[發明專利]具有近紅外二區光響應性可降解共聚物制備方法與應用有效
| 申請號: | 202010956286.6 | 申請日: | 2020-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN112194787B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發明(設計)人: | 肖海華;周惠玲 | 申請(專利權)人: | 中國科學院化學研究所 |
| 主分類號: | C08G65/331 | 分類號: | C08G65/331;C08G65/333;C08G65/334;C08G65/337;A61K49/00;A61K41/00;A61K9/51;A61K47/34;A61P35/00 |
| 代理公司: | 北京辰權知識產權代理有限公司 11619 | 代理人: | 金銘 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 紅外 二區光 響應 降解 共聚物 制備 方法 應用 | ||
1.一種具有近紅外二區光響應的共聚物,其特征在于,所述共聚物為嵌段共聚物,所述共聚物由第一二羥基單體、第二二羥基單體、兩端具有酸酐或異氰酸酯的單體聚合而成,且用聚乙二醇單甲醚封端;所述第一二羥基單體、第二二羥基單體和兩端具有酸酐或異氰酸酯的單體的摩爾比為0.05-0.1:0.9-0.95:1;
所述第一二羥基單體具有近紅外二區熒光、近紅外二區光動力和/或近紅外二區光熱,所述第一二羥基單體選自下組中的一種或兩種以上:
所述第二二羥基單體具有可響應氧化條件、還原條件、乏氧條件、酸環境和/或熱環境條件發生斷裂的化學鍵;所述第二二羥基單體選自下組中的一種或兩種以上:
所述兩端具有酸酐或異氰酸酯的單體選自下組中的一種或兩種:
2.如權利要求1所述的共聚物,其特征在于,所述共聚物包括:
其中,x和y的比值為0.05-0.1:0.9-0.95。
3.如權利要求2所述的共聚物,其特征在于,x和y的比值為0.05:0.95。
4.如權利要求1-3任一項所述共聚物的制備方法,其特征在于,包括使所述第一二羥基單體、第二二羥基單體、兩端具有酸酐或異氰酸酯的單體于二甲基甲酰胺或二甲基亞砜中進行聚合反應。
5.如權利要求1-3任一項所述共聚物在以下方面的應用:
(1)制備熒光成像試劑;
(2)用于熒光成像;
(3)制備用于光動力治療的藥物;
(4)制備用于光熱治療的藥物。
6.如權利要求5所述的應用,其特征在于,所述熒光成像為近紅外二區熒光成像;所述光動力治療為近紅外二區光動力治療;所述光熱治療為近紅外二區光熱治療。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院化學研究所,未經中國科學院化學研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010956286.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





