[發(fā)明專利]一種涂層反射比測(cè)試裝置及其測(cè)試方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010936600.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112033935A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高孝麟;王存剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 雅士利涂料(蘇州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/47 | 分類號(hào): | G01N21/47 |
| 代理公司: | 北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275 | 代理人: | 陰知見 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 涂層 反射 測(cè)試 裝置 及其 方法 | ||
1.一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于,包括:
測(cè)試箱(1),所述測(cè)試箱(1)內(nèi)限定有可打開和封閉的測(cè)試空間,測(cè)試空間的壁面設(shè)有啞光材料層;
光源(2),所述光源(2)設(shè)于所述測(cè)試箱(1),用于將散射光投射到測(cè)試空間中;
測(cè)試板支架(3),所述測(cè)試板支架(3)設(shè)于所述測(cè)試空間中,用于放置測(cè)試板;以及
測(cè)試儀器(4),所述測(cè)試儀器(4)設(shè)于所述測(cè)試空間中,用于檢測(cè)測(cè)試板上的涂層反射比。
2.如權(quán)利要求1所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:測(cè)試板支架(3)設(shè)于測(cè)試空間長度方向的一側(cè),光源(2)設(shè)于測(cè)試空間長度方向的另一側(cè),并與測(cè)試板支架(3)相對(duì),測(cè)試空間接近光源的位置設(shè)有在長度方向上將測(cè)試空間分隔成兩個(gè)區(qū)域的窗口結(jié)構(gòu)(5),窗口結(jié)構(gòu)(5)至少中部區(qū)域?yàn)榘胪该鞯耐腹鈪^(qū)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述測(cè)試箱(1)包括底板(11)、上蓋板(12)、設(shè)于底板(11)的后板、前板(14)、左板(15)和右板(16),所述底板(11)、后板、前板(14)、左板(15)和右板(16)共同圍成上端敞開的箱體,上蓋板(12)可樞轉(zhuǎn)安裝于箱體頂端,并可在將箱體敞開的上端關(guān)閉和開啟的位置之間擺動(dòng)。
4.如權(quán)利要求2所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:窗口結(jié)構(gòu)(5)包括裝于測(cè)試空間的框架(51)和可拆卸安裝于所述框架(51)的半透明窗板(52),所述半透明窗板(52)形成所述半透明的透光區(qū)。
5.如權(quán)利要求4所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述測(cè)試空間位于半透明窗板(52)和測(cè)試板支架(3)之間的位置設(shè)有支撐架(41),測(cè)試儀器(4)裝于支撐架(41)上,測(cè)試空間還設(shè)有運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(6),支撐架(41)裝于運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(6)的運(yùn)動(dòng)部(62)上,支撐架(41)可在運(yùn)動(dòng)部(62)的驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)測(cè)試儀器(4)在靠近測(cè)試板支架(3)和遠(yuǎn)離測(cè)試板支架(3)之間的位置運(yùn)動(dòng)。
6.如權(quán)利要求5所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(6)包括導(dǎo)軌(61)、滑動(dòng)裝于導(dǎo)軌(61)的所述運(yùn)動(dòng)部(62)、以及用于驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)部(62)沿導(dǎo)軌(61)滑動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu);所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸,氣缸的活塞桿與運(yùn)動(dòng)部連接;或者驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括與運(yùn)動(dòng)部聯(lián)接的絲杠副以及用于驅(qū)動(dòng)絲杠副轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī);又或者驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括與運(yùn)動(dòng)部聯(lián)接的絲杠副以及裝于測(cè)試箱外并與絲杠副連接的手動(dòng)旋轉(zhuǎn)件(66);通過控制氣缸的活塞桿伸縮或者電機(jī)的轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)、又或者手工旋轉(zhuǎn)手動(dòng)旋轉(zhuǎn)件(66)即可驅(qū)使運(yùn)動(dòng)部(62)帶動(dòng)支撐架(41)上的測(cè)試儀器(4)在靠近測(cè)試板支架(3)和遠(yuǎn)離測(cè)試板支架(3)之間的位置運(yùn)動(dòng)。
7.如權(quán)利要求5所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述支撐架(41)設(shè)有垂向延伸的U形槽(411),測(cè)試儀器(4)可拆卸安裝于U形槽(411)的不同高度位置。
8.如權(quán)利要求6所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括擺座(63),所述絲杠副和導(dǎo)軌裝于擺座(63),擺座(63)接近測(cè)試板支架(3)的一端可樞轉(zhuǎn)安裝于底板(11),并可帶動(dòng)支撐架(41)上的測(cè)試儀器(4)相對(duì)擺動(dòng)。
9.如權(quán)利要求8所述一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述擺座(63)遠(yuǎn)離測(cè)試板支架(3)的一端設(shè)有插銷(64),所述測(cè)試箱(1)的底板(11)對(duì)應(yīng)所述插銷(64)的擺動(dòng)路徑上間隔設(shè)有多個(gè)與所述插銷(64)相適配的插槽(65)。
10.如權(quán)利要求2所述的一種涂層反射比測(cè)試裝置,其特征在于:所述測(cè)試板支架(3)包括橫向間隔設(shè)于測(cè)試空間的多根豎桿(31)以及裝于所述豎桿(31)之間的多根橫桿(32),兩兩上下間隔的橫桿(32)上設(shè)有相對(duì)的滑槽(321),測(cè)試板的上下兩端插設(shè)于上下相對(duì)的滑槽(321)中。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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