[發明專利]表面增強拉曼散射基底及其制備方法

有效

• 申請號: 202010971591.2
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112098390B
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 王風彥;曾玉蓮;杜大學;王海燕;徐朝鵬
• 申請（專利權）人: 燕山大學
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;B22F1/00;B22F9/24
• 代理公司: 北京孚睿灣知識產權代理事務所(普通合伙) 11474
• 代理人: 葛凡

1.一種表面增強拉曼散射基底，其特征在于，表面增強拉曼散射基底由四面體和立方體銀納米粒子散落在ZnO納米塔陣列上構成，

四面體和立方體的銀納米粒子平均直徑為60～80nm，

ZnO納米塔形似六棱柱，在尖端處棱柱直徑逐漸減小，形成階梯狀形貌，ZnO納米塔的平均長度為2～4μm，半身高處平均直徑為500～800nm。

2.根據權利要求1所述的表面增強拉曼散射基底，其特征在于，ZnO納米塔的平均長度為2.5～3.5μm，半身高處平均直徑為650nm～750nm。

3.一種表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，其包含：

納米銀溶膠制備工序，將無機銀鹽和聚乙烯吡咯烷酮溶于有機溶劑中，混合均勻，在160～180℃加熱反應20～24小時，冷卻至室溫，將產物純化后分散在乙醇中得到納米銀溶膠；

納米塔準備工序，將羥基化處理過的硅片，懸掛于由氯化鋅和氨水構成的ZnO納米塔生長溶液中，密封加熱至85～95℃，進行50～90分鐘的反應，生長ZnO納米塔陣列，反應結束后，取出硅片，清洗干燥，得到ZnO納米塔陣列；ZnO納米塔生長溶液通過將氯化鋅溶于蒸餾水中，攪拌5min后，再投入氨水，攪拌8～15min制備得到,相對于1g氯化鋅，投料1.48～5.56ml的氨水；

組裝工序，將納米銀溶膠滴鑄于ZnO納米塔陣列，從而組裝得到銀/氧化鋅納米塔表面增強拉曼散射基底。

4.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，無機銀鹽使用硝酸銀，有機溶劑使用N，N-二甲基甲酰胺。

5.根據權利要求4所述的表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，相對于1質量份的硝酸銀，聚乙烯吡咯烷酮的投料量是8質量份～20質量份。

6.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，納米銀溶膠制備工序中，分散在乙醇中得到的納米銀溶膠濃度為2×10^-4g/ml～2.5×10^-3g/ml。

7.根據權利要求3所述的表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，組裝工序中，每1cm²ZnO納米塔陣列滴加的納米銀溶膠的量為0.2～0.6 ml。