[發明專利]光學成像非球面透鏡模仁清洗方法及其裝置

在審

• 申請號: 202010927758.5
• 申請日: 2020-09-07
• 公開（公告）號: CN112007908A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 王永康;李松;張鳳;唐亞軍
• 申請（專利權）人: 成都光明光電股份有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 蒲敏

1.光學成像非球面透鏡模仁清洗方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

1)將待清洗的模仁表面預清潔，然后將模仁依次放入模仁裝夾盤(1)上的模仁孔(11)內，再通過滑槽(3)將模仁裝夾盤(1)導入固定在支架(2)上，然后將整個裝夾裝置通過定位槽(4)固定在清洗上料架上，放置在多槽超聲波自動清洗機入口；

2)控制系統控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動進入第一槽配制的洗劑里，將其溫度設置為25-40℃，最佳溫度設置為31±2℃，超聲波電流設置為1-5A，最佳電流設置為3.0A±0.1，清洗時間設置為2-10min，最佳時間設置為3-5min，通過第一槽的清洗，將模仁表面較大顆粒雜質、白點、異物，腐蝕溶解掉；

3)控制系統控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動進入第二槽的軟水里，將其溫度設置為15-35℃，最佳溫度設置20±2℃，超聲波電流設置為1-5A，最佳電流設置為3.5A±0.1，清洗時間設置為2-10min，最佳時間設置為5-8min，通過第二槽的清洗，將模仁表面溶解物、臟污、化學試劑清洗掉；

4)控制系統控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動進入第三槽的純水里，將其溫度設置為15-35℃，最佳溫度設置20±2℃，超聲波電流設置為1-5A，最佳電流設置為3.5A±0.1，時間設置為2-10min，最佳時間設置為5-8min，通過第三槽的清洗，將模仁表面電解性物質清洗掉；

5)控制系統控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動進入第四槽的IPA試劑里，將其溫度設置為15-35℃，最佳溫度設置25±2℃，超聲波電流設置為1-5A，最佳電流設置為2.0A±0.1，時間設置為2-10min，最佳時間設置為5-8min，通過第四槽的清洗，將模仁表面水分子稀釋掉，達到脫水效果；

6)控制系統控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動進入第五槽烘干，將其溫度設置為60-100℃，最佳溫度設置80±5℃，超聲波電流設置為1-5A，最佳設置電流為2.5A±0.1，烘干時間設置為2-10min，最佳時間設置為3-5min，通過第五槽的烘干，將模仁表面IPA試劑快速烘干，無水斑紋，達到干燥效果。

2.如權利要求1所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗方法，其特征在于，步驟1)所述預清潔是采用無塵線或棉簽配合酒精和丙酮，酒精和丙酮的重量配比為1：(20-50)，最佳比例為1：(30-40)。

3.光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，包括裝夾裝置、清洗上料架、多槽超聲波自動清洗機和控制系統，所述裝夾裝置包括模仁裝夾盤(1)、支架(2)和滑槽(3)，在所述模仁裝夾盤(1)上設置有若干模仁孔(11)，所述滑槽(3)設置在支架(2)上，所述模仁裝夾盤(1)設置在滑槽(3)上，所述支架(2)上設置有定位槽(4)，通過所述定位槽(4)將裝夾裝置固定在清洗上料架上，所述控制系統控制清洗上料架在多槽超聲波自動清洗機的每個槽中自動走位，且所述控制系統控制每個槽的溫度、電流和清洗時間。

4.如權利要求3所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，所述定位槽(4)為U形槽。

5.如權利要求3所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，所述模仁裝夾盤(1)的長、寬尺寸根據多槽超聲波自動清洗機的內槽尺寸而定。

6.如權利要求3所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，所述模仁孔(11)采用等間距排列，所述模仁孔(11)內孔徑尺寸根據非球面模仁柱面大小尺寸而定，常規尺寸為φ3-50mm。

7.如權利要求3所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，所述支架(2)的橫截面為直角三角形，斜面(21)傾角α為30-60°，最佳傾角α為40-50°。

8.如權利要求3所述的光學成像非球面透鏡模仁清洗裝置，其特征在于，所述多槽超聲波自動清洗機中每槽配入不同的洗劑。