成捕獲標(biāo)記的圖像的觀測(cè)儀獲取的圖像上的標(biāo)記圖像的位置，確定標(biāo)記圖像的臨時(shí)位置；基于指示觀測(cè)儀的畸變量的二維分布的畸變圖和標(biāo)記圖像，確定用于校正臨時(shí)位置的校正量，并且通過(guò)基于校正量對(duì)臨時(shí)位置進(jìn)行校正來(lái)確定標(biāo)記的位置。

從以下參考附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行的描述，本發(fā)明的更多特征將變得清楚。

附圖說(shuō)明

圖1是示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻裝置的布置的視圖；

圖2是示出對(duì)準(zhǔn)觀測(cè)儀的布置的示例的視圖；

圖3是示例性地示出用于預(yù)對(duì)準(zhǔn)的標(biāo)記的視圖；

圖4是示例性地示出用于精細(xì)對(duì)準(zhǔn)的標(biāo)記的視圖；

圖5是示出在第一模式下執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的同時(shí)使基板曝光的處理的流程圖；

圖6A和圖6B是各自示出用于在第二模式下執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的同時(shí)使基板曝光的處理的過(guò)程的流程圖；

圖7A和圖7B是用于說(shuō)明畸變的視圖；

圖8是示例性地示出位于視野的周邊部的區(qū)域的視圖；