[發(fā)明專利]光學(xué)成像非球面透鏡模仁清洗方法及其裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010927758.5
• 申請(qǐng)日: 2020-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN112007908A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王永康;李松;張鳳;唐亞軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都光明光電股份有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 成都希盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226
• 代理人: 蒲敏

本發(fā)明提供一種清洗潔凈度高的光學(xué)成像非球面透鏡模仁清洗方法,該方法包括以下步驟：將待清洗的模仁表面預(yù)清潔；控制系統(tǒng)控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動(dòng)進(jìn)入第一槽配制的洗劑里、第二槽的軟水里、第三槽的純水里、第四槽的IPA試劑里和第五槽烘干。本發(fā)明將待清洗的模仁直接裝填在固定清洗盤上，通過(guò)超聲波清洗機(jī)各槽不同洗劑及工藝對(duì)模仁表面進(jìn)行清洗，通過(guò)自動(dòng)走位逐級(jí)清洗，提高了清洗潔凈度及效率，解決了模仁在清洗過(guò)程中微小顆粒雜質(zhì)、白點(diǎn)、水斑紋等粘黏物附著在模仁表面的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種非球面透鏡模仁清洗方法及其裝置，尤其是涉及一種用于非球面高精度面形透鏡模仁的清洗方法及其裝置。

背景技術(shù)

隨著非球面光學(xué)玻璃成像領(lǐng)域日益廣泛應(yīng)用，對(duì)高性能非球面透鏡的需求越來(lái)越迫切，因此對(duì)非球面透鏡的外觀品質(zhì)要求也越來(lái)越高。超精密模壓成型是制造非球面透鏡的最佳方法，能夠高效、高品質(zhì)地批量制造玻璃非球面透鏡，該方法在成形過(guò)程中可修復(fù)玻璃預(yù)形體表面的微波劃痕和斑點(diǎn)，也可完美復(fù)制模仁表面存在的斑點(diǎn)、微小顆粒、臟污等影響非球面透鏡外觀質(zhì)量，因此對(duì)非球面模仁表面質(zhì)量要求也相應(yīng)提高，特別是鏡面和高光高亮的模仁表面更不能存在斑點(diǎn)、微小顆粒、臟污等介質(zhì)的出現(xiàn)，因而對(duì)模仁清洗質(zhì)量提出更高要求。

非球面模仁在加工制作完成后或者精密模壓達(dá)到一定次數(shù)后，需要對(duì)模仁進(jìn)行清潔處理才能保證此后的運(yùn)用，現(xiàn)有的模仁清洗一般是用酒精對(duì)其表面進(jìn)行擦拭處理，然后將模仁直接浸沒(méi)到單槽超聲波機(jī)里清洗，這樣將導(dǎo)致水資源浪費(fèi)比較嚴(yán)重，清潔完成后需要花費(fèi)較長(zhǎng)時(shí)間用壓縮空氣吹干，且清洗的潔凈度和清洗效率不夠高，往往因?yàn)橛形⑿☆w粒雜質(zhì)、白點(diǎn)、水斑等粘黏物附著在模仁表面，影響模壓質(zhì)量，因此需要對(duì)清洗裝置和清洗工藝進(jìn)行優(yōu)化改造。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種清洗潔凈度高的光學(xué)成像非球面透鏡模仁清洗方法。

本發(fā)明還要提供一種用于上述清洗方法的裝置。

本發(fā)明解決技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：光學(xué)成像非球面透鏡模仁清洗方法，該方法包括以下步驟：

1)將待清洗的模仁表面預(yù)清潔，然后將模仁依次放入模仁裝夾盤上的模仁孔內(nèi)，再通過(guò)滑槽將模仁裝夾盤導(dǎo)入固定在支架上，然后將整個(gè)裝夾裝置通過(guò)定位槽固定在清洗上料架上，放置在多槽超聲波自動(dòng)清洗機(jī)入口；

2)控制系統(tǒng)控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動(dòng)進(jìn)入第一槽配制的洗劑里，將其溫度設(shè)置為25-40℃，最佳溫度設(shè)置為31±2℃，超聲波電流設(shè)置為1-5A，最佳電流設(shè)置為3.0A±0.1，清洗時(shí)間設(shè)置為2-10min，最佳時(shí)間設(shè)置為3-5min，通過(guò)第一槽的清洗，將模仁表面較大顆粒雜質(zhì)、白點(diǎn)、異物，腐蝕溶解掉；

3)控制系統(tǒng)控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動(dòng)進(jìn)入第二槽的軟水里，將其溫度設(shè)置為15-35℃，最佳溫度設(shè)置20±2℃，超聲波電流設(shè)置為1-5A，最佳電流設(shè)置為3.5A±0.1，清洗時(shí)間設(shè)置為2-10min，最佳時(shí)間設(shè)置為5-8min，通過(guò)第二槽的清洗，將模仁表面溶解物、臟污、化學(xué)試劑清洗掉；

4)控制系統(tǒng)控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動(dòng)進(jìn)入第三槽的純水里，將其溫度設(shè)置為15-35℃，最佳溫度設(shè)置20±2℃，超聲波電流設(shè)置為1-5A，最佳電流設(shè)置為3.5A±0.1，時(shí)間設(shè)置為2-10min，最佳時(shí)間設(shè)置為5-8min，通過(guò)第三槽的清洗，將模仁表面電解性物質(zhì)清洗掉；

5)控制系統(tǒng)控制固定有裝夾裝置的清洗上料架自動(dòng)進(jìn)入第四槽的IPA試劑里，將其溫度設(shè)置為15-35℃，最佳溫度設(shè)置25±2℃，超聲波電流設(shè)置為1-5A，最佳電流設(shè)置為2.0A±0.1，時(shí)間設(shè)置為2-10min，最佳時(shí)間設(shè)置為5-8min，通過(guò)第四槽的清洗，將模仁表面水分子稀釋掉，達(dá)到脫水效果；