[發明專利]基板處理裝置和空氣供給方法

在審

• 申請號: 202010919558.5
• 申請日: 2020-09-04
• 公開（公告）號: CN112485981A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 田島直樹
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/26
• 分類號: G03F7/26
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發明提供一種基板處理裝置和空氣供給方法。在具有多個處理單元的基板處理裝置中減少向各處理單元供給的清潔的空氣的溫度、濕度的單元間差異。一種基板處理裝置，其具有多個處理基板的處理單元，其中，該基板處理裝置具有向所述處理單元供給空氣的多個管道，在各所述管道具有連結該管道和空氣的供給源的連接管，所述多個管道連接有數量互不相同的所述處理單元，所述管道內的空氣的流速和經由所述連接管向所述管道供給的空氣的流速中的至少任一者在所述管道之間相等。

技術領域

本公開涉及一種基板處理裝置和空氣供給方法。

背景技術

在專利文獻1中公開有一種基板處理裝置，該基板處理裝置具有第1處理單元部和第2處理單元部在裝置正面側沿一方向并列設置而成的處理站。在第1處理單元部中，3層抗蝕劑涂敷處理單元和兩層形成防反射膜的底涂敷單元從下方依次疊置成5層，在第2處理單元部中，顯影處理單元疊置成5層。另外，在專利文獻1的基板處理裝置設置有兩根用于向各處理單元部供給來自設置到裝置外的空調機的清潔的空氣的管道。經由管道所供給的空氣被設置到處理站的上部的ULPA過濾器清潔化，以下降流向各處理單元供給。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-88485號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開的技術在具有多個處理單元的基板處理裝置中減少向各處理單元供給的清潔的空氣的溫度、濕度的單元間差異。

用于解決問題的方案

本公開的一形態是一種基板處理裝置，其具有多個處理基板的處理單元，其中，該基板處理裝置具有向所述處理單元供給空氣的多個管道，在各所述管道具有連結該管道和空氣的供給源的連接管，所述多個管道連接有數量互不相同的所述處理單元，所述管道內的空氣的流速和經由所述連接管向所述管道供給的空氣的流速中的至少任一者在所述管道之間相等。

發明的效果

根據本公開，能夠在具有多個處理單元的基板處理裝置中減少向各處理單元供給的清潔的空氣的溫度、濕度的單元間差異。

附圖說明

圖1是示意性地表示作為本實施方式的基板處理裝置的涂敷顯影裝置的結構的概略的俯視圖。

圖2是示意性地表示圖1的涂敷顯影裝置的內部結構的概略的縱剖主視圖。

圖3是示意性地表示圖1的涂敷顯影裝置的內部結構的概略的從正面側觀察的情形的圖。

圖4是示意性地表示圖1的涂敷顯影裝置的內部結構的概略的從背面側觀察的情形的圖。

圖5是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊的內部的立體圖。

圖6是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊的內部的俯視圖。

圖7是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊的上部的主視圖。

圖8是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊的上部的立體圖。

圖9是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊和承載模塊的下表面的立體圖。

圖10是局部地且概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊和承載模塊的下表面的仰視圖。

圖11是概略地表示圖1的涂敷顯影裝置的處理模塊的下部的立體圖。