[發明專利]基板固定裝置

在審

• 申請號: 202010959801.6
• 申請日: 2020-09-14
• 公開（公告）號: CN112530778A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 宮澤昌邦
• 申請（專利權）人: 新光電氣工業株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;宋曉寶

1.一種基板固定裝置，具有：

內部具備氣體供給部的底板；及

設置在所述底板上的靜電卡盤，

所述靜電卡盤具備：

一個表面為吸附對象物的承載面的基體；及

貫穿所述基體的氣孔，

氣體從所述氣體供給部經由所述氣孔被供給至所述承載面，

其中，所述氣孔具有：

從所述基體的所述承載面的相反側的表面向所述承載面側凹陷的第1凹部；

從所述第1凹部的底面進一步向所述承載面側凹陷的第2凹部；及

從所述第2凹部的底面貫穿至所述承載面的貫穿孔，

多孔質體填充于所述第1凹部內的整個區域和所述第2凹部內的除了未填充區域之外的區域，

所述未填充區域為從所述第2凹部的底面的與所述貫穿孔連通的位置向所述相反側的表面凹陷的凹部，所述凹部是與所述貫穿孔連通的空間。

2.如權利要求1所述的基板固定裝置，其中，

平面視圖中，所述第2凹部的尺寸小于所述第1凹部的尺寸，所述貫穿孔的尺寸小于所述第2凹部的尺寸。

3.如權利要求1或2所述的基板固定裝置，其中，

所述第2凹部的深度為50μm以上且500μm以下。

4.如權利要求1或2所述的基板固定裝置，其中，

所述多孔質體具備連通的多個氣孔，

經由連通的所述多個氣孔供給所述氣體。

5.如權利要求1或2所述的基板固定裝置，其中，

所述基體和所述多孔質體包含相同的氧化物陶瓷。

6.如權利要求5所述的基板固定裝置，其中，

所述氧化物陶瓷為氧化鋁。

7.如權利要求1或2所述的基板固定裝置，其中，

所述基體和所述多孔質體包含相同的兩種以上的元素的氧化物，

所述基體內的所述氧化物的組成比被設定為與所述多孔質體內的所述氧化物的組成比相同。

8.如權利要求7所述的基板固定裝置，其中，

所述兩種以上的元素選自硅、鎂、鈣及釔。

9.一種靜電卡盤，具有：

基體，具有用于吸附對象物的第1表面和位于該第1表面的相反側的第2表面，所述基體包含貫穿孔，所述貫穿孔在所述第1表面上具有第1開口，并且在所述第2表面上具有第2開口，所述貫穿孔具有朝向所述第1開口變細的臺階狀的錐形形狀，并且在所述基體內形成有第1臺階面和比該第1臺階面還接近所述第1表面的第2臺階面；及

多孔質體，在所述基體內從所述第2開口被埋入至所述第2臺階面，

其中，所述多孔質體的與所述第2臺階面直接接觸的端面包括朝向所述第2開口的凹陷部。

10.如權利要求9所述的靜電卡盤，其中，

所述凹陷部經由所述第1開口露出于所述靜電卡盤的外部。

11.如權利要求9所述的靜電卡盤，其中，

所述第1臺階面和所述第2臺階面均面向所述第2開口。

12.如權利要求9所述的靜電卡盤，還具有：

靜電電極，設置在所述基體的內部。

13.一種基板固定裝置，具有：

底板，其內部具備氣體供給部；及

位于所述底板上的如權利要求9所述的靜電卡盤，

其中，從所述氣體供給部經由設置了所述多孔質體的所述貫穿孔向所述第1表面供給氣體。