[發(fā)明專利]一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置

在審

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• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112197728A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設計）人: 侯榮華;彭俊杰;王紅雪;劉敏強;寧樹興;柴喜紅;文首名
• 申請（專利權）人: 北京清碳科技有限公司
• 主分類號: G01B21/08
• 分類號: G01B21/08;G01D21/00
• 代理公司: 北京艾皮專利代理有限公司 11777
• 代理人: 李德勝

本發(fā)明適用于單晶金剛石生產設備技術領域，提供了一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置；包括：底座；固定安裝在底座上的文丘里管、第一混合腔、第二混合腔、電離室和沉積室；所述沉積室上設置有觀察窗，所述底座上固定安裝有支架，所述支架上設置有位置可調的監(jiān)測設備，所述監(jiān)測設備設置在觀察窗的上方；所述文丘里管、第一混合腔、第二混合腔、電離室和沉積室依次連通；所述文丘里管的頸部設置有與其內部連通的第一輸入端。本發(fā)明實現(xiàn)了對金剛石成長情況的檢測，同時保證了金剛石的成長質量。

技術領域

本發(fā)明涉及單晶金剛石生產設備技術領域，具體是一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置。

背景技術

采用微波等離子體化學氣相沉積設備生長克拉級單晶金剛石時，晶種放入CVD設備后需要進行10-15天左右的長時間生長，生長過程中由于技術工藝水平、晶種質量、外部環(huán)境因素等等各種條件的影響，非常容易在某一時間節(jié)點出現(xiàn)多晶生長、黑色碳包裹體、以及內部應力問題，進而影響產品良率，造成成本的增加。

需要設置監(jiān)測裝置對金剛石的生長情況進行監(jiān)測，而現(xiàn)有的監(jiān)測裝置只能夠對金剛石進行監(jiān)測，不能夠保證金剛石的成長質量，因此現(xiàn)提供一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置來解決該技術問題。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：

一種單晶金剛石生長過程中的監(jiān)測裝置，包括：底座；固定安裝在底座上的文丘里管、第一混合腔、第二混合腔、電離室和沉積室；

所述沉積室上設置有觀察窗，所述底座上固定安裝有支架，所述支架上設置有位置可調的監(jiān)測設備，所述監(jiān)測設備設置在觀察窗的上方；

所述文丘里管、第一混合腔 、第二混合腔、電離室和沉積室依次連通；

所述文丘里管的頸部設置有與其內部連通的第一輸入端。

作為本發(fā)明進一步的方案：所述第一混合腔與文丘里管連通處設置有分散件。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述分散件包括設置在底部的圓錐件和安裝在圓錐件上的圓柱件，所述圓柱件外側陣列設置有多個螺旋葉片。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述第二混合腔內部三個角上均設置有傾斜設置的反射角，另一個角處設置有輸出端；其中一個反射角與第二混合腔的輸入端正對。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述電離室內部設置有微波發(fā)生器。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述沉積室內部設置有高度可調的沉積平臺，所述沉積室內部還是有用于調整沉積平臺高度的調整組件。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述調整組件包括固定設置在沉積平臺底部兩側的L型連接件，兩側所述L型連接件上均設置有與其螺紋孔配合的螺桿，所述螺桿轉動安裝在沉積室內部支架上，所述螺桿上還套置有第一齒輪，兩側所述第一齒輪均與第二齒輪嚙合，所述第二齒輪設置在調整電機的輸出端，所述調整電機固定安裝在沉積室內部。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述沉積室四周陣列設置有多個進氣口，所述進氣口均傾斜設置，該設置進而使得進入至沉積室內部電離氣體旋轉設置，多個進氣口通過管道與套置在沉積室外側的供氣環(huán)連通，所述供氣環(huán)與電離室的輸出端連通。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述支架上設置有用于對監(jiān)測設備位置進行調整的移動組件。

作為本發(fā)明再進一步的方案：所述移動組件包括滑桿和絲杠，所述滑桿和絲杠分別轉動安裝在支架上，所述滑桿和絲杠均穿過監(jiān)測設備上部設置，且絲杠與監(jiān)測設備上的螺紋口配合，所述支架上還設置有與傳動連接的轉動電機。