[發(fā)明專利]平面度檢測(cè)設(shè)備、方法和電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010982841.2
• 申請(qǐng)日: 2020-09-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112066917B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王河;許向陽(yáng);艾博;陳威
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所（中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所）
• 主分類號(hào): G01B11/30
• 分類號(hào): G01B11/30;G06T7/00;G06T7/90;G06T7/55
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 鐘揚(yáng)飛

1.一種平面度檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，包括：

攝取組件，用于根據(jù)原始光路攝取目標(biāo)圖像；

分光組件，用于將所述原始光路分成第一光路和第二光路；所述第一光路和所述第二光路具有高度差，且控制在預(yù)設(shè)的景深范圍內(nèi)；

第一獲取組件，用于獲取所述第一光路處的第一檢測(cè)圖像；

第二獲取組件，用于獲取所述第二光路處的第二檢測(cè)圖像；

處理組件，電性連接于所述第一獲取組件和所述第二獲取組件，所述處理組件用于：根據(jù)所述第一檢測(cè)圖像和所述第二檢測(cè)圖像的對(duì)比度數(shù)據(jù)，獲取對(duì)比度比較結(jié)果；判斷所述第一檢測(cè)圖像和所述第二檢測(cè)圖像是否在預(yù)設(shè)景深范圍內(nèi)，生成范圍檢測(cè)結(jié)果；根據(jù)所述對(duì)比度比較結(jié)果、所述范圍檢測(cè)結(jié)果和預(yù)設(shè)探測(cè)高度對(duì)照表，生成探測(cè)高度數(shù)據(jù)，進(jìn)而得到目標(biāo)圖像的平面度數(shù)據(jù)；

所述分光組件包括：

透光介質(zhì)；

入射面，設(shè)置在所述透光介質(zhì)靠近所述攝取組件的一端，所述入射面垂直于所述原始光路；

第一折射面，設(shè)置在所述透光介質(zhì)內(nèi)，所述第一折射面用于將所述原始光路向第一方向折射，形成第一光路；

第二折射面，設(shè)置在所述透光介質(zhì)遠(yuǎn)離所述攝取組件的另一端，所述第二折射面用于將所述原始光路向第二方向折射，形成第二光路。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述第一光路垂直于所述原始光路。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述第一獲取組件包括：

第一折射部，設(shè)置在所述第一光路的傳播路徑上，用于將所述第一光路折射，形成第三光路；

第一檢測(cè)器，用于接收所述第三光路的入射光，生成所述第一檢測(cè)圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述第二光路垂直于所述原始光路。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述第二獲取組件包括：

第二折射部，設(shè)置在所述第二光路的傳播路徑上，用于將所述第二光路折射，形成第四光路；

第二檢測(cè)器，用于接收所述第四光路的入射光，生成所述第二檢測(cè)圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述透光介質(zhì)包括：棱鏡。

7.一種平面度檢測(cè)方法，應(yīng)用于上述權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，包括：

獲取第一檢測(cè)圖像和第二檢測(cè)圖像；

比較所述第一檢測(cè)圖像的對(duì)比度和所述第二檢測(cè)圖像的對(duì)比度的大小，生成對(duì)比度比較結(jié)果；

判斷所述第一檢測(cè)圖像和所述第二檢測(cè)圖像是否在預(yù)設(shè)景深范圍內(nèi)，生成范圍檢測(cè)結(jié)果；

根據(jù)所述對(duì)比度比較結(jié)果、所述范圍檢測(cè)結(jié)果和預(yù)設(shè)探測(cè)高度對(duì)照表，生成探測(cè)高度數(shù)據(jù)。

8.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

存儲(chǔ)器，用以存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序；

處理器，用以執(zhí)行如權(quán)利要求7所述的方法。