[發明專利]基片處理控制方法、基片處理裝置和存儲介質

在審

• 申請號: 202010965656.2
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN112558417A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 鶴田豐久;小西儀紀
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種基片處理裝置中的基片處理控制方法，所述基片處理裝置包括：第一要素，其包含對基片進行基于第一參數的第一處理的多個第一水準單元；和第二要素，其包含對基片進行基于第二參數的第二處理的多個第二水準單元，

所述基片處理控制方法的特征在于，包括：

獲取步驟，其對在所述第一水準單元中進行了所述第一處理后在所述第二水準單元中進行了所述第二處理的多個基片的每一者，獲取數據集，所述數據集包含：確定進行了所述第一處理的所述第一水準單元的信息；確定進行了所述第二處理的所述第二水準單元的信息；和關于所述基片的特性的特征量的信息；

計算步驟，其基于與所述多個基片的每一者對應的數據集，計算包含所述特征量的預期值、相對于所述預期值的所述第一水準單元的水準單元偏差和相對于所述預期值的所述第二水準單元的水準單元偏差的信息；以及

修正步驟，其基于在所述計算步驟中計算出的信息，修正所述第一水準單元中的所述第一參數或者所述第二水準單元中的所述第二參數。

2.如權利要求1所述的基片處理控制方法，其特征在于：

在所述計算步驟中，基于與多個所述基片的每一者對應的數據集，計算包含相對于所述預期值的所述第一水準單元的水準單元偏差和相對于所述預期值的所述第二水準單元的水準單元偏差的信息，以使基于所述數據集的所述特征量的預期值以外的范數變得最小。

3.如權利要求1所述的基片處理控制方法，其特征在于，還包括：

在所述計算步驟中，在對所述第一要素和所述第二要素預先決定了與使減小其修正值的處理優先的順序對應的范數最小化優先級的情況下，基于所述數據集，從所述范數最小化優先級高的要素起依次計算單元偏差，以使所述特征量的平均值的預期值以外的范數變得最小。

4.一種基片處理裝置，其特征在于，包括：

多個第一處理單元，其對基片進行基于第一參數的第一處理；

多個第二處理單元，其對基片進行基于第二參數的第二處理；

特征量信息獲取部，其對在所述多個第一處理單元的任一者中進行了所述第一處理后在多個第二處理單元的任一者中進行了所述第二處理的基片，獲取其特性的信息；以及

控制所述多個第一處理單元和所述多個第二處理單元的控制部，

所述控制部對在多個所述第一處理單元的任一者中進行了所述第一處理后在多個所述第二處理單元的任一者中進行了所述第二處理的多個基片的每一者，從所述特征量信息獲取部獲取數據集，其中，所述數據集包含：確定進行了所述第一處理的所述第一處理單元的信息；確定進行了所述第二處理的第二處理單元的信息；和關于所述基片的特性的特征量的信息，

所述控制部基于與所述多個基片的每一者對應的數據集，計算包含所述特征量的預期值、相對于所述預期值的所述第一處理單元的單元偏差和相對于所述預期值的所述第二處理單元的單元偏差的信息，

所述控制部基于計算出的信息，修正所述第一處理單元中的所述第一參數或者所述第二處理單元中的所述第二參數。

5.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于：

存儲有用于使裝置實施權利要求1～3中任一項所述的基片處理控制方法的程序。