[發明專利]一種（右）佐匹克隆光降解雜質的制備方法

在審

• 申請號: 202010973436.4
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112094275A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 劉彥彬;吳艷華;劉曉;寇磊;王大磊;張斌
• 申請（專利權）人: 迪嘉藥業集團有限公司;迪沙藥業集團有限公司
• 主分類號: C07D487/04
• 分類號: C07D487/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1. 向反應釜中加入化合物Ⅱ或化合物Ⅲ，加入化合物Ⅱ或化合物Ⅲ投料量5～15倍體積的有機溶劑A，控制溫度為-10～-15℃，攪拌并緩慢滴加二異丁基氫化鋁，滴畢保持-30～10℃反應2h，所述有機溶劑A選自甲苯、二甲苯、氯苯中的一種或他們的組合；

步驟2. 將步驟1所得溫度控制在0℃以下，滴加化合物Ⅱ或化合物Ⅲ投料量5倍體積的甲醇，滴加完畢后攪拌0.5～1h，將反應液倒入化合物Ⅱ或化合物Ⅲ投料量100倍體積0～5℃的1N鹽酸中攪拌0.5～1h；

步驟3.過濾步驟2中所得反應液，濾液利用化合物Ⅱ或化合物Ⅲ投料量10倍體積飲用水洗滌后分液，所得有機相減壓蒸干溫度為50～60℃，真空度為-0.08～-0.10MPa，得淺黃色油狀物；

步驟4.向步驟3所得油狀物中加入化合物Ⅱ或化合物Ⅲ投料量10倍體積的石油醚和乙酸乙酯混合溶液（乙酸乙酯與石油醚的體積比為1:3～10），攪拌溶清后保持-15～5℃，并攪拌2h析晶，抽濾，濾餅于40～50℃干燥既得到式I所示的（右）佐匹克隆光降解雜質；

合成路線如下所示：

。

2.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1所述有機溶劑A選自甲苯。

3.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅱ化合物與二異丁基氫化鋁的投料摩爾比為1:0.3～1.0。

4.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅱ化合物與二異丁基氫化鋁的投料摩爾比1:0.45。

5.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅲ化合物與二異丁基氫化鋁的投料摩爾比為1:0.6～2.0。

6.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅲ化合物與二異丁基氫化鋁的投料摩爾比為1:0.90。

7.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅱ化合物或式Ⅲ化合物與反應溶劑的質量體積比為1:5.0～15.0。

8.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟1式Ⅱ化合物或式Ⅲ化合物與反應溶劑的質量體積比為1:10.0。

9.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟4溶劑乙酸乙酯與石油醚的體積比為1:5。

10.根據權利要求1所述化合物Ⅰ的制備方法，其特征在于，步驟4析晶溫度為-5～-10℃。