[發(fā)明專利]一種硅片不良片的制絨處理方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010938254.3
• 申請日: 2020-09-09
• 公開（公告）號: CN114242829A
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊圣合
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞新科技術(shù)研究開發(fā)有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/268;H01L21/02;C30B33/10
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

1.一種硅片不良片的制絨處理方法，其特征在于，包括：

將刻蝕后的不良片置于紫外燈下照射20min；其中，紫外燈的功率為150W；

對預(yù)先配置的堿性制絨液進行加熱處理；其中，堿性制絨液的加熱溫度為80℃；

將照射后的硅片放置在堿性制絨液中浸泡5min，進行堿制絨處理；

對堿制絨后的硅片進行清洗處理。

2.如權(quán)利要求1所述的硅片不良片的制絨處理方法，其特征在于，所述堿性制絨液由NaClO₃溶液與NaOH溶液配制而成，NaClO₃溶液與NaOH溶液的濃度比為30：1，溶劑為去離子水。

3.如權(quán)利要求1所述的硅片不良片的制絨處理方法，其特征在于，所述對堿制絨后的硅片進行清洗處理，具體包括：

將堿制絨后的硅片放置在去離子中漂洗10min；

將漂洗后的硅片放置在濃度為5％的HCl溶液中酸洗1min；

將酸洗后的硅片放置在去離子水中漂洗10min。

4.如權(quán)利要求1～3任一項所述的硅片不良片的制絨處理方法，其特征在于，所述方法還包括：

采用光刻膠對清洗后的硅片進行處理，相應(yīng)制成成品。