[發明專利]掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法

在審

• 申請號: 202010966090.5
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN112779498A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 金柾勛;晉丞民
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 宋穎娉;康泉

1.一種掩模組件，包括：

掩?？蚣?，包括開口和圍繞所述開口的部分；以及

掩模，被布置在所述掩?？蚣苌?，并且包括第一區域和第二區域，其中，沉積材料可穿過與所述開口相對應的所述第一區域，并且所述第二區域在所述第一區域周圍，

其中，所述第一區域包括沉積開口，并且

所述第二區域包括虛設開口，其中，所述虛設開口中的至少一些包括被布置成從連接所述沉積開口的中心的直線偏離的中心，并且

所述沉積開口中的每一個的寬度與所述虛設開口中的每一個的寬度相同。

2.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述沉積開口中的每一個的平面形狀與所述虛設開口中的每一個的平面形狀相同。

3.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述虛設開口包括第一開口和第二開口，并且

所述第一開口包括被布置成從連接所述沉積開口的所述中心的所述直線偏離的中心。

4.根據權利要求3所述的掩模組件，其中，所述第二開口包括被布置成從連接所述第一開口的所述中心的直線偏離的中心，并且

所述第一開口和所述第二開口交替布置在從所述沉積開口到所述虛設開口的第一方向上。

5.根據權利要求3所述的掩模組件，其中，所述第二開口沿著與所述沉積開口相同的直線被布置。

6.根據權利要求5所述的掩模組件，其中，所述第二開口沿著與所述沉積開口相同的直線被布置的距離是恒定的。

7.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述沉積開口當中的鄰近的沉積開口之間的第一距離與所述虛設開口當中的鄰近的虛設開口之間的第二距離相同。

8.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述掩模的寬度小于所述開口的寬度，并且

所述掩模組件包括多個掩模，所述多個掩模包括被布置在所述掩?？蚣苌系乃鲅谀?。

9.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述第二區域在所述第一區域與所述掩模框架之間。

10.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述第二區域圍繞所述第一區域的至少一部分。

11.根據權利要求1所述的掩模組件，其中，所述虛設開口中的至少一些被布置在與所述沉積開口相同的直線上。

12.一種掩模組件，包括：

掩?？蚣埽ㄩ_口和圍繞所述開口的部分；以及

掩模，被布置在所述掩?？蚣苌?，并且包括第一區域和第二區域，其中，沉積材料可穿過所述第一區域，并且所述第二區域在所述第一區域周圍，

其中，所述第一區域包括被配置為遮擋所述沉積材料并且在第一方向上延伸的多個第一部分，并且

所述多個第一部分當中的第一部分連接到所述第二區域中的在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸的多個第二部分當中的第二部分，并且

所述多個第一部分當中的第一部分的寬度與所述多個第二部分當中的第二部分的寬度相同。

13.根據權利要求12所述的掩模組件，其中，所述多個第一部分當中的第一部分連接到在與所述第一方向交叉的第三方向上延伸的多個第三部分當中的第三部分。