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[發明專利]一種無痕粘接的逆反射復合膜及用其編織裝飾材料的方法在審

專利信息
申請號: 202010967110.0 申請日: 2020-09-18
公開(公告)號: CN112140675A 公開(公告)日: 2020-12-29
發明(設計)人: 覃大立;胡娜珍;章瑩瑩 申請(專利權)人: 深圳市魯工材料科技實驗室
主分類號: B32B27/08 分類號: B32B27/08;B32B27/30;B32B27/36;B32B27/40;B32B33/00;B29D7/01
代理公司: 暫無信息 代理人: 暫無信息
地址: 518051 廣東省*** 國省代碼: 廣東;44
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 無痕粘接 逆反 復合 編織 裝飾 材料 方法
【權利要求書】:

1.一種無痕粘接的逆反射復合膜及用其編織裝飾材料的方法,其中無痕粘接的逆反射復合膜的特征是:表面無循環重復的粘接紋理;采用熱壓復合工藝將印刷圖案保護在圖案保護膜與印刷底膜之間;抗污自潔。

2.如權利要求1所述的無痕粘接的逆反射復合膜,其制備步驟為:⑴分切印刷底膜;⑵在印刷底膜表面印刷圖案;⑶分切圖案保護膜;⑷采用熱壓復合工藝,將圖案保護膜與印刷底膜的印刷圖案面結合,得到復合膜;⑸電暈處理復合膜;⑹在復合膜的圖案保護膜表面涂布厚度為1μm~3μm的納米級抗污自潔涂層;⑺在復合膜的印刷底膜表面制備逆反射結構,得到逆反射復合膜;⑻分切逆反射結構保護膜;⑼采用無痕粘接工藝,完成逆反射復合膜逆反射結構面與逆反射結構保護膜的粘接,得到無痕粘接的逆反射復合膜。

3.如權利要求2步驟⑴所述的印刷底膜,是厚度為0.05mm~0.20mm的抗紫外光學級高透膜,材質為PC、PVC中的一種。

4.如權利要求2步驟⑶所述的圖案保護膜,是厚度為0.05mm~0.30mm的光學級高透膜,材質為抗紫外PC、PMMA、抗紫外PVC、聚醚型TPU中的一種。

5.如權利要求2步驟⑷所述的熱壓復合工藝,其操作流程為:⑴將印刷底膜的印刷圖案面向上,安裝至熱壓復合設備,將圖案保護膜安裝于印刷底膜上方,并貼附在印刷底膜的印刷圖案面;⑵預熱烘道至60℃~110℃;⑶熱壓結構上輥為膠輥、下輥為金屬輥,預熱上輥至175℃~210℃,設置上輥加工壓力為5MPa~7MPa,啟動下輥內部冷卻系統;⑷設置設備相對加工速度為2m/min~3m/min,將兩卷膜材經過烘道干燥、預熱后通過熱壓結構熱壓復合,得到復合膜;⑸復合膜進入冷卻通道冷卻至室溫后進入收卷裝置;⑹收卷余料,卸下復合膜。

6.如權利要求2步驟⑺所述的逆反射結構,其制備步驟為:⑴將復合膜印刷底膜面向上安裝至逆反射結構成型設備;⑵將表面有逆反射結構的金屬模具安裝固定在金屬脹輥表面,復合膜經過金屬脹輥進入收卷裝置;⑶調整金屬脹輥壓力為0.5MPa~0.7MPa,相對加工速度為2m/min~3m/min;⑷開啟紫外光固燈管后通入UV光油,在復合膜的印刷底膜面紫外光固化UV光油翻鑄逆反射結構,得到逆反射復合膜;⑸停止通入UV光油,確認金屬模具表面無光油殘留后關閉紫外光固燈管⑹收卷余料,卸下逆反射復合膜。

7.如權利要求2步驟⑻所述的逆反射結構保護膜,是厚度為0.05mm~0.20mm的光學級高透膜,材質為PC、PVC中的一種。

8.如權利要求2步驟⑼所述的無痕粘接工藝,其操作流程為:⑴采用火焰處理工藝,將逆反射復合膜的逆反射結構單元尖端燒去0.008mm~0.012mm高度;⑵將步驟⑴處理后的逆反射復合膜逆反射結構面向下安裝至高精度涂布機,將逆反射結構保護膜安裝至逆反射復合膜下方,經過涂布輥至壓力輥處與逆反射復合膜粘接;⑶設置設備的相對加工速度為2m/min~3m/min,開啟紫外光固燈管后通入光敏膠,通過精密計量泵控制光敏膠注入量為20g/㎡~40 g/㎡,在逆反射結構保護膜表面滿版涂布厚度為0.02mm~0.04mm的光敏膠;⑷調整壓力輥壓力為0.5MPa~0.7MPa,紫外光固化光敏膠的同時將逆反射結構保護膜粘連在逆反射復合膜的逆反射結構面,逆反射結構單元嵌入光敏膠膠層深度為0.01mm~0.03mm,得到無痕粘接的逆反射復合膜進入收卷裝置同步收卷;⑸停止通入光敏膠,關閉紫外光固燈管,清潔涂布輥。

9.如權利要求8步驟⑴所述的火焰處理工藝,其操作流程為:⑴將逆反射復合膜逆反射結構面向下安裝至火焰處理設備;⑵調整逆反射復合膜經過聯排火炎噴口上方時與噴口的間距為4cm~5cm,初步設置相對加工速度的10s/m~20s/m;⑶通入煤氣燃料后調整閥門至溫度為600℃~700℃的外焰頂端剛好觸及逆反射復合膜;⑷在放大倍數為200倍的光學顯微鏡下觀測逆反射結構面的灼燒情況,微調相對加工速度至逆反射結構單元尖端燒去高度為0.008mm~0.012mm。

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