[發明專利]曝光裝置、平面顯示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法

有效

• 申請號: 202010960580.4
• 申請日: 2016-03-31
• 公開（公告）號: CN112162465B
• 公開（公告）日: 2023-06-20
• 發明（設計）人: 內藤一夫;青木保夫;長島雅幸
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

本發明是曝光裝置、平面顯示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法。透過投影光學系(40)對基板(P)照射照明光(IL)，并借由相對基板(P)驅動投影光學系(40)進行掃描曝光的液晶曝光裝置(10)，具備檢測設于基板(P)的標記(Mk)的對準系(60)、驅動對準系(60)的第1驅動系、驅動投影光學系(40)的第2驅動系、以及以投影光學系(40)與對準系(60)彼此不接觸的方式控制第1及第2驅動系的控制裝置。如此，能避免投影光學系(40)與對準系(60)的接觸。

本申請是母案PCT國際申請號為PCT/JP2016/060593的發明名稱為“曝光裝置、平面顯示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法”的專利申請案進入中國國家階段的申請案(申請號為201680020548.X，發明名稱為曝光裝置、平面顯示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法)的分案申請，原母案PCT申請案的國際申請日是2016年03月31日。

技術領域

本發明是關于曝光裝置、平面顯示器的制造方法、元件制造方法及曝光方法，詳言之，是關于借由對物體進行將能量束掃描于既定掃描方向的掃描曝光，將既定圖案形成在物體上的曝光裝置及方法、以及包含前述曝光裝置或方法的平面顯示器或元件的制造方法。

背景技術

一直以來，在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等電子元件(微元件)的微影制造過程，是使用曝光裝置，此曝光裝置使用能量束將形成在光罩或標線片(以下，統稱為「光罩」)的圖案轉印至玻璃板或晶圓(以下，統稱為「基板」)上。

作為此種曝光裝置，已知有一種在使光罩與基板實質靜止的狀態下，將曝光用照明光(能量束)掃描于既定掃描方向，據以在基板上形成既定圖案的線束掃描式的掃描曝光裝置(例如參照專利文獻1)。

在述專利文獻1記載的曝光裝置，為修正基板上的曝光對象區域與光罩的位置誤差，是一邊使投影光學系往與曝光時的掃描方向相反方向移動、一邊通過投影光學系以對準顯微鏡進行基板上及光罩上的標記的測量(對準測量)，根據該測量結果修正基板與光罩的位置誤差。此處，由于是通過投影光學系測量基板上的對準標記，因此對準動作與曝光動作是依序(serially)實施，欲抑制所有基板的曝光處理所需的處理時間(周期時間)是非常困難的。

先行技術文獻

[專利文獻1]日本特開2000－12422號公報

發明內容

用以解決課題的手段

本發明在上述事情下完成，其第1觀點的第1曝光裝置系透過投影光學系對物體照射照明光，相對該物體驅動該投影光學系以進行掃描曝光，其具備：用以檢測設在該物體的標記的標記檢測部、驅動該標記檢測部的第1驅動系、驅動該投影光學系的第2驅動系、以及控制該第1及第2驅動系以避免該投影光學系與該標記檢測部彼此接觸的控制裝置。

本發明第2觀點的第2曝光裝置，是透過投影光學系對物體照射照明光，相對該物體驅動該投影光學系以進行掃描曝光，其具備：用以檢測設于該物體的標記的標記檢測部、驅動該標記檢測部的第1驅動系、驅動該投影光學系的第2驅動系、以及于該掃描曝光中驅動該投影光學系與該標記檢測部中至少一方時控制該第1及第2驅動系中至少一方的驅動系以使該投影光學系與該標記檢測部的間隔相距既定距離以上的控制裝置。

本發明第3觀點的第3曝光裝置，是透過投影光學系對物體照射照明光，相對該物體驅動該投影光學系以進行掃描曝光動作，其具備：用以檢測設于該物體的標記的標記檢測部、驅動該標記檢測部的第1驅動系、驅動該投影光學系的第2驅動系、以及于該掃描曝光動作中的至少部分動作中控制該第1及第2驅動系分別以相異的驅動速度驅動該投影光學系及該標記檢測部的控制裝置。