[發明專利]掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法

在審

• 申請號: 202010966090.5
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN112779498A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 金柾勛;晉丞民
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 宋穎娉;康泉

本發明提供一種掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法。根據一個或多個實施例，掩模組件包括：包括開口和圍繞開口的部分的掩模框架，以及被布置在掩模框架上并且包括第一區域和第二區域的掩模，并且沉積材料可穿過與開口相對應的第一區域，并且第二區域在第一區域周圍，并且第一區域包括沉積開口，并且第二區域包括虛設開口，虛設開口中的至少一些包括被布置成從連接沉積開口的中心的直線偏離的中心，并且沉積開口中的每一個的寬度與虛設開口中的每一個的寬度相同。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2019年11月5日向韓國知識產權局提交的第10-2019-0140322號韓國專利申請的優先權和權益，該申請的全部公開通過引用并入本文。

技術領域

本公開實施例的方面涉及掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和制造顯示設備的方法。

背景技術

隨著信息社會的發展，對用于顯示圖像的各種類型的顯示設備的需求增加。顯示設備的領域已迅速變為薄、輕且大面積的平板顯示設備(FPD)，它們已經取代了笨重的陰極射線管(CRT)。FPD的示例包括液晶顯示設備(LCD)、等離子體顯示面板(PDP)、有機發光顯示設備(OLED)和電泳顯示設備(EPD)。

在顯示設備當中，OLED包括有機發光二極管，有機發光二極管包括對電極、像素電極和發射層。電極和發射層可以使用諸如獨立沉積方法的多種方法形成。在獨立沉積方法中，精細金屬掩模(FMM)被拉緊以粘附至掩模框架，并且沉積材料被沉積在沉積表面上。

發明內容

根據一個或多個實施例的方面，提供一種在精細金屬掩模被拉緊時堅固而不易破裂的掩模組件、一種用于制造顯示設備的裝置和一種制造顯示設備的方法。

額外的方面將部分地在下面的描述中闡述，并且部分地將根據該描述而顯而易見，或者可以通過實踐所呈現的本公開的實施例而獲知。

根據一個或多個實施例，一種掩模組件包括：包括開口和圍繞開口的部分的掩模框架，以及被布置在掩模框架上并且包括第一區域和第二區域的掩模，其中，沉積材料可穿過與開口相對應的第一區域，并且第二區域在第一區域周圍，其中，第一區域包括沉積開口，并且第二區域包括虛設開口，其中，虛設開口中的至少一些包括被布置成從連接沉積開口的中心的直線偏離的中心，并且沉積開口中的每一個的寬度與虛設開口中的每一個的寬度相同。

沉積開口中的每一個的平面形狀與虛設開口中的每一個的平面形狀可以相同。

虛設開口可以包括第一開口和第二開口，并且第一開口可以包括被布置成從連接沉積開口的中心的直線偏離的中心。

第二開口可以包括被布置成從連接第一開口的中心的直線偏離的中心，并且第一開口和第二開口可以交替布置在從沉積開口到虛設開口的第一方向上。

第二開口可以沿著與沉積開口相同的直線被布置。

第二開口沿著與沉積開口相同的直線被布置的距離可以是恒定的。

沉積開口當中的鄰近的沉積開口之間的第一距離可以與虛設開口當中的鄰近的虛設開口之間的第二距離相同。

掩模的寬度可以小于開口的寬度，并且掩模組件可以包括多個掩模，多個掩模包括被布置在掩模框架上的上述掩模。

第二區域可以在第一區域與掩模框架之間。

第二區域可以圍繞第一區域的至少一部分。

虛設開口中的至少一些可以沿著與沉積開口相同的直線被布置。