[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010919096.7
• 申請(qǐng)日: 2020-09-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112063971B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳盛春;范曉君;袁建鋒;陳茂彬;黃欽亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南辰皓真空科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/22
• 分類號(hào): C23C14/22;H01L21/67
• 代理公司: 廣州海藻專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44386
• 代理人: 張大保

本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置，涉及半導(dǎo)體芯片鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，包括底座，所述底座內(nèi)部設(shè)置有液壓桿，且液壓桿頂部設(shè)置有貫穿底座頂部的提取引導(dǎo)塊。本發(fā)明通過(guò)提取滑車與液壓桿配合，使提取引導(dǎo)塊升起并利用斜面使頂柱路過(guò)時(shí)沿斜坡升起，從而通過(guò)托圈將鍍膜盤從鍍膜架頂部托取，快速完成鍍膜盤提取過(guò)程，從而通過(guò)簡(jiǎn)單有效的方式替換了現(xiàn)有的復(fù)雜轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械臂，使結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)便、易維護(hù)；并通過(guò)鍍膜架滑軌、鍍膜艙滑蓋及進(jìn)口翻蓋，使鍍膜艙前進(jìn)后出，完成鍍膜后的鍍膜盤通過(guò)鍍膜架運(yùn)輸至提取管道內(nèi)部，同時(shí)進(jìn)料機(jī)械臂通過(guò)進(jìn)口翻蓋將新鍍膜盤預(yù)備至鍍膜架復(fù)位處上方，待鍍膜架復(fù)位后即可完成進(jìn)料，降低空置率，從而極大地提高了效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體芯片無(wú)處不在，計(jì)算機(jī)、手機(jī)等幾乎所有的數(shù)字電器都離不開(kāi)半導(dǎo)體芯片，現(xiàn)代計(jì)算、交流、制造和交通系統(tǒng)，包括互聯(lián)網(wǎng)，全都依賴于半導(dǎo)體芯片的存在。

而鍍膜是半導(dǎo)體芯片制作中重要的一環(huán)，現(xiàn)在的鍍膜裝置多采用真空鍍膜工藝，現(xiàn)有技術(shù)中會(huì)使用機(jī)械臂配合真空鍍膜機(jī)進(jìn)行工作，但現(xiàn)有自動(dòng)化工藝需要通過(guò)機(jī)械臂先將真空鍍膜機(jī)內(nèi)部鍍膜盤取出，進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)后再通過(guò)機(jī)械臂將新的鍍膜盤放入其內(nèi)部，中間等待時(shí)間長(zhǎng)，空置率高，導(dǎo)致效率較低，且現(xiàn)有的轉(zhuǎn)運(yùn)裝置多采用機(jī)械臂配合傳送帶，機(jī)械臂結(jié)構(gòu)復(fù)雜，導(dǎo)致維護(hù)費(fèi)用高、成本高，維護(hù)起來(lái)較為復(fù)雜和昂貴。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于：為了解決現(xiàn)有半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置空置率偏高、轉(zhuǎn)運(yùn)裝置復(fù)雜的問(wèn)題，提供一種半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種半導(dǎo)體芯片鍍膜裝置，包括底座，所述底座內(nèi)部設(shè)置有液壓桿，且液壓桿頂部設(shè)置有貫穿底座頂部的提取引導(dǎo)塊，所述底座頂部設(shè)置有提取管道，所述提取管道內(nèi)部中間設(shè)置有一對(duì)引導(dǎo)齒桿，且一對(duì)引導(dǎo)齒桿外部滑動(dòng)套接有提取滑車，所述提取滑車內(nèi)部中間滑動(dòng)套接有與提取引導(dǎo)塊配合的頂柱，且頂柱貫穿至提取滑車頂部一端設(shè)置有與其配合的托圈，所述底座及提取管道一側(cè)設(shè)置有鍍膜艙底座，且鍍膜艙底座頂部設(shè)置有與提取管道連通的鍍膜艙，所述鍍膜艙內(nèi)部設(shè)置有一對(duì)鍍膜架滑軌，且一對(duì)鍍膜架滑軌之間滑動(dòng)連接有鍍膜架，所述鍍膜架頂部中間設(shè)置有鍍膜盤，所述鍍膜艙遠(yuǎn)離提取管道一端設(shè)置有進(jìn)口翻蓋，且鍍膜艙延伸至提取管道內(nèi)部一端旋轉(zhuǎn)連接有鍍膜艙滑蓋。

優(yōu)選地，一對(duì)所述引導(dǎo)齒桿相互靠近的一側(cè)皆設(shè)置有齒槽，所述提取滑車內(nèi)部設(shè)置有與齒槽配合的電力滾軸。

優(yōu)選地，所述鍍膜盤底部設(shè)置有與托圈契合的托圈槽，所述托圈外側(cè)設(shè)置有多組貫穿并連通至內(nèi)部的泄壓孔。

優(yōu)選地，所述鍍膜架中間設(shè)置有與托圈及頂柱配合的托取槽，且鍍膜架頂部中間位于托取槽兩側(cè)處設(shè)置有與鍍膜盤配合的盤槽。

優(yōu)選地，所述鍍膜艙頂部靠近進(jìn)口翻蓋一端設(shè)置有與其配合的翻蓋電力滾軸，鍍膜艙靠近鍍膜艙滑蓋一端上部設(shè)置有與其配合的滑蓋電力滾軸。

優(yōu)選地，所述鍍膜艙內(nèi)部設(shè)置有與鍍膜架配合的推送機(jī)組，且鍍膜艙內(nèi)部設(shè)置有真空鍍膜器。

優(yōu)選地，所述引導(dǎo)齒桿一端設(shè)置有外螺紋，且引導(dǎo)齒桿另一端設(shè)置有與外螺紋配合的內(nèi)螺紋。

優(yōu)選地，所述提取管道及底座皆設(shè)置有與額外的提取管道及底座相連接的連接桿件。

優(yōu)選地，所述底座頂部中間開(kāi)設(shè)有連通其內(nèi)部并與提取引導(dǎo)塊配合的提升孔，且提升孔內(nèi)壁設(shè)置有與提取引導(dǎo)塊配合的限位滑槽。