[發(fā)明專利]陣列基板、陣列基板的制造方法及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010943446.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112349733B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹中歡;余豐;王亞男 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖北長(zhǎng)江新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 尹紅敏 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市武漢東湖新技*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 制造 方法 顯示裝置 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板、陣列基板的制造方法及顯示裝置,陣列基板包括襯底基板和位于襯底基板一側(cè)的多個(gè)薄膜晶體管;薄膜晶體管包括:有源結(jié)構(gòu),設(shè)置于襯底基板的一側(cè),有源結(jié)構(gòu)包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,第一區(qū)域的電阻率小于第二區(qū)域的電阻率,第一區(qū)域包括源區(qū)和漏區(qū),第二區(qū)域包括溝道區(qū)和輔助區(qū),溝道區(qū)位于源區(qū)和漏區(qū)之間,輔助區(qū)圍繞至少部分源區(qū)和/或漏區(qū);源漏電極,包括源極和漏極,源極連接于源區(qū),漏極連接于漏區(qū);第一絕緣層,設(shè)置于有源結(jié)構(gòu)的一側(cè);柵極,設(shè)置于第一絕緣層背離有源結(jié)構(gòu)的一側(cè),柵極在襯底基板上的正投影覆蓋至少部分溝道區(qū)在襯底基板上的正投影。本發(fā)明實(shí)施例能夠降低薄膜晶體管的截止電流。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板、陣列基板的制造方法及顯示裝置。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode;OLED)是主動(dòng)發(fā)光器件。與傳統(tǒng)的液晶顯示(Liquid Crystal Display;LCD)顯示方式相比,OLED顯示技術(shù)無(wú)需背光燈,具有自發(fā)光的特性。OLED采用較薄的有機(jī)材料膜層和玻璃基板,當(dāng)有電流通過(guò)時(shí),有機(jī)材料就會(huì)發(fā)光。因此OLED顯示面板能夠顯著節(jié)省電能,可以做得更輕更薄,比LCD顯示面板耐受更寬范圍的溫度變化,而且可視角度更大。OLED顯示面板有望成為繼LCD之后的下一代平板顯示技術(shù),是目前平板顯示技術(shù)中受到關(guān)注最多的技術(shù)之一。
在OLED顯示屏中,由于刷新頻率較高,對(duì)驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體元件的的截止電流要求較高。但是目前的半導(dǎo)體元件中,由于源漏電極之間存在微短路,導(dǎo)致截止電流無(wú)法達(dá)到理想值。
因此,亟需一種新的陣列基板、陣列基板的制造方法及顯示裝置。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板、陣列基板的制造方法及顯示裝置,旨在降低薄膜晶體管的截止電流。
本發(fā)明第一方面的實(shí)施例提供了一種陣列基板,陣列基板包括襯底基板和設(shè)置于襯底基板一側(cè)的多個(gè)薄膜晶體管;薄膜晶體管包括:有源結(jié)構(gòu),設(shè)置于襯底基板的一側(cè),有源結(jié)構(gòu)包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,第一區(qū)域的電阻率小于第二區(qū)域的電阻率,第一區(qū)域包括源區(qū)和漏區(qū),第二區(qū)域包括溝道區(qū)和輔助區(qū),在平行于襯底基板所在平面的方向上,溝道區(qū)位于源區(qū)和漏區(qū)之間,輔助區(qū)圍繞至少部分源區(qū)和/或漏區(qū);源漏電極,包括源極和漏極,源極連接于源區(qū),漏極連接于漏區(qū);第一絕緣層,設(shè)置于有源結(jié)構(gòu)的一側(cè);柵極,設(shè)置于第一絕緣層背離有源結(jié)構(gòu)的一側(cè),柵極在襯底基板上的正投影覆蓋至少部分溝道區(qū)在襯底基板上的正投影。
本發(fā)明第二方面的實(shí)施例提供了一種陣列基板的制造方法,包括:
在襯底基板上形成有源層;
對(duì)有源層進(jìn)行刻蝕處理形成多個(gè)有源結(jié)構(gòu),有源結(jié)構(gòu)包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,第一區(qū)域的電阻率小于第二區(qū)域的電阻率,第一區(qū)域包括源區(qū)和漏區(qū),第二區(qū)域包括溝道區(qū)和輔助區(qū),在平行于襯底基板所在平面的方向上,溝道區(qū)位于源區(qū)和漏區(qū)之間,輔助區(qū)圍繞至少部分源區(qū)和/或漏區(qū);
在有源層背離襯底基板的一側(cè)形成第一絕緣層;
在第一絕緣層背離有源層的一側(cè)形成柵極,柵極在襯底基板上的至少部分正投影覆蓋溝道區(qū)在襯底基板上的正投影;
對(duì)有源結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域進(jìn)行導(dǎo)電化處理;
在柵極背離第一絕緣層的一側(cè)形成第二絕緣層;
對(duì)第一絕緣層和第二絕緣層進(jìn)行圖案化處理,以使源區(qū)和漏區(qū)由第一絕緣層和第二絕緣層露出;
在第二絕緣層背離第一絕緣層的一側(cè)形成源漏電極,源漏電極包括源極和漏極,源極連接于源區(qū),漏極連接于漏區(qū)。
本發(fā)明第三方面的實(shí)施例提供了一種顯示裝置,包括上述任一第一方面實(shí)施例的陣列基板。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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