[發(fā)明專(zhuān)利]一種倒裝紅光LED芯片及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010950781.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112038457B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金釗;徐洲;馬英杰;蔡和勛;吳奇隆 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 揚(yáng)州乾照光電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/10 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/10;H01L33/22;H01L33/30;H01L33/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 225002*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 倒裝 紅光 led 芯片 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明提供了一種倒裝紅光LED芯片及其制作方法,通過(guò)在所述p?GaP窗口層表面沉積第一ITO層,使所述第一ITO層搭配所述p?GaP窗口層,可減薄所述p?GaP窗口層的厚度,從而在解決因p?GaP窗口層太厚導(dǎo)致的吸光問(wèn)題的同時(shí),還保證了其電流在LED芯片的P面擴(kuò)展的均勻性;同時(shí),通過(guò)所述發(fā)光臺(tái)面的水平裸露面沉積形成第二ITO層,可減薄所述n?AlGaInP擴(kuò)展層的厚度,從而在解決因n?AlGaInP擴(kuò)展層太厚導(dǎo)致的吸光問(wèn)題的同時(shí),還保證了其電流在LED芯片的N面擴(kuò)展的均勻性,進(jìn)而提高LED芯片的出光率。其次,本發(fā)明采用蒸鍍與沉積相結(jié)合的方法制作復(fù)合鍵合層,既能獲得高的制作效率又具有良好的鍵合率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及發(fā)光二極管領(lǐng)域,尤其涉及一種倒裝紅光LED芯片及其制作方法。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(Light Emitting Diode,簡(jiǎn)稱(chēng)LED)是一種能將電能直接轉(zhuǎn)換為光能的半導(dǎo)體器件,屬于固態(tài)冷光源。LED固有物理特性使其能夠在低電壓/電流下工作,具有發(fā)光效率高、體積小、壽命長(zhǎng)節(jié)能等特點(diǎn)。其本身不含汞、鉛等有害物質(zhì),不會(huì)在生產(chǎn)使用中對(duì)外界產(chǎn)生污染。因此,LED現(xiàn)已成為交通顯示、醫(yī)療照明、投影、軍事通信等領(lǐng)域的核心發(fā)光器件。隨著微投影、微顯示等概念的提出,科研人員的關(guān)注點(diǎn)逐漸由大尺寸器件向微小型器件轉(zhuǎn)移。近年來(lái),微型LED在汽車(chē),可穿戴設(shè)備,軍事應(yīng)用,生物傳感器,光學(xué)生物芯片,微型集成全色系列顯示器(集成紅、綠、藍(lán)色三種顏色波段)領(lǐng)域極具潛在應(yīng)用價(jià)值。
紅光LED芯片一般由AlGaInP四元材料制備而成,為滿足外延層生長(zhǎng)晶格的匹配,通常選用GaAs作為外延襯底材料。但是GaAs能隙比較小,對(duì)于AlGaInP發(fā)出光具有吸收作用,因此限制了紅色LED的光提取率。GaAs襯底吸收的光能最終轉(zhuǎn)換成熱能,使器件阱層內(nèi)部非輻射復(fù)合中心數(shù)量增加,導(dǎo)致芯片輻射復(fù)合產(chǎn)生的光子數(shù)量比例下降,器件的電光轉(zhuǎn)換效率降低。
目前常見(jiàn)的倒裝結(jié)構(gòu)的LED芯片為水平同側(cè)電極結(jié)構(gòu),是將紅光LED外延層通過(guò)鍵合的方發(fā)轉(zhuǎn)移至透明的藍(lán)寶石襯底上,制作的倒裝LED芯片,不但可以提高電光轉(zhuǎn)換效率,還能與藍(lán)綠倒裝芯片形成良好的匹配,使微型全色LED陣列的制作工藝得以簡(jiǎn)化,從而降低器件的制作成本。
作為最新一代的技術(shù),紅黃光AlGaInP基的Flip-Chip技術(shù)目前處于剛開(kāi)發(fā)應(yīng)用階段,技術(shù)開(kāi)發(fā)及產(chǎn)品良率、市場(chǎng)應(yīng)用等需要等待進(jìn)一步的發(fā)展成熟。其中,倒裝LED芯片N、P電極在同一平面,電流橫向擴(kuò)展較差產(chǎn)生電流擁擠效應(yīng),既制約發(fā)光面積的利用率又導(dǎo)致局部溫度升高,直接加快了LED芯片老化速度;為改善電流擴(kuò)展通常采用較厚的GaP,然而過(guò)厚的GaP層會(huì)吸光,致使出光效率低,還會(huì)增加生產(chǎn)成本;另一方面出光角度的大小將直接決定芯片的多項(xiàng)光學(xué)性能,比如RGB品質(zhì)、光學(xué)效率以及高亮度飽和等特性。出光性差的話,在實(shí)際使用中很容易出現(xiàn)光不均勻以及顯示效果差的情況,為了能夠獲得具備大角度的出光能力、混光度均勻性的倒裝LED芯片,因此有必要對(duì)倒裝紅光LED芯片進(jìn)行研究改進(jìn)。
有鑒于此,本發(fā)明人專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)了一種倒裝紅光LED芯片及其制作方法,本案由此產(chǎn)生。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種倒裝紅光LED芯片及其制作方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中倒裝紅光LED芯片的電流擴(kuò)展效果差及因p-GaP窗口層太厚導(dǎo)致的吸光問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種倒裝紅光LED芯片的制作方法,所述制作方法包括如下步驟:
S01、在臨時(shí)襯底上生長(zhǎng)外延疊層,所述外延疊層至少包括沿生長(zhǎng)方向依次堆疊的n-AlGaInP擴(kuò)展層、n-AlInP限制層、有源層、p-AlInP限制層、p-GaP窗口層;
S02、在所述p-GaP窗口層表面沉積第一ITO層,用于解決因所述p-GaP窗口層太厚所導(dǎo)致的吸光;
S03、在所述第一ITO層上蒸鍍形成第一SiO2鍵合層;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件





