[發明專利]掩膜板及其制備方法、顯示基板及顯示裝置

在審

• 申請號: 202010976329.7
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112080721A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 王彥磊
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/00
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 解立艷

一種掩膜板及其制備方法顯示基板及顯示裝置，其中，掩膜板包括：掩膜板主體；位于所述掩膜板主體一側表面的隔墊部，所述隔墊部的側壁和所述隔墊部背向掩膜板主體的頂面之間平緩過渡。所述掩膜板能夠避免在蒸鍍過程中對顯示基板的損傷，避免顯示基板薄膜封裝失效。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種、掩膜板及其制備方法、顯示基板及顯示裝置。

背景技術

有機發光二極管(Organic Light－Emitting Diode，簡稱OLED)顯示器，又稱為有機電致發光顯示器，是一種新興的平面顯示器。與現有的液晶顯示器相比，其具有自主發光、視角寬、超輕、超薄、高亮度、低功耗和快響應等一系列的優點，并且響應速度可達液晶顯示器的1000倍，因此，OLED顯示器成為國內外非常熱門的平面顯示器產品，具有廣闊的應用前景。OLED顯示器的結構包括：基板；依次層疊設置在基板上的陽極、有機功能層和陰極；以及封裝在基板上的蓋板。其中，有機功能層包括空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層和電子注入層。

在制備OLED顯示基板的過程中，要用到蒸鍍掩膜板在待蒸鍍的OLED基板上蒸鍍發光材料，從而形成像素區域。

然而，采用現有的掩膜板蒸鍍后形成的顯示基板的封裝性能較差。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于克服現有技術中蒸鍍后的顯示基板的封裝失效的問題。

為了解決上述技術問題，本發明提供一種掩膜板，包括：掩膜板主體；位于所述掩膜板主體一側表面的隔墊部，所述隔墊部的側壁和所述隔墊部背向掩膜板主體的頂面之間平緩過渡。

可選的，所述隔墊部的側壁和所述隔墊部背向掩膜板主體的頂面之間呈倒圓角。

可選的，所述隔墊部的表面粗糙度小于或等于0.8μm。

可選的，所述掩膜板主體包括蒸鍍區和包圍所述蒸鍍區的外圍區，所述蒸鍍區中具有若干蒸鍍開口；所述隔墊部包括第一隔墊部和第二隔墊部，或者，所述隔墊部為第一隔墊部，或者，所述隔墊部為第二隔墊部；所述第一隔墊部位于所述外圍區的表面，所述第二隔墊部位于所述蒸鍍開口之間的蒸鍍區的表面。

可選的，當所述隔墊部包括第一隔墊部時，所述第一隔墊部呈環繞所述蒸鍍區的環狀結構。

可選的，當所述隔墊部包括第二隔墊部時，所述第二隔墊部的個數與所述蒸鍍開口的個數之比的取值范圍為1/18～2/9。

可選的，所述第二隔墊部均勻的分布在所述蒸鍍區的表面。

可選的，所述隔墊部的高度的取值范圍為1.5μm～2μm；所述隔墊部的寬度的取值范圍設置為17μm～20μm。

本發明還提供一種掩膜板的制備方法，包括：形成掩膜板主體；在所述掩膜板主體的一側表面形成初始隔墊部；對所述初始隔墊部背離所述掩模板主體一側的頂角進行圓滑處理，使初始隔墊部形成隔墊部，所述隔墊部的側壁和頂面之間平緩過渡。

可選的，所述圓滑處理為濕法刻蝕工藝。

可選的，所述濕法刻蝕工藝的刻蝕溶液的成分包括三氯化鐵，所述三氯化鐵的質量百分比濃度的取值范圍為3％～5％，所述濕法刻蝕工藝的刻蝕溫度的取值范圍為25攝氏度～40攝氏度。

本發明還提供一種顯示基板，包括：基板，所述基板表面設置有像素限定層，所述像素限定層的表面設置有輔助功能層，所述輔助功能層的表面適于與本發明的掩膜板的隔墊部接觸。

可選的，所述像素限定層的表面設置有隔墊物，所述隔墊物的高度小于所述隔墊部的高度。

可選的，所述像素限定層包括隔離結構和由所述隔離結構圍合形成的像素開口，所述輔助功能層與所述隔離結構背離基板的表面直接接觸。