[發明專利]標記位置確定方法、光刻方法、制造物品的方法、存儲器介質和光刻裝置

在審

• 申請號: 202010986241.3
• 申請日: 2020-09-18
• 公開（公告）號: CN112526835A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 江頭信一
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G01B11/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

1.一種確定標記位置的方法，其特征在于，包括：

基于通過使用捕獲標記的圖像的觀測儀獲取的圖像上的標記圖像的位置來確定所述標記圖像的臨時位置；

基于指示所述觀測儀的畸變量的二維分布的畸變圖和所述標記圖像來確定用于校正所述臨時位置的校正量；并且

通過基于所述校正量對所述臨時位置進行校正來確定所述標記的位置。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，在確定所述校正量時，基于與所述標記圖像的邊緣的位置相對應的畸變圖中的畸變量來確定所述校正量。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標記圖像具有與第一方向交叉的第一邊緣、以及與和第一方向正交的第二方向交叉的第二邊緣，

所述畸變量包括第一方向上的第一畸變量和第二方向上的第二畸變量，

所述校正量包括關于第一方向的第一校正量和關于第二方向的第二校正量，并且

在確定所述校正量時，基于與第一邊緣的位置相對應的畸變圖中的第一畸變量來確定第一校正量，并且基于與第二邊緣的位置相對應的畸變圖中的第二畸變量來確定第二校正量。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，在確定所述校正量時，通過執行與第一邊緣的多個位置相對應的多個第一畸變量的統計處理來確定第一校正量，并且通過執行與第二邊緣的多個位置相對應的多個第二畸變量的統計處理來確定第二校正量。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述統計處理包括獲得平均值的處理。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是算術均值。

7.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是加權平均值。

8.根據權利要求1所述的方法，還包括基于通過使用所述觀測儀捕獲布置有多個點的點圖的圖像而獲得的圖像來生成畸變圖。

9.根據權利要求1所述的方法，還包括在所述觀測儀的視野中的多個位置處順次地布置標記時，基于通過使用所述觀測儀捕獲的圖像來生成畸變圖。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，所述標記是點標記。

11.根據權利要求9所述的方法，其中，所述標記是對準標記。

12.一種將圖案轉印到基板上的光刻方法，其特征在于，所述方法包括：

根據權利要求1至11中的任一項限定的標記位置確定方法來檢測設置在基板上的標記的位置；并且

基于在所述檢測中檢測到的標記的位置來將圖案轉印到基板上的目標位置。

13.一種制造物品的方法，其特征在于，所述方法包括：

通過權利要求12中限定的光刻方法將圖案轉印到基板上；

對經歷了所述轉印的基板進行處理；并且

從經歷了所述處理的基板獲得物品。

14.一種存儲器介質，所述存儲器介質存儲使計算機執行權利要求1至11中的任一項限定的標記位置確定方法的程序。

15.一種光刻裝置，所述光刻裝置包括觀測儀和處理器，所述觀測儀被配置成捕獲設置在基板上的標記的圖像，所述處理器被配置成基于由所述觀測儀捕獲的圖像檢測所述標記的位置，并且所述光刻裝置被配置成基于由所述處理器檢測到的標記的位置將圖案轉印到基板上的目標位置，

所述處理器被配置成：

基于通過使用被配置成捕獲標記的圖像的觀測儀獲取的圖像上的標記圖像的位置，確定所述標記圖像的臨時位置；

基于指示所述觀測儀的畸變量的二維分布的畸變圖和所述標記圖像，確定用于校正所述臨時位置的校正量；并且

通過基于所述校正量對所述臨時位置進行校正來確定所述標記的位置。