[發明專利]一種無痕粘接的逆反射復合膜及用其編織裝飾材料的方法在審
| 申請號: | 202010967110.0 | 申請日: | 2020-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN112140675A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發明(設計)人: | 覃大立;胡娜珍;章瑩瑩 | 申請(專利權)人: | 深圳市魯工材料科技實驗室 |
| 主分類號: | B32B27/08 | 分類號: | B32B27/08;B32B27/30;B32B27/36;B32B27/40;B32B33/00;B29D7/01 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518051 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 無痕粘接 逆反 復合 編織 裝飾 材料 方法 | ||
本發明針對現有逆反射復合膜在材料品相以及實際應用上的不足,提出了一種表面無循環重復的粘接紋理,采用熱壓復合工藝保護印刷圖案,且具有抗污自潔功能的無痕粘接的逆反射復合膜,并提供了該逆反射復合膜的制備方法,包含熱壓復合工藝、逆反射結構制備步驟、火焰處理工藝、無痕粘接工藝。近年來,服裝、箱包行業嘗試引入逆反射復合膜,以期得到更復雜的光影效果并為產品附加安全功能。與此同時,建筑設計行業維持著對形態、結構、光影效果獨特的裝飾材料的需求,而逆反射復合膜還尚未形成一種有獨特視覺效果、工藝穩定的裝飾材料。因此,本發明提供了將該無痕粘接的逆反射復合膜焊接分切為雙面逆反射編織條,通過編織應用于裝飾材料領域的方法。
技術領域
本發明提出了一種表面無循環重復的粘接紋理,采用熱壓復合工藝保護印刷圖案,且具有抗污自潔功能的逆反射復合膜,并提供了該無痕粘接的逆反射復合膜的制備方法,主要包括熱壓復合工藝、逆反射結構制備步驟、火焰處理工藝、無痕粘接工藝。本發明同時提供了將該無痕粘接的逆反射復合膜焊接分切為雙面逆反射編織條,通過編織應用于裝飾材料領域的方法。
背景技術
逆反射復合膜因具有逆反射結構可以二次利用光源,近年來被大量應用在交通安全領域示距、示廓。并且作為印刷承載物,通過在逆反射復合膜表面印刷圖案,應用在車輛、行車道標,以及反光衣、安全帽等隨身物品上,主要起警視作用、指示作用。
逆反射結構二次利用光源的原理是使入射光線在微米級的逆反射結構單元與單元間的空氣之間,經過多次折射后以0.2°~1°的角度差向光源方向折回,因此在保護逆反射結構時需要保留逆反射結構單元間的空氣層。目前市面流通的逆反射復合膜逆反射結構保護工藝主要有以下兩種:1、應用凸版印刷工藝在逆反射結構面局部印刷壓敏膠后與逆反射結構保護膜粘接;2、將等尺寸的逆反射復合膜、熱熔膠膜、逆反射結構保護膜依序重疊后,用金屬模具局部加熱加壓溶解熱熔膠,完成逆反射復合膜的逆反射結構面與逆反射結構保護膜的粘接。為確保粘接強度,方法1、方法2在粘接區域,要求膠粘劑填滿逆反射結構面逆反射單元間的空隙再與逆反射結構保護膜粘接。自然光下觀測粘接區域,顏色加深,表現為逆反射復合膜上的明顯暗紋;強光直射下觀測粘接區域,粘接區域不反光,表現為逆反射復合膜上的暗點,破壞材料品相。針對該問題,本發明提出了一種無痕粘接工藝,其原理是在逆反射結構保護膜上滿版涂布光敏膠,通過對逆反射結構保護膜上下膠量、涂布輥壓力、相對加工速度的調整,控制膠粘劑與逆反射結構的結合深度為0.01mm~0.03mm,在高度為0.12mm~0.15mm的逆反射結構單元間保留空氣層。該工藝以200倍顯微觀測下對逆反射結構的微米級火焰處理作為確保粘接強度的前提之一。加工后,材料在自然光下觀測品相完好無瑕疵,在強光照射下觀測逆反射亮度均勻無暗點。
目前市面流通的逆反射復合膜上色出圖方法包括以下幾種:1、在逆反射復合膜表面印刷上圖后直接裸露印刷圖案面或在表面粘接一層保護膜;2、將圖案印刷在透明材料上,再將透明材料粘接在逆反射復合膜上,印刷圖案處于該透明材料與逆反射復合膜之間;3、在制備逆反射復合膜膜材時在塑料母粒中添加色母粒共同熱塑成型。方法1中直接裸露的印刷圖案層或因粘接保護層的膠粘劑老化脫落而裸露出的印刷圖案層,圖案易受外力磨損或環境侵蝕;方法二中帶有印刷圖案的透明材料在膠粘劑老化后將直接從逆反射復合膜上脫落;方法3色母粒只能大面積上色。本發明采用熱壓復合工藝保護印刷圖案,將圖案保護膜覆蓋在印刷底膜的印刷圖案面上,經過烘道干燥、預熱,在5MPa~7MPa加工壓力下加熱至粘流態后保型冷卻,使印刷底膜與圖案保護膜緊密結合。且該工藝通過選擇不同材質膜材制備復合膜可使復合膜在相應性能上得到提升。
逆反射復合膜大量應用于交通安全領域,在實際應用中材料表面附著油垢、塵埃將削弱逆反射性能,人工沖洗則需耗費大量勞動力和水資源,因此本發明引入納米級抗污自潔涂料處理逆反射復合膜表面,使之在實際應用中達到材料壽命年限內的免維護。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市魯工材料科技實驗室,未經深圳市魯工材料科技實驗室許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010967110.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





