[發(fā)明專利]成膜裝置及埋入處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010974944.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112575297B | 公開(公告)日: | 2023-02-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 西垣壽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;H05K9/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 馬爽;臧建明 |
| 地址: | 日本神奈川縣橫浜市榮區(qū)笠間二*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 埋入 處理 | ||
本發(fā)明提供一種埋入處理裝置及成膜裝置,埋入處理裝置進(jìn)行使電子零件的電極露出面與保護(hù)片良好地密接的埋入處理,成膜裝置對(duì)進(jìn)行了埋入處理的電子零件進(jìn)行成膜處理。實(shí)施方式的成膜裝置包括埋入處理部、成膜處理部,其中埋入處理部包括:腔室,能夠使內(nèi)部成為真空;片加壓體,設(shè)置在腔室內(nèi),且位于隔著保護(hù)片與電子零件相反的一側(cè);零件加壓體,設(shè)置在腔室內(nèi),且位于隔著電子零件與保護(hù)片相反的一側(cè);片側(cè)彈性體,設(shè)置在片加壓體上,且具有與保護(hù)片相向的平坦的片相向面;平坦的零件相向面,設(shè)置在零件加壓體上,與電子零件相向;以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),使片加壓體與零件加壓體相對(duì)移動(dòng),從而在片相向面與零件相向面之間,將電子零件與保護(hù)片按壓貼合。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在已被粘貼在保護(hù)片上的電子零件上進(jìn)行成膜的成膜裝置、及將電子零件埋入保護(hù)片的粘著面的埋入處理裝置。
背景技術(shù)
在以移動(dòng)手機(jī)為代表的無(wú)線通信機(jī)器中搭載有許多半導(dǎo)體裝置等電子零件。電子零件為了經(jīng)過(guò)各種處理而被從處理裝置朝處理裝置搬送。作為處理的代表例,可列舉電磁波屏蔽膜的形成。為了防止對(duì)于通信特性的影響,電磁波屏蔽膜抑制電磁波朝外部的泄漏等電磁波對(duì)于內(nèi)外的影響。通常,電子零件通過(guò)密封樹脂來(lái)形成外形而成,為了遮蔽電磁波,在此密封樹脂的頂面及側(cè)面設(shè)置導(dǎo)電性的電磁波屏蔽膜(參照專利文獻(xiàn)1)。
作為電磁波屏蔽膜的形成方法,已知有電鍍法。但是,電鍍法需要前處理工序、電鍍處理工序、及如水洗那樣的后處理工序等濕式工序,因此無(wú)法避免電子零件的制造成本的上升。因此,作為干式工序的濺射法正受到關(guān)注。在濺射法中,將惰性氣體導(dǎo)入配置有靶的真空容器中,并施加電壓。于是,已等離子體化的惰性氣體的離子碰撞成膜材料的靶,并使已被從靶中打出的粒子堆積在電子零件上。此堆積層成為電磁波屏蔽膜。
實(shí)現(xiàn)濺射法的成膜裝置包括:內(nèi)部成為真空室的圓柱狀的腔室、被收容在腔室內(nèi)并具有與此腔室同軸的旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)臺(tái)、及在腔室內(nèi)經(jīng)劃分的成膜位置。將電子零件載置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上,并使旋轉(zhuǎn)臺(tái)沿著圓周方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn),由此使電子零件到達(dá)成膜位置,而使電磁波屏蔽膜成膜。如此,在處理裝置內(nèi)也存在電子零件的旋轉(zhuǎn)搬送。
在此種在裝置內(nèi)外的電子零件的搬送中,存在電子零件因加減速或旋轉(zhuǎn)等而受到慣性力,產(chǎn)生電子零件的顛倒、或從成膜位置上的脫落的擔(dān)憂。因此,電子零件被粘貼在粘著膜上來(lái)搬送,接受電磁波屏蔽膜的成膜。可通過(guò)抵抗慣性力的粘著力而阻攔電子零件并將其保持在適當(dāng)位置上。以下,將此種粘著膜稱為保護(hù)片。
保護(hù)片不僅提高電子零件的阻攔性,而且防止成膜處理時(shí)電磁波屏蔽膜的粒子附著在電極上,維持電極間的絕緣。電子零件的電極一般被稱為焊球凸塊,通過(guò)將直徑為幾十μm~幾百μm的球狀焊料(焊球)與電子零件的焊盤電極接合而形成。電極從電子零件的電極露出面露出,配置成矩陣(行列)狀。
將此種電極埋入具有柔軟性的粘著膜,使電極露出面與保護(hù)片密接。電極的埋入通過(guò)將電子零件載置在保護(hù)片的粘著面上并按壓來(lái)進(jìn)行。由此,電極及電極露出面被保護(hù)片覆蓋,所以電磁波屏蔽膜的粒子無(wú)法進(jìn)入電極露出面與保護(hù)片之間,不會(huì)到達(dá)電極。
[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[專利文獻(xiàn)]
[專利文獻(xiàn)1]國(guó)際公開第2013/035819號(hào)公報(bào)
[專利文獻(xiàn)2]日本專利特開平6-97268號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
[發(fā)明所要解決的問(wèn)題]
如上所述,為了將電子零件的電極埋入保護(hù)片中,即使將電子零件按壓在保護(hù)片上,保護(hù)片的表面有時(shí)也不會(huì)依照電極的表面以及電極露出面而變形。于是,在電極露出面與保護(hù)片之間有可能產(chǎn)生與外部相通的間隙、或不與外部相通的空隙。
在成膜處理時(shí),電磁波屏蔽膜的粒子從與外部相通的間隙進(jìn)入。如果進(jìn)入間隙的電磁波屏蔽膜的粒子以在電極間交聯(lián)的方式附著,則無(wú)法維持電極間的絕緣性。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





