[發(fā)明專利]平面度檢測設(shè)備、方法和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010982841.2 | 申請日: | 2020-09-17 |
| 公開(公告)號: | CN112066917B | 公開(公告)日: | 2023-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王河;許向陽;艾博;陳威 | 申請(專利權(quán))人: | 北京半導體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所) |
| 主分類號: | G01B11/30 | 分類號: | G01B11/30;G06T7/00;G06T7/90;G06T7/55 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 鐘揚飛 |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平面 檢測 設(shè)備 方法 電子設(shè)備 | ||
本申請?zhí)峁┮环N平面度檢測設(shè)備、方法和電子設(shè)備,平面度檢測設(shè)備包括:攝取組件,用于根據(jù)原始光路攝取目標圖像;分光組件,用于將原始光路分成第一光路和第二光路;第一獲取組件,用于獲取第一光路處的第一檢測圖像;第二獲取組件,用于獲取第二光路處的第二檢測圖像;處理組件,電性連接于第一獲取組件和第二獲取組件,用于根據(jù)第一圖像和第二圖像的對比度數(shù)據(jù),計算目標圖像的平面度數(shù)據(jù)。本申請?zhí)峁┑钠矫娑葯z測設(shè)備、方法和電子設(shè)備,使用圖像處理方法將景深范圍和焦內(nèi)平面高度相關(guān)聯(lián),克服現(xiàn)有平面度檢測裝置不易安裝等缺陷,具有準確率高,易檢測等優(yōu)點。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及芯片檢測領(lǐng)域,具體而言,涉及一種平面度檢測設(shè)備、方法和電子設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著紅外成像技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,對于紅外探測器組件的平面度有了更高的要求,目前對于平面度的測量一般通過專業(yè)的測量工具進行測量,受到圖像景深、量產(chǎn)、特殊工作臺等環(huán)境因素影響,景深通常是指攝像鏡頭對待攝場景能夠清晰成像的物距范圍,現(xiàn)如今,對于景深范圍只有概念性的解答,但是對于焦內(nèi)沒有明確的定量關(guān)系。現(xiàn)需要一種簡易的平面度檢測裝置,對探測器組件進行觀察、檢測。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例的目的在于提供一種平面度檢測設(shè)備、方法和電子設(shè)備,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題。
第一方面,本發(fā)明實施例提供一種平面度檢測設(shè)備,包括:攝取組件,用于根據(jù)原始光路攝取目標圖像;分光組件,用于將原始光路分成第一光路和第二光路;第一獲取組件,用于獲取第一光路處的第一檢測圖像;第二獲取組件,用于獲取第二光路處的第二檢測圖像;處理組件,電性連接于第一獲取組件和第二獲取組件,用于根據(jù)第一圖像和第二圖像的對比度數(shù)據(jù),計算目標圖像的平面度數(shù)據(jù)。
在可選的實施方式中,分光組件包括:透光介質(zhì);入射面,設(shè)置在透光介質(zhì)靠近攝取組件的一端,入射面垂直于原始光路;第一折射面,設(shè)置在透光介質(zhì)內(nèi),第一折射面用于將原始光路向第一方向折射,形成第一光路;第二折射面,設(shè)置在透光介質(zhì)遠離攝取組件的另一端,第二折射面用于將原始光路向第二方向折射,形成第二光路。
在可選的實施方式中,第一光路與第二光路之間具有高度差。
在可選的實施方式中,第一光路垂直于原始光路。
在可選的實施方式中,第一獲取組件包括:第一折射部,設(shè)置在第一光路的傳播路徑上,用于將第一光路折射,形成第三光路;第一檢測器,用于接收第三光路的入射光,生成第一檢測圖像。
在可選的實施方式中,第二光路垂直于原始光路。
在可選的實施方式中,第二獲取組件包括:第二折射部,設(shè)置在第二光路的傳播路徑上,用于將第二光路折射,形成第四光路;第二檢測器,用于接收第四光路的入射光,生成第二檢測圖像。
在可選的實施方式中,透光介質(zhì)包括:棱鏡。
第二方面,本發(fā)明實施例提供一種平面度檢測方法,應(yīng)用于上述前述實施方式任一項的設(shè)備,包括:獲取第一檢測圖像和第二檢測圖像;比較第一檢測圖像的對比度和第二檢測圖像的對比度的大小,生成對比度比較結(jié)果;判斷第一檢測圖像和第二檢測圖像是否在預設(shè)景深范圍內(nèi),生成范圍檢測結(jié)果;根據(jù)對比度比較結(jié)果、范圍檢測結(jié)果和預設(shè)探測高度對照表,生成探測高度數(shù)據(jù)。
第三方面,本發(fā)明實施例提供一種電子設(shè)備,包括:存儲器,用以存儲計算機程序;處理器,用以執(zhí)行如前述實施方式中任一項的方法。
本申請?zhí)峁┑钠矫娑葯z測方法,使用圖像處理方法將景深范圍和焦內(nèi)平面高度相關(guān)聯(lián),克服現(xiàn)有平面度檢測裝置不易安裝等缺陷,具有準確率高,易檢測等優(yōu)點。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京半導體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所),未經(jīng)北京半導體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010982841.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





