[發明專利]掩模板的定位點制作方法和掩模板

在審

• 申請號: 202010968063.1
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN112445061A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 潘仲光;陳霞玲;賈建榮
• 申請（專利權）人: 阿德文泰克全球有限公司
• 主分類號: G03F1/42
• 分類號: G03F1/42;G06T7/00;G06T7/11;G06T7/70;G06T7/90
• 代理公司: 北京太合九思知識產權代理有限公司 11610
• 代理人: 柴艷波;劉戈

1.一種掩模板的定位點制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

第一金屬層(31)制作：在基板(1)的表面制作第一金屬層(31)；

變色：對所述第一金屬層(31)的表面作變色處理；

第二金屬層(32)制作：在基板(1)的表面制作第二金屬層(32)，所述第二金屬層(32)覆蓋部分所述第一金屬層(31)，并在所述第一金屬層(31)的所在區域留出通孔(4)。

2.根據權利要求1所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第一金屬層(31)制作步驟，包括：

第一圖形膜(22)制作：在所述基板(1)的表面制作第一圖形膜(22)，所述第一圖形膜(22)的橫截面圍合成封閉的平面圖形；

第一次電鑄和退膜：通過電鑄的方式，在基板(1)的位于所述平面圖形內部的表面制作第一金屬層(31)，并去除所述第一圖形膜(22)。

3.根據權利要求2所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第一圖形膜(22)制作步驟，包括：

第一膜層(21)制作：在基板(1)上制作第一膜層(21)；

第一次曝光顯影：在所述第一膜層(21)上曝光出圖形區域，將第一膜層(21)的未曝光的區域通過顯影去除，所留下的膜層即構成所述第一圖形膜(22)。

4.根據權利要求2所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第一次電鑄和退膜的步驟，包括：

在所述基板(1)上電鑄第一金屬層(31)；

去除所述第一圖形膜(22)，并揭去所述基板(1)上位于平面圖形外部的金屬。

5.根據權利要求1所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，在所述變色步驟中，通過腐蝕方式使所述第一金屬層(31)的表面發黑。

6.根據權利要求1所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第二金屬層(32)制作步驟，包括：

第二圖形膜(52)制作：在所述基板(1)的表面制作第二圖形膜(52)，所述第二圖形膜(52)位于所述第一金屬層(31)上；

第二次電鑄和退膜：通過電鑄的方式，在所述基板(1)上制作第二金屬層(32)，并去除所述第二圖形膜(52)。

7.根據權利要求6所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第二圖形膜(52)制作步驟，包括：

第二膜層(51)制作：在所述基板(1)上制作第二膜層(51)，所述第二膜層(51)覆蓋所述第一金屬層(31)；

第二次曝光顯影：在所述第二膜層(51)上曝光出圖形區域，將第二膜層(51)的未曝光的區域通過顯影去除，所留下的膜層即構成所述第二圖形膜(52)。

8.根據權利要求6所述的掩模板的定位點制作方法，其特征在于，所述第二次電鑄和退膜的步驟，包括：

在所述基板(1)上電鑄第二金屬層(32)；

去除所述第二圖形膜(52)，露出所述第一金屬層(31)。

9.一種掩模板，其特征在于，所述掩模板通過權利要求1至8中任意一項所述的方法制作。

10.一種掩模板，其特征在于，包括：

本體(6)，所述本體(6)的表面設置有盲孔(7)，所述盲孔(7)的底壁上的金屬材料的顏色與所述本體(6)表面的金屬材料的顏色不同。

11.根據權利要求10所述的掩模板，其特征在于，所述盲孔(7)的底壁上的金屬材料為黑色。

12.根據權利要求11所述的掩模板，其特征在于，所述盲孔(7)的底壁上的金屬材料的顏色是通過腐蝕工藝得到的。